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正文內(nèi)容

顯示器實(shí)務(wù)專題報(bào)告(編輯修改稿)

2024-11-16 16:35 本頁(yè)面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 結(jié)構(gòu) TFTLCD 前段製程 Array ? 前段的 Array 製程與半導(dǎo)體製程相似,但不同的是將薄膜電晶體製作於玻璃上,而非矽晶圓上。 ? 1. TFT 薄膜電晶體 :當(dāng)然還是曝光顯影蝕刻,以五道光罩為主流,其中包含 a. Gate Metal : Scan 線 , b. aSi island : 半導(dǎo)體層 , c. Source : Data 線 , d. passivasion : 絕緣層 , e. ITO : 導(dǎo)電玻璃 共五道主要製程。 ? 2. CF 彩色濾光片 :主要的製程有 BM(黑色矩陣 ), R/G/B(紅綠藍(lán)彩色光阻 ), ITO(導(dǎo)電玻璃 ), Photo Spacer(CF與 TFT的墊高物,以維持 cell Gap). TFTLCD 中段製程 Cell ?中段的 Cell ,是以前段 TFT Array的玻璃為基板,與彩色濾光片的玻
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