【正文】 定權(quán)利要求的保護(hù)范圍是由權(quán)利要求中記載的技術(shù)特征集合作為一個(gè)整體限定的，因此每一項(xiàng)權(quán)利要求只允許在其結(jié)尾處使用句號(hào)，應(yīng)當(dāng)用數(shù)字順序編號(hào)。權(quán)利要求中使用的科技術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書中使用的一致，可以有化學(xué)式、化學(xué)反應(yīng)式或者數(shù)學(xué)式，但是不得有插圖和附圖。權(quán)利要求中不得使用“如說(shuō)明書??部分所述”或者“如圖??所示”等類似用語(yǔ)。當(dāng)發(fā)明涉及的某特定形狀僅能用圖形限定而無(wú)法用語(yǔ)言表達(dá)時(shí)，權(quán)利要求可以使用“如圖??所示”等類似用語(yǔ)。權(quán)利要求中通常不允許使用表格，除非使用表格能夠更清楚地說(shuō)明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Ｗo(hù)的主題。權(quán)利要求中的技術(shù)特征可以引用說(shuō)明書附圖中相應(yīng)的標(biāo)記，但是，這些標(biāo)記應(yīng)當(dāng)用括號(hào)括起來(lái)，放在相應(yīng)的技術(shù)特征后面。附圖標(biāo)記不得解釋為對(duì)權(quán)利要求保護(hù)范圍的限制。除此之外，權(quán)利要求中應(yīng)當(dāng)盡量避免使用括號(hào)。通常，一項(xiàng)權(quán)利要求用一個(gè)自然段表述。但是當(dāng)技術(shù)特征較多，內(nèi)容和相互關(guān)系較復(fù)雜，借助于標(biāo)點(diǎn)符號(hào)難以將其關(guān)系表達(dá)清楚時(shí)，一項(xiàng)權(quán)利要求也可以用分行或者分小段的方式描述。在得到說(shuō)明書支持的情況下，允許權(quán)利要求對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型作概括性的限定。通常，概括的方式有以下兩種：(1)用上位概念概括。例如，用“氣體激光器”概括氦氖激光器、氬離子激光器、一氧化碳激光器、二氧化碳激光器等。(2)用并列選擇法概括，即用“或者”或者“和”并列幾個(gè)必?fù)衿湟坏木唧w特征。例如，“特征A、B、C或者D”。又如，“由A、B、C和D組成的物質(zhì)組中選擇的一種物質(zhì)”等。采用并列選擇法概括時(shí)，被并列選擇概括的具體內(nèi)容應(yīng)當(dāng)是等效的，不得將上位概念概括的內(nèi)容，用“或者”并列在下位概念之后。另外，被并列選擇概括的概念，應(yīng)含義清楚。例如在“A、B、C、D或者類似物（設(shè)備、方法、物質(zhì)）”這一描述中，“類似物”這一概念含義是不清楚的，因而不能與具體的物或者方法（A、B、C、D）并列。獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫規(guī)定(1)前序部分：寫明要求保護(hù)的發(fā)明或者實(shí)用新型技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明或者實(shí)用新型主題與最接近的現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；(2)特征部分：使用“其特征是??”或者類似的用語(yǔ)，寫明發(fā)明或者實(shí)用新型區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征。不適于用上述方式撰寫的也可以不分部分。例如下列情況：(1)開拓性發(fā)明；(2)由幾個(gè)已知技術(shù)整體組合而成的發(fā)明，其發(fā)明要點(diǎn)在組合本身；(3)已知方法的改進(jìn)發(fā)明，其改進(jìn)之處在于省去某種物質(zhì)或者材料，或者是用一種物質(zhì)或者材料代替另一種物質(zhì)或材料，或者是省去某個(gè)步驟；(4)已知發(fā)明的改進(jìn)在于系統(tǒng)中部件的更換或者其相互關(guān)系上的變化。從屬權(quán)利要求的撰寫規(guī)定(1)引用部分：寫明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱；(2)限定部分：寫明發(fā)明或者實(shí)用新型附加的技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求只能引用在前的權(quán)利要求。引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求只能以擇一方式引用在前的權(quán)利要求，并不得作為被另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求引用的基礎(chǔ)。從屬權(quán)利要求的引用部分應(yīng)當(dāng)寫明引用的權(quán)利要求的編號(hào)，其后應(yīng)當(dāng)重述引用的權(quán)利要求的主題名稱。例如“根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬纖維拉拔裝置，??”。多項(xiàng)從屬權(quán)利要求引用的權(quán)利要求的編號(hào)應(yīng)當(dāng)用“或”等擇一引用方式表達(dá)。例如：“根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的??”；“根據(jù)權(quán)利要6或8所述的??”；或者“根據(jù)權(quán)利要求4至9中任一權(quán)利要求所述的??”。從屬權(quán)利要求的限定部分不僅可以進(jìn)一步限定在前的獨(dú)立權(quán)利要求特征部分中的特征，也可以進(jìn)一步限定前序部分中的特征。直接或間接從屬于某一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求的所有從屬權(quán)利要求都應(yīng)當(dāng)寫在該獨(dú)立權(quán)利要求之后，另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求之前。第四篇：專利申請(qǐng)?jiān)鯓幼珜憴?quán)利要求書怎樣撰寫權(quán)利要求書權(quán)利要求書是申請(qǐng)文件最核心的部分，是申請(qǐng)人向國(guó)家申請(qǐng)保護(hù)他的發(fā)明創(chuàng)造及劃定保護(hù)范圍的文件，一旦批準(zhǔn)，就具有法律效力。因此，撰寫好權(quán)利要求書直接涉及申請(qǐng)人的利益，十分重要。（1）權(quán)利要求書的一般要求、清楚、完整地列出說(shuō)明書中所描述的所有新的技術(shù)特點(diǎn)。否則，就會(huì)縮小專利保護(hù)范圍。說(shuō)明書中沒有涉及到的內(nèi)容，也就不能寫入權(quán)利要求，因?yàn)橐蟊Ｗo(hù)的范圍必須得到說(shuō)明書的支持。、術(shù)語(yǔ)應(yīng)與說(shuō)明書中一致。權(quán)利要求書中可以有化學(xué)式、數(shù)學(xué)式，但不能有插圖。除有絕對(duì)必要，不得引用說(shuō)明書和附圖，即不得用“說(shuō)明書中所述的?”“或如圖三所示的??”方式撰寫權(quán)利要求書。為了表達(dá)清楚，權(quán)利要求書可以引用設(shè)備部件名稱和附圖標(biāo)記。，中間可以有逗號(hào)、頓號(hào)，不能有分號(hào)和句號(hào)。以強(qiáng)調(diào)其意思不可分割的單一性和獨(dú)立性。，不允許陳述發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷哪康?、。?dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷闹饕夹g(shù)內(nèi)容，包括全部的必要技術(shù)特征，它本身可以獨(dú)立存在。從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或引用包括獨(dú)立權(quán)利要求在內(nèi)的幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征，又含有若干新的技術(shù)特征的權(quán)利要求，從屬權(quán)利要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思，符合合案申請(qǐng)要求的發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠暾?qǐng)，可以有兩項(xiàng)以上的獨(dú)立權(quán)利要求。每一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求可以有若干個(gè)從屬權(quán)利要求。有多項(xiàng)權(quán)利要求的應(yīng)當(dāng)甩阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。編號(hào)時(shí)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)排在前面，它的從屬權(quán)利要求緊隨排在后面。（2）權(quán)利要求書的寫法，可以直接書寫第 1 項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求，它的從屬權(quán)利要求從上往下順序排列。有兩項(xiàng)以上獨(dú)立權(quán)利要求的，則各自的從屬權(quán)利要求應(yīng)分別寫在各獨(dú)立權(quán)利要求之后。：前序部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Ｗo(hù)的主題名稱和該項(xiàng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；特征部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征，這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容，這部分應(yīng)緊接前序部分，用“其特征是??”或者類似用語(yǔ)與上文聯(lián)接。前序部分和特征部分共同限定發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷谋Ｗo(hù)范圍。：引用部分：寫明被引用的權(quán)利要求的編號(hào)及發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭黝}名稱。例如：“根據(jù)權(quán)利要求1所述?”。限定部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦透郊拥募夹g(shù)特征，它是獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充，以及對(duì)引用部分的技術(shù)特征作進(jìn)一步的限定。也應(yīng)當(dāng)以“其特征是??”連接上文。從屬權(quán)利要求的引用部分，只能引用排列在前的權(quán)利要求。同時(shí)引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求時(shí)，只允許使用“或”連接。例如：“根 據(jù)權(quán)利要求1或2所述的?”。這樣的權(quán)利要求稱為多項(xiàng)權(quán)利要求。一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求不能作為另一項(xiàng)多重從屬權(quán)利要求的引用對(duì)象。，因而可能存在兩項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求。這時(shí)應(yīng)當(dāng)確定一項(xiàng)為主要的，作為第一項(xiàng)權(quán)利要求，另一項(xiàng)排在后面成為與第一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求平行的、有獨(dú)立的法律意義的權(quán)利要求。例如：一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明和制造該產(chǎn)品的方法發(fā)明可以合案申請(qǐng)，這時(shí)一般把產(chǎn)品作為第一獨(dú)立權(quán)利要求，把方法作為第二獨(dú)立權(quán)利要求。（3）權(quán)利要求書撰寫中常見的錯(cuò)誤，這是初寫者常出現(xiàn)的錯(cuò)誤。一般情況下，產(chǎn)品必須用結(jié)構(gòu)式權(quán)利要求，方法必須用步驟或條件式權(quán)利要求，不能采用功能或混合式，這種寫法容易超出說(shuō)明書范圍，擴(kuò)大了保護(hù)范圍。，沒有前序部分和特征部分之分。實(shí)質(zhì)是沒有劃清與現(xiàn)有技術(shù)的界限。，有多個(gè)前序部分和多個(gè)特征部分，這種情況是沒有弄清撰寫要求。一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求只能有一個(gè)前序部分和一個(gè)特征部分。，或者是其中引用部分的“引證”有錯(cuò)誤。、不明確的詞匯。如“等等”、“高”、“強(qiáng)”、“弱”、“性能好”、“最好是”等等。即在權(quán)利要求書中寫的技術(shù)特征，在說(shuō)明書中無(wú)相應(yīng)的文字記載，或是沒有清楚、完整的說(shuō)明。（4）撰寫好權(quán)利要求書的一般方法。分析內(nèi)容包括是屬于產(chǎn)品發(fā)明還是方法發(fā)明，對(duì)實(shí)用新型只能是產(chǎn)品發(fā)明，確定技術(shù)領(lǐng)域，研究技術(shù)方案，分析技術(shù)特征。最重要的是把技術(shù)解決方案和全部技術(shù)特征分析透。，特別是申請(qǐng)發(fā)明專利一定要查新，查是否存在同樣發(fā)明，是否具有先進(jìn)性。，特別是與本發(fā)明或?qū)嵱眯滦拖嚓P(guān)的技術(shù)特征尤其要注意分析。，反復(fù)比較，同一發(fā)明可能寫出多種權(quán)利要求書，但要達(dá)到既符合法津要求，又能恰到好處地保護(hù)申請(qǐng)人的利益是很不容易的。多寫幾個(gè)方案，有利于在反復(fù)比較過(guò)程中，確定一種正確合理的方案。最后，相確定的權(quán)利要求書與寫好的說(shuō)明書相比較，仔細(xì)檢查兩者的關(guān)系，這一點(diǎn)對(duì)初寫者尤為重要。第五篇：試電筆專利申請(qǐng)文件范本權(quán)利要求書權(quán)利要求書（示例），在絕緣外殼中，測(cè)試觸頭、限流電阻、氖管和手觸電極順序連接，其特征是測(cè)試觸頭與一個(gè)分流電阻一端電連接，分流電阻另一端與一個(gè)人體可接觸的識(shí)別電極電連接。(一項(xiàng)實(shí)用新型只有一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)寫明實(shí)用新型的全部必要技術(shù)特征，其中已知技術(shù)特征寫入前序部分，區(qū)別技術(shù)特征寫在“其特征是”之后，構(gòu)成特征部分)，其特征是：分流電阻與限流電阻是一個(gè)一體的同心電阻，同心電阻中間圓柱部分為限流電阻，其外部圓管部分為分流電阻，圓柱部分高于圓管部分，識(shí)別電極為環(huán)狀彈性金屬片，其邊緣的中心伸出的接觸爪卡住圓管狀分流電阻外表面，其外邊緣伸出并附于絕緣外殼外表面。，其特征是分流電阻與限流電阻平行設(shè)置，其間為絕緣隔離層。(從屬權(quán)利要求，即權(quán)利要求3，進(jìn)一步限定在前的權(quán)利要求的技術(shù)特征，其引用部分應(yīng)寫明所引用的權(quán)利要編號(hào)，在“其特征”之后的特征部分應(yīng)寫明對(duì)所引用的權(quán)利要求的特征進(jìn)行限定的附加特征)(權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)符合專利法第二十六條第四款和實(shí)施細(xì)則第二十條至二十三條規(guī)定，以說(shuō)明書內(nèi)容為依據(jù)，正面、直觀地寫明要求專利保護(hù)的實(shí)用新型的形狀、構(gòu)造特征；不得寫入方法、用途及不屬實(shí)用新型專利保護(hù)的內(nèi)容；應(yīng)使用確定的通用技術(shù)用語(yǔ)，不得使用技術(shù)概念模糊的用語(yǔ)，如“等”、“大約”、“左右”……，不應(yīng)采用“參見說(shuō)明書(附圖)”寫法，每項(xiàng)權(quán)利要求只用一個(gè)句號(hào)。)