給水和爐水處理ppt課件-資料下載頁
2025-05-03 01:49本頁面
【正文】 2O3 ）引起爐管腐蝕，其反應(yīng)式為： 2Fe2+ + 1/2O2 + 8Cl + H2O → 2 〔 FeCl4〕 + 2OH 而蒸汽中的氯離子會引起汽輪機(jī)應(yīng)力腐蝕破壞，因此在超高壓及以上鍋爐爐水均對氯離子做了規(guī)定。 常規(guī)磷酸鹽處理爐水控制標(biāo)準(zhǔn)及各指標(biāo)的來源依據(jù) 2 4）磷酸根 磷酸鹽的加入量要兼顧中和爐水中的硬度和維持爐水 pH值的雙重作用。 5） pH值 主要考慮鍋爐運(yùn)行過程中的防腐要求，通常下限不得低于 。 6）電導(dǎo)率 控制有兩個(gè)作用，一是控制爐水中的雜質(zhì)不能過度濃縮以免引起腐蝕，二是控制磷酸鹽的加藥量不能太高以免引起磷酸鹽的隱藏。 2. 低磷酸鹽處理爐水控制標(biāo)準(zhǔn)及各指標(biāo)的來源依據(jù) 1) 此處理方式適用汽包壓力在 ～ 的鍋爐。 2）二氧化硅 同 PT處理。 3）氯離子 同 PT處理。 4）磷酸根 一般不允許給水有硬度成分。 5） pH值 主要考慮鍋爐運(yùn)行過程中的防腐要求，通常下限不得低于 。 6）電導(dǎo)率：控制有兩個(gè)作用，一是避免爐水中的雜質(zhì)過度濃縮引起腐蝕，二是控制磷酸鹽的加藥量不能太高以免引起磷酸鹽隱藏。 1 1） pH 標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定 pH值的下限為 ，比磷酸鹽處理高 ，主要是考慮爐水的緩沖性弱。 2）電導(dǎo)率 控制電導(dǎo)率有兩個(gè)作用，一是可防止加藥過量，爐水每增加 1mg/L氫氧化鈉可使電導(dǎo)率增加約 3?S/cm。二是適當(dāng)控制爐水含鹽量，防止因濃縮引起腐蝕。大致可以這樣認(rèn)為，鍋爐加藥和雜質(zhì)在爐水中濃縮產(chǎn)生的電導(dǎo)率各占一半。 3）氫電導(dǎo)率 控制氫電導(dǎo)率可以間接控制陰離子(尤其是強(qiáng)酸陰離子 ) 的含量。 CT處理各指標(biāo)的來源依據(jù) 2 4） NaOH 控制氫氧化鈉濃度的上限，其目的是在保證爐水堿度的前提下，防止過量氫氧化鈉可能帶來的堿腐蝕或在高熱負(fù)荷區(qū)濃縮引起苛性脆化。 5）氯離子是破壞金屬表面氧化膜，引起腐蝕的主要陰離子，應(yīng)加以控制。 第八節(jié) 給水與爐水處理的加藥 ? ? 應(yīng)沿汽包軸向水平布置，比連續(xù)排污管低 100～ 200mm，藥液從其中部引入，出藥孔應(yīng)沿汽包長度方向水平或朝下開口均勻布置。 2. 加藥方式 ? 從運(yùn)行方式分，有間斷加藥和連續(xù)加藥 ? 從加藥壓力分，有高壓加藥與低壓加藥 ? 從控制方式分，有電導(dǎo)式控制加藥和電極式控制加藥 ? 配藥用水 ? 藥品純度 ? （ 1） 排污目的 ? 在鍋爐運(yùn)行中 ， 經(jīng)常排放一部分雜質(zhì)含量大的爐水 ， 并補(bǔ)充相同數(shù)量雜質(zhì)含量小的給水 ， 使?fàn)t水中的各種雜質(zhì)含量維持在允許值以下 ， 從而保證飽和蒸汽的純度 。 ? （ 2） 排污方式 ? 1）連續(xù)排污是從汽包中連續(xù)排放一部分高濃度的爐水，對任何汽包鍋爐必須有連續(xù)排污裝置。 ? 2）定期排污是按一定時(shí)間 (如 1天、 1周等 ) 從爐水循環(huán)的最低點(diǎn)排出氧化鐵等腐蝕產(chǎn)物的沉渣。一般在低負(fù)荷時(shí)進(jìn)行，可達(dá)到節(jié)水、節(jié)能且排出隱藏的鹽類。 ? 汽水系統(tǒng)的腐蝕查定是通過對全廠各種汽、水的 Cu、 Fe含量，以及與 Cu、 Fe有關(guān)項(xiàng)目（ pH、 CO NH O2等）的全面查定試驗(yàn)，找出汽水系統(tǒng)中的腐蝕產(chǎn)物的分布情況，了解其發(fā)生的原因，從而針對問題采取措施，以減緩和消除汽、水系統(tǒng)中的腐蝕。系統(tǒng)查定可分為定期查定和不定期查定。 第九節(jié) 蒸汽系統(tǒng)的積鹽 ? ? (1) 給水水質(zhì) 現(xiàn)代大型鍋爐都是通過噴鍋爐給水來控制過熱蒸汽的溫度（占給水流量的 3～5%）。因此，若給水水質(zhì)差，給水在過熱蒸汽中被完全蒸干的過程中，鹽類就可能析出。 （ 2） 機(jī)械攜帶 ? 汽水分離效果差，產(chǎn)生機(jī)械攜帶，引起過熱蒸汽品質(zhì)差。 機(jī)械攜帶量除與汽水分離裝置分離效果有關(guān)外，還與汽包水位、鍋爐負(fù)荷及變化、爐水含鹽量等因素有關(guān)。 （ 3） 溶解攜帶 ? 超高壓及以下等級鍋爐，對于鈉鹽以機(jī)械攜帶為主，對于 SiO2溶解攜帶和機(jī)械攜帶都有，只是隨壓力增高溶解攜帶的比例增大。 ? 對于亞臨界汽包爐，幾乎所有雜質(zhì)都以溶解攜帶為主，其攜帶量與爐水中該雜質(zhì)的濃度成正比。隨壓力的增大，溶解攜帶量增大。 ? （ 1）保證給水質(zhì)量； ? （ 2）使鍋爐處于最佳運(yùn)行工況（指合適的汽包水位、爐水含鹽量、爐水排污量，在最高允許負(fù)荷下運(yùn)行），減少雜質(zhì)的機(jī)械攜帶； ? （ 3)適當(dāng)?shù)腻仩t排污；主要目的通過降低爐水含鹽量從而降低蒸汽含鹽量。 ? （ 4）根據(jù)鍋爐運(yùn)行特性和給水水質(zhì)選用合理的爐水處理方式。 pH對硅酸溶解攜帶的影響 ? 爐水中一部分為溶解態(tài)的硅酸鹽，另一部分為硅酸。 ? 硅化合物的溶解攜帶與蒸汽壓力和爐水中硅化合物的存在形態(tài)有關(guān)，蒸汽主要溶解攜帶溶解態(tài)的硅酸，對硅酸鹽的溶解能力很小。 ? 爐水 pH值對硅酸溶解攜帶的影響。 謝謝 !
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