金屬表面處理工藝ppt課件-資料下載頁
2025-01-15 15:07本頁面
【正文】 積 是指在真空條件下，用物理的方法， 使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。 ? 物理沉積技術(shù)主要包括 真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。 磁控濺射鍍膜設(shè)備 ? 真空蒸鍍 是蒸發(fā)成膜材料使其汽化或升華沉積到工件表面形成薄膜的方法。 真空蒸鍍 TiN活塞環(huán) 真空蒸鍍Al膜的塑料制品 ? 濺射鍍 是在真空下通過輝光放電來電離氬氣，氬離子在電場作用下加速轟擊陰極，濺射下來的粒子沉積到工件表面成膜的方法。 濺射鍍示意圖 磁控濺射鍍膜機(jī) 磁控濺射鍍 Al的塑料制品 ? 離子鍍 是在真空下利用氣體放電技術(shù)，將蒸發(fā)的原子部分電離成離子，與同時(shí)產(chǎn)生的大量高能中性粒 子一起沉積到工件表面成膜的方法。 多弧離子鍍膜機(jī) ? 物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、針孔少等優(yōu)點(diǎn)。 ? 廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。 離子鍍產(chǎn)品 ? ② 化學(xué)氣相沉積 (CVD) ? 化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體 CVD設(shè)備 表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。 例如，氣態(tài)的 TiCl4與 N2和 H2在受熱鋼的表面反應(yīng)生成 TiN，并沉積在鋼的表面形成耐磨抗蝕的沉積層。 由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機(jī)械制造、航空航天、交通運(yùn)輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。 經(jīng) CVD處理的模具 經(jīng) CVD處理的活塞環(huán) 非金屬覆層 ? 根據(jù)不同目的，在金屬表面涂覆各種非金屬覆層，如氧化膜、防銹涂料、塑料、橡膠、陶瓷等。 ? 氧化（發(fā)藍(lán)） ? 磷化 四、熱處理的工藝性 ? 熱處理時(shí)機(jī)的確定 ： 預(yù)備熱處理一般安排在毛坯生產(chǎn)之后，切 削加工之前 正火和退火：消除熱加工時(shí)毛坯的內(nèi)應(yīng)力、 細(xì)化晶粒、調(diào)整組織、改善切削加工性 調(diào)質(zhì)：提高零件綜合性能，為最終熱處理 做組織上的準(zhǔn)備 最終熱處理（淬火 +回火或化學(xué)熱處理）： 一般放在半精加工之后，磨削加工之前。 ? 熱處理工藝對零件結(jié)構(gòu)的要求
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