云紋干涉測(cè)試技術(shù)ppt課件(編輯修改稿)
2025-06-01 22:08 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 ： A′ = Ae iφ a B′ = Ae iφb 式中 : A －振幅 ,對(duì)于平面波位相 φ a 和 φ b 皆為常數(shù) 當(dāng)試件受載發(fā)生變形時(shí) ,平面波 變?yōu)楹捅砻孀冃蜗嚓P(guān)的 翹曲波前A″ 和 B″ ,可分別表示為 : A″ = Aei [φ a+φ a( x , y) ] B″ = Aei [φ b+φ b( x , y) ] 式中 φ a ( x , y) 和 φ b ( x , y) 是由于試件表面位移變化而引起的位相變化。 當(dāng)試件表面具有三維位移時(shí) ,位相變化 φ a ( x ,y) 和 φ b ( x , y) 與 x 、z 方向位移 u 和 w 有關(guān) ,且由變形幾何分析可知 : φ a ( x , y) =2π/λ [ w ( x , y) (1 + cosθ ) + u ( x , y) sinθ ] φ b ( x , y) =2π/λ [ w ( x , y) (1 + cosθ ) u ( x , y) sinθ ] 兩束衍射波前經(jīng)過成像系統(tǒng)后在像平面上形成干涉條紋的 光強(qiáng)分布可表示為 : I= ( A″ + B″ ) ( A″ + B″ )* = 2 [ (φ a φ b) + φ a ( x , y) φ b ( x , y) ]
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