【正文】 碳氮三鍵轉(zhuǎn)化為雙鍵，產(chǎn)生一個(gè)六元環(huán)吡啶環(huán)。 C. 氮?dú)鈿夥罩?120分鐘溶劑退火處理和 110攝氏度 10分鐘熱退火 。 酒精作為浸泡溶劑 (C)。 此外 ， 對(duì)傳統(tǒng)的旋涂過(guò)程中 ， 溶劑的處理也是一個(gè)很重要的因素 ， 一般低沸點(diǎn)的溶劑可以直接揮發(fā)至空氣中 ， 但是對(duì)于沸點(diǎn)較高的溶劑 ，在高溫烘烤的同時(shí) ， 也可以采用兩相分離 萃取的方法來(lái)去除 （ 通過(guò)使用一種與溶劑相溶解 ， 但是與有機(jī)層不溶的溶劑 ） 。加熱使得碳?xì)浠衔锪呀?，在基底表面沉積形成石墨烯膜 石墨烯從銅基底轉(zhuǎn)移到 PET(不飽和聚酯 )基底的工序 化學(xué)進(jìn)展，第 24卷，第 4期， 2022年 4月 一種不用轉(zhuǎn)移基底且不使用催化劑的方法來(lái)制備高質(zhì)量、可溶液加工的石墨烯薄膜 —— CNS 聚丙烯晴 (PAN)溶解在二甲基甲酰胺 (DMF)中，旋涂在石英基片上。 D. Ca(20nm)/Al(100nm) 金屬電極真空蒸發(fā) ， 真空度 104Pa。 異丙醇做浸泡溶劑 (D). FIG. 3. 器件表面粗糙度 (a) A, (b) B, (c) C, and (d) D。 參考文獻(xiàn) 1. D. S. Hecht, L. Hu, and G. Irvin, Adv. Mater. 23, 1482 (2022). 2. . Na, . Kim, J. Jo, and . Kim, Adv. Mater. 20, 4061 (2022). 3. Y. Xia, K. Sun, and J. Ouyang, Adv. Mater. 24, 2436 (2022). 4. . Yeo, . Yun, . Kim, S. Park, . Kim, . Yoon, . Kim, and . Na, ACS Appl. Mater. Interfaces 4, 2551 (2022). 5. . Chung, . Song, B. Bob, R. Zhu, . Duan, and Y. Yang, Adv. Mater. 24, 5499 (2022). 6. Z. Wu, Z. Chen, X. Du, J. M. Logan, J. Sippel, M. Nikolou, K. Kamaras, J. R. Reynolds, D. B. Tanner, A. F. Hebard,