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電鍍與化學(xué)鍍ppt課件(留存版)

2025-06-26 12:44上一頁面

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【正文】 動速度適宜,固體顆粒也可機(jī)械地走動到陰極表面,并不斷被沉積著的基體金屬所掩埋、捕獲,最終實(shí)現(xiàn)共沉積,獲得復(fù)合鍍層。 4 穩(wěn)定劑 在正常條件下,化學(xué)鍍 NiP溶液較穩(wěn)定。無論是鍍層的厚度還是復(fù)合程度都是均勻的。 NiPSiC鍍層表面組織形貌 NiPSiC 鍍層側(cè)向組織 NiPSiCMoS2復(fù)合鍍層表面形貌 3 化學(xué)復(fù)合鍍層的激光處理 激光處理是通過下列兩種情況來調(diào)節(jié)入射熱量: ① 激光功率一定,改變光束的掃描速度 ② 掃描速度一定,改變激光的功率 250W 550W 400W 450W 不同功率激光處理 NiPSiC鍍層的表面形貌 激光處理 NiPSiC鍍層 XRD圖 450W 二、復(fù)合電鍍與化學(xué)復(fù)合鍍比較 1 為獲得一定的復(fù)合顆粒,化學(xué)鍍鍍液中的顆粒含量為低濃度,而電鍍工藝要求高濃度。 2 還原劑 還原劑是鍍液的主要成分,在酸性鍍液中采用的還原劑主要是次磷酸鹽。 電鍍青銅溶液配方及工藝條件 四、 復(fù)合電鍍 復(fù)合電鍍是用電鍍方法使金屬和固體微粒共沉積獲得復(fù)合材料的工藝過程。鍍鉻可用于裝飾、耐磨損和耐腐蝕。 法拉第定律是十分精確的,它不受溫度、壓力、電解質(zhì)濃度、電極和電解槽材料、形狀和溶劑性質(zhì)的影響。 主鹽濃度高,一般可采用較高的陰極電流密度,溶液的導(dǎo)電性和陰極電流效益都較高。 沉積層的致密度主要取決于離子濃度、交換電流及表面活性劑,電結(jié)晶的晶粒尺寸則在很大程度上取決于表面活性劑的濃度。這種關(guān)系就是法拉第定律。其中鍍鋅主要用于鋼鐵等黑色金屬的防腐。 三、 電鍍合金 電鍍合金是利用電化學(xué)的方法使兩種或兩種以上的金屬(也包括非金屬)共沉積的過程。 在化學(xué)沉積 NiP合金過程中 , 除了需要及時補(bǔ)充反應(yīng)所消耗的主鹽外 , 還需在鍍液中加入適量的絡(luò)合劑 、 穩(wěn)定劑 、 緩沖劑和其他添加劑等 。經(jīng)熱處理后硬度更高,其耐磨性高于復(fù)合電鍍鎳層。 問題: 1 簡述電鍍液的組成及其作用。 酸性化學(xué)鍍 NiP溶液配方及工藝條件 (三)、化學(xué)鍍 NiP的組織結(jié)構(gòu) 1 磷含量對化學(xué)鍍 NiP合金結(jié)構(gòu)的影響 總體來說,隨著磷含量的增加,化學(xué)鍍 NiP合金的結(jié)構(gòu)變化過程為: 晶態(tài) → 晶態(tài) +微晶 → 微晶 → 微晶 +非晶 → 非晶態(tài) 。 用來制備減摩復(fù)合電鍍層的具有潤滑特性的固體顆粒有聚四氟乙烯( PTFE)、 MoS BN、石墨和氟化石墨( CF)等。 鍍鎳溶液配方及工藝條件 硫酸鎳是鍍鎳溶液中鎳離子的主
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