【文章內(nèi)容簡介】 箱內(nèi)烘干至恒重，即每隔 24h 的 兩次 連續(xù) 質(zhì)量之差小于 %。記錄每塊干磚的質(zhì)量（ m1）。 （ 3）浸水飽和 1）磚冷卻至環(huán)境溫度后，將磚垂直地放在真空干燥箱內(nèi)，磚與磚、磚與干燥箱互不接觸。真空干燥箱連接真空泵抽真空，抽到壓力低于40kPa177。 。 在壓力下保持把水引入裝有磚的真空干燥箱內(nèi)浸沒，并至少高出磚 50mm，在相同壓力下維持15min，然后恢復到大氣壓力。 將一塊浸濕過的麂皮用手擰干，并將麂皮放在平臺上輕輕地依次擦干每塊磚的表面，記錄每塊濕磚的質(zhì)量 m2。 2）初始吸水率 E1用質(zhì)量百分比表示，由下式求得： 式中 m1—— 每塊干磚的質(zhì)量， g； m2—— 每塊濕磚的質(zhì)量， g。 最終吸水率 E2： 式中 m3—— 試驗后每塊濕磚的質(zhì)量， g； m4—— 試驗后每塊干磚的質(zhì)量， g。 ? 1001121 ???mmmE1004432 ???mmmE? 步驟 (1)在試驗時選擇一塊最厚的磚，該磚應視為對試樣具有代表性。在磚一邊的中心鉆一個直徑為 3mm的孔，該孔距磚邊最大距離為 40mm，在孔中插入一支熱電偶，并用一小片隔熱材料（例如多孔聚苯乙烯）密封孔。如果用這種方法不能鉆孔，可把一支熱電偶放在一塊磚的一個面的中心，用另一塊磚附在這個上面。 在冷凍機內(nèi)欲測的磚垂直地放在支撐架上，用這一方法使得空氣通過每塊磚之間的空隙流過所有表面。 把裝有熱電偶的磚放在試樣中間，熱電偶的溫度定為試驗時所有磚的溫度。每次測量溫度應精確到177。 ℃ 。 (2)以不超過 20℃/h 的速率使磚降溫到 5℃ 以下，并在該溫度下保持 15min。磚浸于水中或噴水直到溫度達到 5℃ 以上，并在該溫度下保持 15min。 (3)重復上述循環(huán) 至少 100次 。如果將磚保持浸沒在 5℃ 以上的水中，則此循環(huán)可中斷。稱量試驗后的磚質(zhì)量（ m3），再將其烘干的試樣稱出質(zhì)量（ m4）。求出最終吸水率 E2 。 (4)100次循環(huán)后，在距離 25～ 30cm、大約 300lx的光照條件下，用肉眼檢查磚的釉面、正面和邊緣。如果通常戴眼鏡者可以戴眼鏡檢查。 在試驗早期，如果有理由確信磚已遭損壞，可在試驗中間階段檢查并及時作記錄。記錄所有觀察到磚的釉面、正面和邊緣的損壞情況。 抗熱震性的測定 ? 檢測依據(jù)及原理 (1)檢測依據(jù)： GB/《 陶瓷磚試驗方法第 9部分：抗熱震性的測定 》 。 (2)原理：通過試樣在 15℃ 和 145℃ 之間的 10次循環(huán)來測定整磚的抗熱震性。 ? 設備 (1)可保持 15177。 5℃ 流動水的低溫水槽。 (2)工作溫度為 145℃ 到 150℃ 的烘箱。 （ 3）照度計及光源 抗熱震性的測定 ? 材料：鋁粒、亞甲基藍 ? 試樣 最少用 5塊整磚進行試驗。對于超大的磚(即邊長大于 400 mm的磚 )，有必要進行切割，切割盡可能大的尺寸，其中心應與原中心一致。在有疑問時，用整磚比用切割過的磚測定的結果準確。 抗熱震性的測定 鋁粒 亞甲基藍溶液 數(shù)字照度計 抗熱震性的測定 ? 步驟 (1)試樣的初步檢查：首先用肉眼（平常戴眼鏡的可戴上眼鏡）在距磚 2530cm，光源照度約 300lx的光照條件下觀察磚面。所有試樣在試驗前應沒有缺陷?？捎?亞甲基藍溶液 對待測試樣進行測定前的檢驗。 (2)浸沒試驗 ： 吸水率不大于 10%（質(zhì)量分數(shù)）的磚，垂直浸沒在 15177。 5℃ 的 冷水中 ，并使它們互不接觸。 (3) 非浸沒試驗 ： 吸水率大于 10%（質(zhì)量分數(shù)）的有釉磚，使其 釉面向下 與 15177。 5℃ 的冷水槽上的 鋁粒 接觸。（鋁粒直徑 ，鋁粒層厚約 5mm） 抗熱震性的測定 (4)對上述兩項步驟，在 低溫下保持 5min后，立即將試樣移至 145177。 5℃ 的烘箱內(nèi)重新達到此溫度后保溫 20min，然后立即將它們移回低溫環(huán)境中。 (5)重復此過程 10次循環(huán) 。 (6)用肉眼（平常戴眼鏡的可戴上眼鏡）， 在距試樣 25cm到 30cm，光源照度約 300lx的條件下觀察試樣的可見缺陷 。為幫助檢查，可將合適的染色溶液（如含有少量濕潤劑的 1%亞甲基藍溶液 ）刷在試樣的釉面上， 1min后，用濕布抹去染色液體。 抗釉裂性的測定 ? 檢測依據(jù)及定義 （ 1）檢測依據(jù)： GB/《 陶瓷磚試驗方法第 11部分：有釉磚抗抗釉裂性的測定 》 。 （ 2）釉裂：呈細發(fā)絲狀的裂紋，僅限于磚的釉面。 ? 原理 抗釉裂性是使整磚在蒸壓釜中承受高壓蒸汽的作用，然后使釉面染色來觀察磚的釉裂情況。 ? 設備 :蒸壓釜、高溫箱（爐）、照度計及光源。 ? 試樣 (1)至少取 5塊整磚 進行試驗。 (2)對于大尺寸磚，為能裝入蒸壓釜中，可進行切割，但對所有切割片都應進行試驗。切割片應盡可能的大。 抗釉裂性的測定 抗釉裂蒸壓釜 高溫爐 亞甲基藍溶液 數(shù)字照度計 抗釉裂性的測定 ? 步驟 （ 1)首先用肉眼 (平常戴眼鏡的可戴上眼鏡 )，在 300lx的光照條件下距試樣 25cm30cm處觀察磚面的可見缺陷，所有試樣在試驗前都不應有釉裂。可用亞甲基藍溶液作釉裂檢驗。 除了剛出窯的磚，作為質(zhì)量保證的常規(guī)檢驗外，其他試驗用磚應在 500℃ 士 15℃ 的溫度下重燒，但升溫速率不得大于 150℃/h ，保溫時間不少于 2h。 (2)將試樣放在蒸壓釜內(nèi)，試樣之間應有空隙。使蒸壓釜中的壓力逐漸升高， 1h內(nèi)達到 500kPa士 20kPa,159℃士 1℃ ， 并保持壓力 2h。然后關閉汽源，對于直接加熱式蒸壓釜則停止加熱，使壓力盡可能快地降低到試驗室大氣壓，在蒸壓釜中冷卻試樣 。將試樣移出到試驗室大氣中，單獨放在平臺上，繼續(xù)冷卻 。 抗釉裂性的測定 ? 步驟 (3)在試樣釉面上涂刷適宜的染色液，如含有少量潤濕劑的 1%亞甲基藍溶液。 1min后用濕布擦去染色液。 (4)檢查試樣的釉裂情況，注意區(qū)分釉裂與劃痕及可忽略的裂紋。 ? 釉裂示意圖 拋光磚光澤度 ? 檢測依據(jù)、定義 （ 1）檢測依據(jù)： GB/T138912023《 建筑飾面材料鏡向光澤度測定方法 》 。 （ 2）光澤度：用數(shù)字表示的物體表面接近鏡面的程度。 （ 3）鏡向光澤度：在規(guī)定的光源和接收角的條件下，從物體鏡向方向的反射光通量與折射率為 玻璃上鏡向方向的反射光通量的比值。 ? 設備 （ 1）光澤計：由光源、透鏡、接收器和顯示儀表組成； （ 2）標準板：包括基準板、工作板、零標準板； （ 3）鋼板尺：最小刻度為 。 拋光磚光澤度 ? 試樣 (1)試樣表面應平整、光滑、無翹曲、波紋、突起等外觀缺陷。 (2)試樣表面應潔凈、干燥、無附著物。 (3)每組試樣的數(shù)量為 5塊。 (4)試樣規(guī)格和測點見下表 拋光磚光澤度 ? 步驟 （ 1）儀器校正： ①儀器準備：在每一個操作周期的開始和在操作過程中應有足夠的頻次對儀器進行校準；以保證其正常工作。 ②零點核對：在光澤度計開機穩(wěn)定后，使用零標準板檢查，調(diào)節(jié)零點。若無調(diào)零裝置，則使用零標準板檢查零點。如果讀數(shù)不在 0177。 ，在以后的讀數(shù)中要減去偏移數(shù)。 拋光磚光澤度 ③校準：經(jīng)計量檢定合格的光澤度計，在每次使用前，必須用光澤計所附的工作板進行檢查。將光澤度計預熱，調(diào)好零位。按光澤度計所附的高光澤板的光澤度設定示值。測量光澤度計所附的中或低光澤板，可得示值的變量，其值不超過 1光澤單位，方可使用；否則光澤度計及其所附的工作板須送檢。 （ 2）對光澤計進行檢查符合標準后，按圖所示的測定位置進行測定。 （ 3）陶瓷磚規(guī)格 不大于（ 600 600） mm的試樣， 五個測點 ，即板材（磚）中心與四角定四個測點，見圖 a。規(guī)格 大于（ 600 600） mm的試樣， 九個測點 ，即四周邊三個測點 , 見圖 b。 （ 4）在每組試樣測量中應該 保持相同的幾何角度 。 拋光磚光澤度 （ 5）各種建筑飾面材料測定鏡向光澤的 發(fā)射器入射角均采用 60176。 。 當材料測定的鏡向 光澤度大于 70光澤單位 時，為提高其分辨程度， 入射角可采用 20 176。 。 當材料測定的鏡向 光澤度小于 70光澤單位 時，為提高其分辨程度， 入射角可采用 85176。 。 拋光磚光澤度 ? 結果計算 （ 1）測定陶瓷磚等取五點或九點的算術平均值作為該試樣的試驗結果。計算