8專利權(quán)利要求書寫作要求(編輯修改稿)
2025-09-26 23:54 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 詳細(xì)出處。 2）客觀地指出背景技術(shù)中存在的問題和缺陷，主要指出相對于本發(fā)明創(chuàng)造而言現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，從技術(shù)角度簡要分析，而不只是下結(jié)論。 發(fā)明內(nèi)容 1）針對背景技術(shù)中存在的問題，簡明、客觀地說明本專利所要解決的技術(shù)問題。 2）寫明本發(fā)明創(chuàng)造中為了解決上述技術(shù)問題所采用的發(fā)明構(gòu)思和具體的技術(shù)解決方案。 3）客觀地記載本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的有益效果，包括技術(shù)效果、及預(yù)期的經(jīng)濟(jì)效果。同樣，需從技術(shù)角度分析，而不是下結(jié)論。 附圖說明 對于發(fā)明專利申請而言，若有附圖的，需提供附圖并結(jié)合附圖對發(fā)明
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