【正文】 deflectometry. Applied Optics, 1981, 20(24):42634266[21] 王鳴，鐘金剛，李達成 . 次條紋積分解調相位的表面輪廓術 . 光學學報， 1997,17(19):14621465[22] 王鳴. 條紋相位的測量技術及其應用的研究：[博士學位論文] . 北京：清華大學精密儀器與機械學系，1998[23] 王鳴. 次條紋積分干涉計量. 光學學報，1995, 15(12):16011606[24] 王伯雄，葉茂. 傅里葉變換在莫爾測偏法中的應用. 儀器儀表學報，, , 1999，313316[25]Qian Liu, Ryoji Ohba. Effects of unparallel grating planes in Talbot OPTICS, , , July 1999, 41114116[26]Qian Liu, Ryoji Ohba. Effects of unparallel grating planes in Talbot Interferometry. OPTICS, , , May 2000, 20842090致 謝本論文的工作是在我的指導老師王老師的悉心指導下完成的，王老師嚴謹的治學態(tài)度和科學的工作方法給了我極大的幫助和影響。向待測介質5處放入一塊高溫銅絲，待熱平衡后。利用恒等式可以將條紋光強分布式（219）改寫為： （220）其中，是的共軛復數。圖 23 莫爾偏折法原理圖中 G1,G2為兩個等節(jié)距光柵，光柵節(jié)距為 p ，兩個光柵之間的距離為d。對于溫度場，如果在氣流中壓強可以認為是常數，并且理想氣體狀態(tài)方程成立，即 (23)其中 P 為壓強，T 為溫度，M 為氣體的分子量，R 氣體常數。謝惠民在1992年首次提出了一種新型的雙鍍層高溫云紋光柵制作工藝，它的特點概括為:在不同的材料表面上，利用兩種抗氧化能力強的金屬鍍層制作云紋光柵，使得該工藝制作的高溫云紋光柵具有廣泛的適用性。另外，利用微型馬達驅動分光光柵，可以方便地實現云紋干涉法的相移技術，以提高測量的靈敏度和精度。 云紋干涉法光路系統(tǒng)的基本要求是保證對稱入射到試件柵上兩束等強度的相干準直光。和B39。云紋干涉法是八十年代初興起的一種具有非接觸測量、可進行全場和實時分析的高靈敏度大量程的光學測量方法，通常使用頻率為600~2400線/mm的高密度光柵，其測量位移靈敏度比傳統(tǒng)的云紋法高幾十倍甚至上百倍。 ，當兩束相干準直光A、B以入射角(為光波波長，fs為試件柵頻率)對稱入射試件柵時，則將獲得沿試件表面法向傳播光波A的正一級衍射光波A39。類似地，采用y方向對稱入射的雙光束光路可以獲得y方向面內位移v的表達式 （18）到此，我們得到了云紋干涉法位移與條紋級數之間關系的全部表達式。該光路的關鍵元件是分光光柵，要求具有很高的質量，以保證衍射的四束光仍然是準直光。他在后來還提出了使用鎳網制作振幅型高溫粗柵的方法并把高溫柵的使用溫度提高到1370攝氏度。2 莫爾偏折法測量流體溫度場的基本原理－戴爾（GladstoneDale）公式 對于均勻透明介質，根據經典電動力學的知識可以得到它的折射率是介質密度的函數，用羅倫茨－羅倫茲（LorenzLorentz）關系式表示為 （21）其中是介質密度。從而可知，（2－10）式是對莫爾條紋的亮紋位置的描寫，它反映了條紋的位置x和條紋的級次l之間的關系。莫爾偏折法圖像處理的主要研究內容為從莫爾條紋的光學圖像中如何提取條紋的相位信息。當在待測試介質5處放入一個高溫物體或點燃一個火焰，由標準空氣狀態(tài)方程可知5處的空氣就會因溫度變化而導致空氣密度發(fā)生變化，使得光線發(fā)生微小偏折，光闌上的莫爾條紋也會發(fā)生相位變化。詳細分析并建立了該圖像處理技術的數學模型。在此衷心感謝王艷紅老師對我的關心和指導。.a=A(125,:)=125時光強分布b=B(125,:)，光強中部比較小，而是變得密集了，這也能表明條紋的相位向兩邊偏折了。通過帶通濾波濾去和只保留下并對進行傅立葉逆變換可以得到 (222)圖25 莫爾條紋的空間頻譜通過恒等變形得到 （223）由（223）式得 (224)其中和分別表示對復數取虛部和實部。在 yz 平面和xz 平面的投影分別為和。設光線沿z 軸正方向傳播，由幾何分析和理論分析都可以得到光線穿過非均勻折射率場時偏折的角度為: (26a) 兩式中的積分均指對于整個光線所穿過得路程的積分，其中L為探測光束所經過的試驗段的長度，和分別表示光線穿過非均勻折射率場后的偏折角在xz和yz平面內的投影,n為介質的折射率。高溫條件下的光柵復制技術是高溫云紋干涉法的另一重要技術。云紋光柵的制作途徑通常有機刻和光刻兩種。 ，具有光學元件少、操作簡單等特點。 當試件受力變形后，平面光波A39。近十幾年以來，云紋干涉法的嚴格理論基礎得到建立，光柵的制作技術也己經成熟。:對稱于試件柵法向入射的兩束相干準直光在試件表面的交匯區(qū)域內形成頻率為試件柵兩倍()的空間虛柵，當試件受載變形時，刻制或復制在試件表面的試件柵也隨之變形，變形后的試件柵與作為基準的空間虛柵相互作用形成云紋圖，該云紋圖即為沿虛柵主方向的面內位移等值線，并提出了類似于幾何云紋的面內位移計算公式: (11)