表面處理工藝基礎(編輯修改稿)
2025-03-02 09:25 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 加工箱體類零件。 (2)立式加工中心：是指主軸軸線與工作臺垂直設置的加工中心，主要適用于加工板類、盤類、模具及小型殼體類復雜零件。 (3)萬能加工中心 (又稱多軸聯(lián)動型加工中心 )：是指通過加工主軸軸線與工作臺回轉軸線的角度可控制聯(lián)動變化，完成復雜空間曲面加工的加工中心。適用于具有復雜空間曲面的葉輪轉子、模具、刃具等工件的加工。 2023/3/3 24 線切割是一種電加工機床 ,靠鉬絲通過電腐蝕切割金屬 (特別是硬材料、行狀復雜零件）。 電火花線切割加工（ Wire cut Electrical Discharge Machining，簡稱WEDM），又稱線切割。其基本工作原理是利用連續(xù)移動的細金屬絲（稱為電極絲）作電極，對工件進行脈沖火花放電蝕除金屬、切割成型。它主要用于加工各種形狀復雜和精密細小的工件，例如沖裁模的凸模、凹模、凸凹模、固定板、卸料板等，成形刀具、樣板、電火花成型加工用的金屬電極，各種微細孔槽、窄縫、任意曲線等，具有加工余量小、加工精度高、生產(chǎn)周期短、制造成本低等突出優(yōu)點，已在生產(chǎn)中獲得廣泛的應用。 線切割 2023/3/3 25 根據(jù)電極絲的運行速度不同，及加工質(zhì)量不同，電火花線切割機床通常分為三類：第一類是高速走絲電火花線切割機床（ WEDMHS），其電極絲作高速往復運動，一般走絲速度為 8～ 10m/s，電極絲可重復使用，加工速度較高，但快速走絲容易造成電極絲抖動和反向時停頓，使加工質(zhì)量下降，是我國生產(chǎn)和使用的主要機種，也是我國獨創(chuàng)的電火花線切割加工模式；第二類是低速走絲電火花線切割機床（ WEDMLS），其電極絲作低速單向運動，一般走絲速度低于 ，電極絲放電后不再使用，工作平穩(wěn)、均勻、抖動小、加工質(zhì)量較好，但加工速度較低，是國外生產(chǎn)和使用的主要機種。第三類中速走絲電火花線切割機床，準確地應該叫“多速走絲”。是我國獨創(chuàng)的，其原理是對工件作多次反復的切割，開頭用較快絲筒速度、較強高頻來切割，就如現(xiàn)在的快走絲線切割，最后一刀用較慢絲筒速度、較弱高頻電流來修光，從而提高了加工光潔度；而且絲速減低后，導輪和軸承的抖動少了，加工精度也提高了； 2023/3/3 26 電 鍍 2023/3/3 27 水鍍 最常見的電鍍方式，是一個電化學的過程，利用正負電極，加以電流在鍍槽中進行，鍍金，鍍銀，鍍鎳，鍍鉻，鍍鎘等，電鍍液污染很大。水鍍還要分為電鍍和化學鍍兩種，電鍍一般作為裝飾性表面，因為有高亮度，化學鍍的表面比較灰暗，一般作為防腐蝕涂層。水鍍的工藝主要由前處理和電鍍兩部分組成。前處理的功能是將原本不導電的塑膠材質(zhì)變成導電的塑膠材質(zhì)。 水鍍的前處理工藝流程： 塑膠殼 → 掛釣 → 整面脫脂（去除表面油污） → 水洗 → 表面粗化 → 水洗 → 回收 → 水洗 → 中和除去及還原表面鉻酸 → 水洗 → 敏化吸著 PDSV錯化物 → 水洗 → 除錫使 PD活化 → 水洗 → 化學鎳 → 水洗 → 完成 2023/3/3 28 真空蒸鍍 真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法 ,鍍層厚度為 。 加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。 在對樹脂實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，有必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。 真空蒸鍍的流程： ：用丙酮或酒精進行清洗塑件。 ：用電暈放電處理，紫外線照射處理等 2023/3/3 29 3. 底面涂布 /硬化處理：為了得到精美的蒸鍍膜，有時必須進行底面涂布處理。進行底面涂布處理可以得到以下的效果 A 改善樹脂與蒸鍍膜之間的密接性 B 將成形品表面的微小凹凸部分填平，以獲得如鏡面一樣的表面 無論是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時，都必須進行底面涂布處理。本公司的產(chǎn)品中 Fortron與金屬膜的密接性較高，若不需要制品的表面如鏡面一樣時，則可省去底面涂布處理。（這時，蒸鍍表面會依存于成形品的表面）底面涂布工藝基本與涂布工藝相似。如一般的涂料一樣，可以使用噴槍進行噴涂。 : 蒸鍍用金屬為 Al、金等 /硬化處理 : 由真空蒸鍍所產(chǎn)生的金屬薄膜相當?shù)谋。瑸榱死猛饨绲幕瘜W、物理等性能，以達到保護蒸鍍膜的目的，有時需要實施表面涂布處理 (或過量涂布 )。表面涂布就是使用人們所說透明的涂料，與底面涂布一樣，采用與涂布相同的工藝進行涂布、固化。 2023/3/3 30 濺鍍 濺鍍原理 : 主要利用輝光放電 (glow discharge)將氬氣 (Ar)離子撞擊靶材 (target)表面 , 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。 濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好 ,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化 , 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加 , 提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍 ,而不導電的陶磁材料則使用 RF交流濺鍍 ,基本的原理是在真空中利用輝光放電 (glow discharge)將氬氣 (Ar)離子撞擊靶材 (target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的
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