透鏡的拋光ppt課件(編輯修改稿)
2025-06-03 02:03 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 35； Ra=10nm ? 對(duì)操作人員的要求不同 一、機(jī)床（研磨 拋光機(jī)） 四軸拋光機(jī) 二、拋光模 ?組成 ?拋光模層（拋光柏油、古馬龍樹脂、柏油和羊毛混合毛氈等） ?基體 ?要求 : ?平面拋光模應(yīng)略為凸形 （光學(xué)零件拋光后一般要求低光圈） 。 ?球面拋光模的半徑也要考慮低光圈的要求。 Rpjt=R177。 b （凹拋光模取正；凸拋光模取負(fù)號(hào)） 三、工藝因數(shù)對(duì)古典法拋光的影響 ? 精磨的影響 拋光對(duì)精磨表面結(jié)構(gòu)的要求是：較大的凹凸層深度和較小的裂紋層深度，同時(shí)凹凸層深度以不大于裂紋層深度為限度。 ? 拋光模的幾何形狀 一般情況下，樣板檢驗(yàn)的拋光模光圈高低與工件相反。 ? 拋光模材料和基體的影響 材料硬度適中；基體曲率合適。 ? 拋光劑的影響 ?拋光粉的硬度與玻璃硬度、拋光模硬度、拋光壓力相適應(yīng) ?拋光劑的濃度 ?拋光液的 PH值 ?拋光液供給量 ? 粘結(jié)材料和粘結(jié)模的影響 ? 速度和壓力的影響 ? 溫度的影響 ?溫度對(duì)拋光模的影響 ?溫度對(duì)粘結(jié)膠的影響 ?溫度對(duì)工件的影響 因素 水平 A 磨頭轉(zhuǎn)速(r/min) B 工軸轉(zhuǎn)速 (r/min) C 磨削壓力(Ｎ ) D 吃刀深度(mm) 1 1000 8 40 2 2022 16 60 3 3000 30 100 最佳工藝條件存在于以下組合中 : A1B1C1D1。 A1B1C1D2。 A1B1C1D3。 A1B1C2D1。 A1B1C2D2。 A1B1C2D3。 A1B1C3D1。 …… 例：多因素多水平問題的處理方法 — 正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì) 正交實(shí)驗(yàn) Factor Level A 磨頭轉(zhuǎn)速r/min B 工軸轉(zhuǎn)速 r/min C 磨削壓力Ｎ D 吃刀深度mm 1 1000(A1) 8(B1) 100(C3) (D2) 2 2022(A2) 8(B1) 40(C1) (D1) 3 3000(A3) 8(B1) 60(C2) (D3) 4 1000(A1) 16(B2) 60(C2) (D1) 5 2022(A2) 16(B2) 100(C3) (D3) 6 3000(A3) 16(B2) 40(C1) (D2) 7 1000(A1) 30(B3) 40(C1) (D3) 8 2022(A2) 30(B3) 60(C2) (D2) 9 3000(A3) 30(B3) 100(C3) (D1) 正交實(shí)驗(yàn) A磨頭轉(zhuǎn)速(r/min B 工軸轉(zhuǎn)速 (r/min C 磨削壓力(Ｎ ) D 吃刀深度(mm) ＲＭＳ （ nm） 1 1000(A1) 8(B1) 100(C3) (D2) 2 2022(A2) 8(B1) 40(C1) (D1) 3 3000(A3) 8(B1) 60(C2) (D3) 4 1000(A1) 16(B2) 60(C2) (D1) 5 2022(A2) 16(B2) 100(C3) (D3) 6 3000(A3) 16(B2) 40(C1) (D2) 7 1000(A1) 30(B3) 40(C1) (D3) 8 2022(A2) 30(B3) 60(C2) (D2) 9 3000(A3) 30(B3) 100(C3) (D1) Level 1: Ⅰ =++= Level 2: Ⅱ =++= Level 3: Ⅲ =++= 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 水平 粗糙度ＲＭＳ 磨頭轉(zhuǎn)速 工軸轉(zhuǎn)速 磨削壓力 吃刀深度 1 2 3 190 177 級(jí)差 14 0501001502002501000 2022 3000磨頭轉(zhuǎn)速rms0501001502002508 16 30工軸轉(zhuǎn)速rms16517017518018519040 60 80磨削壓力/ Nrms160170180190200 吃刀深度/ m mrms四、光圈的修正 ? 實(shí)際生產(chǎn)中，由于各種工藝因數(shù)的影響，使得加工的工件面形超出了規(guī)定的要求。因此在拋光過程中，要修改
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