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正文內(nèi)容

20xx年申請中國發(fā)明專利須知-wenkub.com

2025-03-09 22:17 本頁面
   

【正文】
  對于材料配方類的發(fā)明,應(yīng)給出多個(gè)不同組分和配比的實(shí)施例,并簡述其制造方法
 ?。?br />  ,須3年左右收到專利局“授權(quán)通知書”。實(shí)施例中應(yīng)包括上述第三部分技術(shù)方案的全部內(nèi)容,并作具體的描述,每一幅附圖均應(yīng)說明,每一個(gè)有標(biāo)號的零件在實(shí)施例中至少提到一次。
  附圖說明:
  附圖應(yīng)按機(jī)械制圖標(biāo)準(zhǔn)繪制。
  對于電子類的發(fā)明創(chuàng)造,應(yīng)提供電路圖或框圖,并結(jié)合硬件說明其構(gòu)造特征。
 ?。?br />  發(fā)明創(chuàng)造名稱:
  名稱應(yīng)簡單、明確地反映發(fā)明創(chuàng)造的主題和類型,(不得超過25字)
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