【正文】 時(shí)就被采用，是真空技術(shù)中的獨(dú)制單位?；砻娴娜魏我稽c(diǎn)污物都會(huì)影響薄膜材料的性能和生長(zhǎng)情況。 晶粒間界 因?yàn)楸∧ぶ泻性S多小晶粒 ， 因而薄膜的晶界面積比塊狀材料大 ， 晶界增多是薄膜材料電阻率比塊狀材料電阻率大的原因之一 。 ? 由于薄膜的表面結(jié)構(gòu)和構(gòu)成薄膜整體的微型體密切相關(guān)，在基體溫度和真空度較低時(shí)，容易出現(xiàn)多孔結(jié)構(gòu) 。 3） 纖維結(jié)構(gòu) ? 纖維結(jié)構(gòu) 薄膜是指具有擇優(yōu)取向的薄膜 。 形成無定形薄膜的工藝條件是降低吸附原子的表面擴(kuò)散速率 ， 可以通過降低基體溫度 、引入反應(yīng)氣體和摻雜的方法實(shí)現(xiàn) 。這種柱狀結(jié)構(gòu)被認(rèn)為是由原子或分子在基體上具有有限的遷移率所引起的，所以濺射薄膜的形成和生長(zhǎng)屬于有限遷移率模型。 （ 5）裝飾膜、包裝膜 ① 廣泛用于燈具 、 玩具及汽車等交通運(yùn)輸工具 、 家用電氣用具 、 鐘表 、 工藝美術(shù)品 、“ 金 ” 線 、 “ 銀 ” 線 、 日用小商品等的鋁膜 、黃銅膜 、 不銹鋼膜和仿金 TiN膜與黑色 TiC膜 。 ③ 薄膜太陽能電池：特別是非晶硅 、 CuInSe2和CdSe薄膜太陽電池 。cSi/Al 和 aSi/aSiGe疊層太陽電池 :玻璃 /ITO/naSi/iaSi/PaSi/naSi/iaSiGe/PaSi/Al 至 少 在 8層以上 ， 總膜厚在 左右 。 另外，表面中含有大量的 晶粒界面 ，而界面勢(shì)壘 0V比電子能量 E要大得多，根據(jù)量子力學(xué)知識(shí)，這些 電子有一定的幾率， 穿過勢(shì)壘 ，稱為 隧道效應(yīng) 。 當(dāng) Ta在 N2的放電氣體中被濺射時(shí)，對(duì)應(yīng)于一定的 N2分壓，其生成薄膜 的成分卻是任意的。與薄膜相碰撞的高速粒子會(huì)把薄膜中的原子從陣點(diǎn)位置碰撞離位，并 進(jìn)入間隙 位置，產(chǎn)生 釘扎效應(yīng) （ pinning effect）。 ? 由于薄膜和襯底間不同的 熱膨脹系數(shù) 和 晶格失配 能夠把應(yīng)力引進(jìn)薄膜，或者由于金屬薄膜與襯底發(fā)生化學(xué)反應(yīng)時(shí)，在薄膜和襯底之間形成的金屬化合物同薄膜緊密結(jié)合，但有輕微的晶格失配也能把應(yīng)力引進(jìn)薄膜。 ? 氧化物 具有特殊的作用。此時(shí)，薄膜和基片之 間相互作用的 靜電力 F為： 022 ???F式中， ? 為界面上出現(xiàn)的電荷密度； 0? 為真空中的介電常數(shù)。 ? 基片和薄膜屬于不同種物質(zhì)，附著現(xiàn)象所考慮的對(duì)象是二者間的 邊界 和 界面。 ? 在基片和薄膜之間還存在有一定的相互作用，因而就會(huì)出現(xiàn)薄膜與基片之間的 粘附性 和 附著力 問題，以及 內(nèi)應(yīng)力 的問題。 ? 通常是把膜層無基片而能獨(dú)立成形的厚度作為薄膜厚度的一個(gè)大致的標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定其厚度約在 1181。尤其是對(duì) 薄膜半導(dǎo)體表面電導(dǎo) 和 場(chǎng)效應(yīng) 產(chǎn)生很大的影響，從而影響半導(dǎo)體器件性能。 BABABAIIIIraaU??? 623 不同種物質(zhì)原子之間最普遍的相互作用是 范德瓦耳斯力 。 ? 一般來說， 表面能 是指建立一個(gè)新的表面所需要的能量。 ? 若在上述這些物質(zhì)的薄膜上再沉積金屬等，可以獲得附著力非常大的薄膜。 ? 彎曲有兩種類型：一種是彎曲的結(jié)果使薄膜成為彎曲面的 內(nèi)側(cè) ，使薄膜的某些部分與其他部分之間處于 拉伸狀態(tài) ，這種內(nèi)應(yīng)力稱為 拉應(yīng)力 。因此，濺射薄膜中的內(nèi)應(yīng)力與濺射條件的關(guān)系很密切。如輝光放電法得到的 a HOSixx :1? 等，其 x 可在很大范圍內(nèi)變化。 在非晶態(tài)半導(dǎo)體薄膜的電子導(dǎo)電方面和金剛石薄膜的場(chǎng)電子發(fā)射中，都起重要作用。 當(dāng)和不同組分或不同摻雜層的非晶態(tài)材料 （ 如非晶態(tài)半導(dǎo)體 ） 也能組成這樣的結(jié)構(gòu) ， 并具有類似的量子化特性 ， 如 aSi : H/aSi1xNx : H, aSi : H/aSi1xCx : H…… 。 （ 3）硬質(zhì)膜、耐蝕膜、潤(rùn)滑膜 ① 硬質(zhì)膜 用于工具 、 模具 、 量具 、 刀具表面的 TiN、TiC、 TiB (Ti, Al)N、 Ti(C, N)等硬質(zhì)膜 ， 以及金剛石薄膜 、 C3N4薄膜和 cBN薄膜 。 ? Spear在 1984年提出一個(gè)簡(jiǎn)單而巧妙的模型 ， 如圖 11所示 。 同質(zhì)外延薄膜是層狀生長(zhǎng)型 。 2）多晶結(jié)構(gòu) ? 多晶結(jié)構(gòu) 薄膜是由若干尺寸大小不同的晶粒隨機(jī)取向組成的 。 ? 吸附原子在基體表面上有較高的擴(kuò)散速率 ， 晶粒的擇優(yōu)取向可發(fā)生在薄膜形成的初期 。 如用分子束外延法 （ MBE） 和有機(jī)金屬氧化物化學(xué)氣相沉積法 （ MOCVD） 所制備的薄膜接近單晶膜 ， 而且其他方法 ， 如濺射法 、 蒸發(fā)法 、 微波法 、 熱絲法等制作的薄膜 ， 有不少為多晶膜和微晶膜 ，其中也含有一定的非晶態(tài)膜 。 ? 基體材料的選擇及表面處理 。 ? 一般分為 去除基片表面上物理附著的污物的清洗方法和去除化學(xué)附著的污物的清洗方法。吸附分為物理吸附和化學(xué)吸附。 ? 能使壓力從一個(gè)大氣壓力開始變小，進(jìn)行排氣的泵常稱為“ 前級(jí)泵 ”；另一些卻只能從較低壓力抽到更低壓力，這些真空泵常稱為“ 次級(jí)泵 ”。 ? 厚度有三種概念： 幾何厚度 、 光學(xué)厚度 和 質(zhì)量厚度 ? 幾何厚度指膜層的物理厚度。 薄膜對(duì)單色光的干涉條件 薄膜對(duì)單色光的干涉條件 ? 顯然要想在 P點(diǎn)觀察到光的 干涉極大 ， 其條件是直接反射回來的光束與折射后又反射回來的光束之間的 光程差為光波長(zhǎng)的整倍數(shù) 。但在一般情況下，薄膜的密度也是需要測(cè)量的薄膜性質(zhì)之一，隨著薄膜材料及其制備工藝的不同，薄膜的密度可以有很