沉銅和板電工藝培訓(xùn)講義(更新版)
【正文】 日星期三11時48分55秒23:48:5523 October 2024 好的事情馬上就會到來，一切都是最好的安排。24.10.2324.10.2323:4823:48:5523:48:55Oct24 務(wù)實，奮斗，成就，成功。24.10.2323:48:5523:48Oct2423Oct24 重于泰山，輕于鴻毛。 （2）法拉第第二定律：在不同的電解液中，因相同電量所沉積出不同的金屬重量（或溶解的重量）與其化學(xué)當(dāng)量成正比。 沉銅拉各缸本身雜質(zhì)塞孔引起的孔無銅。 銅缸沉積速度過快，使孔墻結(jié)銅渣。 C、還原劑濃度 甲醛在鍍液中含量的增加甲醛的還原電位升高，甲醛的濃度控制在意810ml/l。 藥水成份：SW01,開缸量為40%(V/V),生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加SW01膨松劑6L；NaOH開缸量為8g/l, 生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加NaOH 160g。 溫 度：6585℃ 時間：1218min（標(biāo)準(zhǔn)為15min）,電,?,三、PTH各 藥水缸成份及其作用,（3）預(yù)中和缸（需機(jī)械搖擺） 作 用：先對高錳鉀進(jìn)行一次預(yù)清洗； 藥水成份：硫酸，開缸量為13%（V/V），最佳值為2%（V/V），生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加硫酸2L； 雙氧水，開缸量為13% （V/V），最佳值為2%（V/V），生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加雙氧水2.5L； 溫 度：室溫； 處理時間：13min（標(biāo)準(zhǔn)為2min)； 換 槽：每班更換一次；,?,三、PTH各 藥水缸成份及其作用,（4）中和缸（需機(jī)械搖擺和循環(huán)過濾） 作 用：清洗殘留的高錳酸鉀； 藥水成份：N03A 開缸量為20%(V/V) 生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加N03A中和劑4L； CP級H2SO4 開缸時酸當(dāng)量為1.83.6N，最佳值為2.7N 生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加H2SO4 1.6L； 溫 度：室溫； 處理時間：35min（標(biāo)準(zhǔn)為4min）； 換 槽：處理810平米/L時即可更換新缸；,?,（5）整孔（又名除油，需機(jī)械搖擺和循環(huán)過濾） 作 用：清潔和調(diào)整電荷的堿性整孔劑,能有效去除板 面上的油脂、氧化物及粉塵； 藥水成份：CD120，開缸812%，最佳值10%，控制0.1N。 E、添加劑 （穩(wěn)定劑） 添加劑具有穩(wěn)定化學(xué)鍍銅液的作用。 知會ME調(diào)整銅缸各參數(shù)達(dá)到最佳值。 解決方法： 知會鉆孔工序及時作出改善。 a：載運劑（Carrier）： 抑制電鍍 積電流，提高分布力（成份常是碳氧化鍵 高分子化合物）； b：光澤劑（Brigtheren）： 鍍后光澤，結(jié)晶顆粒細(xì)密，改善鍍層的物理性，同時影 響鍍銅沉積速率（成份是有機(jī)硫或氮的化合物）；,二、板電各藥水 成份及設(shè)備的作用,?,c：平整劑（Leveller）： 為低電流區(qū)的光澤劑，對于輕微的孔壁不良，有整平作 用 ；本司所使用的為CB203B 酸性銅光澤劑是三者合一型，操 作時方便簡單； (6) 過濾：使鍍液流動，使游離雜物被濾掉 ； (7) 打氣：為了攪拌溶液降低陽極膜的厚度，加速銅離子的補(bǔ)充，更可以幫助光澤劑的發(fā)揮作用 ； (8) 溫度：2025℃，過高使添加劑裂解，過低導(dǎo)電不良，效率降低 。2024年10月23日下午11時48分24.10.2324.10.23 追求卓越，讓自己更好，向上
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