【正文】 [網(wǎng)址 ] ： // 保密須知 本商業(yè)計(jì)劃書屬商業(yè)機(jī)密，所有權(quán)屬于 天津晶嶺 高 科技有限公司 。 生產(chǎn)產(chǎn) 品主要包括： ? 以“ FA/O 超大規(guī)模集成電路（ ULSI）多層布線介質(zhì)及銅布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（ CMP）納米磨料拋光液”為代表的國際首例高技術(shù)產(chǎn)品； ? 以“ FA/O 集成電路襯底硅片納米磨料拋光液”、“ FA/O 電子材料清洗劑、半導(dǎo)體材料切削液、倒角液、磨削液、活性劑”為代表的高技術(shù)更新?lián)Q代產(chǎn)品。國內(nèi) CMP 拋光液的市場(chǎng) 需求量急劇增加。 拋光液產(chǎn)品市場(chǎng)集中在北京、上海、天津、河南、河北、吉林與深圳等地；電子清洗液產(chǎn)品市場(chǎng)分布于廣東、江蘇、福建、吉林等地區(qū)，以及各種替代 ODS清洗劑的市場(chǎng)；磨削液相關(guān)產(chǎn)品市場(chǎng)為上海、浙江、河南、河北、陜西等地區(qū)；提高二次采油率的活性劑產(chǎn)品市場(chǎng)為各大油田。 團(tuán)隊(duì) 優(yōu)勢(shì) 經(jīng)過歷年的發(fā)展，完善且具競(jìng)爭力的管理、開發(fā)、生產(chǎn)與銷售團(tuán)隊(duì)業(yè)已形成。 商業(yè)計(jì)劃書 摘要 3 本文件所述及資料及文件皆為 天津晶嶺科技 版權(quán)所有，未徵得 公司 同意不得將其中全部或部分翻印或轉(zhuǎn)授與第三方 商業(yè)計(jì)劃目標(biāo) 總 體目標(biāo)： 計(jì)劃初期總投資 5000 萬元，進(jìn)行系列產(chǎn)品的規(guī)?；a(chǎn)，五年內(nèi)實(shí)現(xiàn)年銷售額上億元。 2021 年 10 月31 日： 完成服務(wù)體系建設(shè)。產(chǎn)品目前具備國內(nèi)外領(lǐng)先水平，是更新?lián)Q代新產(chǎn)品，除在國內(nèi)市場(chǎng)取代美日產(chǎn)品外，將來還可以出口創(chuàng) 匯爭取占領(lǐng)國際市場(chǎng)。超大規(guī)模集成電路（ ULSI）是國家“十五”期間的重大攻關(guān)項(xiàng)目。 多年來，世界集成電路產(chǎn)業(yè)一直以 34倍于國民經(jīng)濟(jì)增長速度迅猛發(fā)展，新技術(shù)、新產(chǎn)品不斷涌現(xiàn)。 2021 年大 陸 IC產(chǎn)量達(dá) ， 較 2021年 增長 ％；產(chǎn)值則達(dá) 人民 幣 1,470億 元，比 2021年增加 ％。 公司性質(zhì) 有限責(zé)任公司 注冊(cè)資本 擬 7,500 萬人民幣。 企業(yè)目標(biāo) 根 據(jù)國際集成電路產(chǎn)業(yè)的未來發(fā)展趨勢(shì)以及國內(nèi)外市場(chǎng)的需求情況， 我方計(jì)劃在國家產(chǎn)業(yè)政策和行業(yè)規(guī)劃指導(dǎo)下，以科技創(chuàng)新為先導(dǎo)，以市場(chǎng)為導(dǎo)向，以產(chǎn)品質(zhì)量為重點(diǎn)，以用戶為中心，以效率、效益、水平為準(zhǔn)則，以步入知識(shí)經(jīng)濟(jì)企業(yè)為管理模式。超大規(guī)模集成電路（ ULSI）多層布線介質(zhì)及銅（ Cu）布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（ CMP）是今后世界集成電路制造業(yè)急待解決的難題，目前世界各國正在封閉研發(fā)這一工序所需的拋光材料。 FA/O 系列納米磨料拋光液 2021 年被列入天津市“十五”重大攻關(guān)項(xiàng)目，獲得無償資助 100 萬元。作為微電子產(chǎn)品加工過程中重要消耗材料之一的清洗劑，需求量將越來越大。 技術(shù)成熟性和產(chǎn)品可靠性論述 我方技術(shù)成熟，產(chǎn)品可靠性強(qiáng)，在集成電路與基礎(chǔ)材料工程技術(shù)、多種材料的更新?lián)Q代、技術(shù)創(chuàng)新等方面取得多項(xiàng)重大發(fā)明成果，如 IC 硅單晶襯底材料拋光與檢測(cè)新技術(shù)及清洗材料，硅外延材料制備新技術(shù)，硅／硅材料新鍵合技術(shù)，硅單晶片新型拋光材料， IC襯底材料有害金屬雜質(zhì)與二次缺陷控制新技術(shù)等。 環(huán)境保證與勞動(dòng)安全 不存在工業(yè)污染，不存在危險(xiǎn)物品，能夠保證生產(chǎn)人安全。 今后，國內(nèi)將加大向上海華虹電子集團(tuán)、北京首鋼日電、上海先進(jìn)半導(dǎo)體有限公司、上海貝嶺微電子制造有限公司、華越微電子有限公司、寧波浙大海納半導(dǎo)體有限公司等企業(yè)拋光液市場(chǎng)的推廣；逐漸擴(kuò)大廣東、江蘇、福建、吉林等地區(qū)的電子清洗液市場(chǎng)；繼續(xù)加大上海、浙江、河南、河北、陜西等地區(qū)的磨削液相關(guān)產(chǎn)品的推廣；大力推進(jìn)各大油田提高采油率的活性劑及各種替代 ODS清洗劑的市場(chǎng)；同時(shí)加大我方部分產(chǎn)品對(duì)臺(tái)灣地區(qū)及國外的規(guī)模出口。硅片的制造要經(jīng)過拉單晶、單晶切片、磨片、倒角、拋光、清洗等工序，最終產(chǎn)品的成品率主要決定于硅片拋光后的光潔度及平整度。電子清洗劑 2021 年被國家五部委（國家科技部、國家稅務(wù)總局、外經(jīng)貿(mào)部、國家質(zhì)量監(jiān)督檢測(cè)檢疫總局、國家環(huán)?？偩郑┐_定為國家級(jí)重點(diǎn)推廣新產(chǎn)品。 未來 3 年， 國內(nèi) IC市 場(chǎng)將維持 30％的 增長 率 ，同比帶動(dòng)其相關(guān)耗材的市場(chǎng)增長。 同類產(chǎn)品指標(biāo)對(duì)比 通過國家科委定點(diǎn)單位天津市科學(xué)技術(shù)信息研究所查新報(bào)告和專家鑒定結(jié)論確定本項(xiàng)目屬于國際先進(jìn)水平、部分參數(shù)國際領(lǐng)先。 ? ULSI 多層銅布線、介質(zhì) CMP拋光液、清 洗劑 主要是以上海貝嶺、北京有研硅股份有限公司、浙大海納股份有限公司、上海華虹（ 909）、首鋼日商業(yè)計(jì)劃書 市場(chǎng)調(diào)查和分析 13 本文件所述及資料及文件皆為 天津晶嶺科技 版權(quán)所有，未徵得 公司 同意不得將其中全 部或部分翻印或轉(zhuǎn)授與第三方 電、吉林華微電子有限公司（ 908）、浙江華越（ 907）、上海宏力、 MOTOLOLA（天津）、上海中芯、上海先進(jìn)、北京信創(chuàng)、杭州士蘭等投巨資興建的 8 英寸、 6 英寸生產(chǎn)線為代表的巨型企業(yè)，如考慮到從 2021 年國際上開始規(guī)模使用銅布線的市場(chǎng)，而我方產(chǎn)品在全世界的 ULSI 多層銅布線 CMP 拋光液領(lǐng)域技術(shù)和時(shí)間上的領(lǐng)先性，必將給我們帶來眾多的戰(zhàn)略性客戶。拋光液的性能低下不僅影響生產(chǎn)效率，更造成了大量的廢片，由于硅片成本很高，給企業(yè)帶來巨大的經(jīng)濟(jì)損失，所 以硅片拋光的成品率已經(jīng)成為衡量世界各國微電子水平的重要標(biāo)志。今后將通過我們的市場(chǎng)營銷隊(duì)伍來進(jìn)一步調(diào)研國內(nèi)市場(chǎng)。 市場(chǎng)開發(fā)策略 我方系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外各微電子產(chǎn)品生產(chǎn)線。 FA/O 拋光液可代替美、日進(jìn)口產(chǎn)品，并開始打入國際市場(chǎng)。該產(chǎn)品市場(chǎng)前景廣闊，市場(chǎng)需求數(shù)量很大，是急待推廣的高科技產(chǎn)品。已被國家指定的 ODS 檢測(cè)機(jī)構(gòu)信息產(chǎn)業(yè)部 46 所檢查確認(rèn)：該產(chǎn)品達(dá)到國際先進(jìn)水平。該產(chǎn)品能有效控制銅離子沾污，具有 高速率、低損傷、高選擇性，高清潔度等優(yōu)點(diǎn)，該產(chǎn)品的成功研制標(biāo)志著我方技術(shù)已達(dá)到國際領(lǐng)先水平，為微電子第三代布線做出創(chuàng)造性貢獻(xiàn)。在不斷推廣產(chǎn)品在集成電路制造領(lǐng)域應(yīng)用的基礎(chǔ)上，將產(chǎn)品與技術(shù)迅速擴(kuò)展到液晶顯示屏、電子玻璃、計(jì)算機(jī)與電視機(jī)玻殼及光學(xué)玻璃、高檔金屬材料加工、油田提高二次采油率等領(lǐng)域，使企業(yè)逐步 形成規(guī)模，力爭在短時(shí)間內(nèi)全面替代國外產(chǎn)品，并逐漸進(jìn)軍海外市場(chǎng)。正是在這種 集成電路 產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛的大好形勢(shì)下，作為一家高新技術(shù)企業(yè)依托于河北工業(yè)大學(xué)微電子研究所所長劉玉嶺教授的研究成果（下詳 ）致力于微電子行業(yè)中大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路加工過程中的基礎(chǔ)材料的制備、加工、檢測(cè)以及外延材料性能與結(jié)構(gòu)優(yōu)化等技術(shù)和產(chǎn)品的研究、開發(fā)、生產(chǎn)及推廣。 2021 年大 陸 IC 銷售額增長 ％， 占 全球市 場(chǎng) 的 13％， 預(yù) 期未來 3年， 國內(nèi) IC 市 場(chǎng)將維 持 30％的 增長 率。 2021 年世界半導(dǎo)體產(chǎn)值達(dá) 2021 億美元，而以集成電路為 基礎(chǔ)的電子信息產(chǎn)品的世界市場(chǎng)總額超過 1萬億美元，成為世界第一大產(chǎn)業(yè)。 主要的競(jìng)爭對(duì)手 我方 產(chǎn)品的主要競(jìng)爭對(duì)手如下： ? 國外：美國 Cabot 與 Rodel、日本 Fujimi 與“花王”以及德國 Bayer。 目前我們的主打產(chǎn)品 拋光液是 IC CMP 制 程最重要的耗材之一， 約占 CMP 制 程 50%的耗材成本。 提供的利益 本項(xiàng)目由投資方投入啟動(dòng)資金 5000 萬元，投資方擁有 5000萬普通股，占 公司總股本 %。 經(jīng)濟(jì)目標(biāo)： 在今后五年內(nèi)累計(jì)實(shí)現(xiàn)銷售收入 28 500萬元，累計(jì)實(shí)現(xiàn)凈利潤 12 ，投資回報(bào)率高達(dá) %。 管理者精通 專業(yè)、生產(chǎn)經(jīng)營管理經(jīng)驗(yàn)豐富 且年輕有為，由劉鈉（ 材料專業(yè)學(xué)士學(xué)位；企業(yè)管理碩士研究生；中石化工程建設(shè)公司企業(yè)發(fā)展部部長、支部書記；中石化工程建設(shè)公司多種經(jīng)營處處長）擔(dān)當(dāng)。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大，逐鹿國際市場(chǎng)將是我們的第三個(gè)目標(biāo)。這為我方各項(xiàng)產(chǎn)品的擴(kuò)大生產(chǎn)提供了良好的市場(chǎng)機(jī)遇。 產(chǎn)品的各項(xiàng)主要指標(biāo)分別達(dá)到和超 過國際上最先進(jìn)的美國 Rodel、 Cabot 公司和日本 Fujimi、“花王”公司的相關(guān)產(chǎn)品，屬于國際領(lǐng)先水平，是具有知識(shí)、技術(shù)密集，高效率、高效益、高水平的高新技術(shù)產(chǎn)品。收到本計(jì)劃書后，收件人應(yīng)即刻確認(rèn)，并遵守以下的規(guī)定： 1. 若收件人不希望涉足本計(jì)劃書所述項(xiàng)目，請(qǐng)按上述地址盡快將本計(jì)劃書完整退回； 2. 在沒有取得天津晶嶺 高 科技有限公司的書面同意前，收件人不得將本計(jì)劃書全部或部分地予以復(fù)制、傳遞給他人、影印、泄 露或散布給他人； 3. 應(yīng)該象對(duì)待貴公司的機(jī)密資料一樣的態(tài)度對(duì)待本計(jì)劃書所提供的所有機(jī)密資料。 商業(yè)計(jì)劃書 摘要 1 本文件所述及資料及文件皆為 天津晶嶺科技 版權(quán)所有，未徵得 公司 同意不得將其中全部或部分翻印或轉(zhuǎn)授與第三方 第一章、摘要 本商業(yè)計(jì)劃的簡單描述 本商業(yè)計(jì)劃所涉及的項(xiàng)目屬微電子技術(shù)與基礎(chǔ)材料相關(guān)領(lǐng)域， 以河北工業(yè)大學(xué)微電子研究所為依托，歷時(shí) 20 年研發(fā)， 主要為從事微電子材料拋光液與清洗劑的開發(fā)應(yīng)用、生產(chǎn)以及銷售。 鑒于河北工業(yè)大學(xué)微電子研究所資金的局限，特此融資以滿足大規(guī)模化生產(chǎn)、檢測(cè)和推廣的經(jīng)費(fèi)要求，從而改變目前被動(dòng)銷售的局面。 目前全球 CMP 拋光液的市場(chǎng) 約 有 5~6 億 美金， 預(yù)計(jì) 在2021年 達(dá) 到 11~12 億 美金的 市場(chǎng)規(guī)模 ； 預(yù)計(jì) 在 2021年 大陸與臺(tái)灣 的市 場(chǎng)將 成 長 至 15 億 元 人民幣 。在今后的市場(chǎng)競(jìng)爭中一定能夠占有十分可觀的市場(chǎng)份額。他們是檀柏梅（副教授 /博士；河北工業(yè)大學(xué)微電子所）、張存善（設(shè)備主管 /教授；河北工業(yè)大學(xué)微電子所）、張楷亮（研究員 /博士；河北工業(yè)大學(xué)微電子所）。 按信息產(chǎn)業(yè)部電子化工標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范要求，將樣品送質(zhì)檢機(jī)構(gòu)和用戶進(jìn)行驗(yàn)證，符合用戶要求。 實(shí)施的風(fēng)險(xiǎn) 本項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)主要表現(xiàn)為產(chǎn)品推廣過程中因必須針對(duì)每個(gè)廠家作適應(yīng)性技術(shù)實(shí)驗(yàn)研究而可能存商業(yè)計(jì)劃書 摘要 4 本文件所述及資料及文件皆為 天津晶嶺科技 版權(quán)所有，未徵得 公司 同意不得將其中全部或部分翻印或轉(zhuǎn)授與第三方 在的營銷成本較高的非技術(shù)性風(fēng)險(xiǎn)。 CMP拋光液全球 僅 有少 數(shù) 供 應(yīng) 商， 國 內(nèi)半 導(dǎo)體廠的 需求 基本依賴進(jìn)口 ， CMP 拋光液有使用 壽 命的限制，其品 質(zhì)與 性能 會(huì)隨時(shí)間而劣化 ，因此相 較于國外進(jìn)口 的 CMP 拋光液 產(chǎn) 品，本土的公司除可提供最新鮮 的 產(chǎn) 品外， 適 宜的 價(jià)格 、迅速的送 貨 服 務(wù)與及時(shí) 且 專業(yè) 的技 術(shù)支持 ，更是 國 外供 應(yīng)商所 不能及的。建立在集成電路技術(shù)進(jìn)步基礎(chǔ)上的全球信息化、網(wǎng)絡(luò)化和知識(shí)經(jīng)濟(jì)浪潮，使集成電路產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略地位越來越重要，對(duì)國民經(jīng)濟(jì)、國防建設(shè)和人民生活的影響也越來越大。目前世界集成電路大生產(chǎn)的主流技術(shù)為 8英寸 0. 25 微米，正在向 12英寸 ，根據(jù)美國半導(dǎo)體協(xié)會(huì) (SIA)預(yù)測(cè)，到 2021 年將能達(dá)到 18 英寸 ~ 微米。由 于 市 場(chǎng)發(fā)展?jié)摿?巨大，再加上中 國 政府重 點(diǎn)扶持 ，促使中 國半導(dǎo)體市場(chǎng) 快速 發(fā) 展。公司技術(shù)實(shí)力雄厚，一些知名企業(yè)（包括臺(tái)灣）慕名前來求助技術(shù)和產(chǎn)品。 公司產(chǎn)品 公司有以下三條主產(chǎn)品線： 1. 以“ FA/O 超大規(guī)模集成電路（ ULSI）多層布線介質(zhì)及銅布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（ CMP）納米磨料拋光液”為代表的高端產(chǎn)品線。該產(chǎn)品被評(píng)為國家級(jí)新產(chǎn) 品并被列入國家重點(diǎn)推廣計(jì)劃。在 ULSI 襯底拋光片清洗工藝中采用 FA/O 電子材料清洗劑，可有效控制鏡面吸附狀態(tài)長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，在該項(xiàng)目提示的技術(shù)理論發(fā)明的指導(dǎo)下，硅單晶片拋光后存放時(shí)間由正常不足四小時(shí)，增至 68 小時(shí)，實(shí)現(xiàn)了集中清洗，大大提 高了效率，節(jié)省了大量人力、物力（化學(xué)試劑、電、去離子水等），工藝簡化，省去了效率低（一片一片依次清洗）、造成損傷、返修率高、價(jià)格昂貴（ 30 多萬美元 /臺(tái)）、工藝復(fù)雜的雙面刷片機(jī)工藝。 以上系列產(chǎn)品已開始與同類進(jìn)口產(chǎn)品爭奪市場(chǎng)，引起了美、日等國公司的高度注意。我方已完成批量規(guī)模生 產(chǎn)， 2021年已經(jīng)通過 ISO9001（ 2021 版）質(zhì)量認(rèn)證。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大，逐鹿國際市場(chǎng)將是我們的第三個(gè)目標(biāo)。這些單位是國家大型企業(yè)，影響面大，有代表性，為商業(yè) 計(jì)劃書 產(chǎn)業(yè)背景與公司概述 11 本文件所述及資料及文件皆為 天津晶嶺科技 版權(quán)所有，未徵得 公司 同意不得將其中全部或部分翻印或轉(zhuǎn)授與第三方 規(guī)模生產(chǎn)后大面積在全國推廣打下了極為有利的基礎(chǔ)。 本系列產(chǎn)品主要包括半導(dǎo)體器件超大規(guī)模集成電路 FA/O 系列半導(dǎo)體材料拋光液、高純多功能非離子界面活性劑、系列電子清洗劑、銅拋光液、切削液、磨削液、倒角液等產(chǎn)品及相應(yīng)的使用技術(shù)。 2. 臺(tái)灣地區(qū)客戶 目前，臺(tái)灣地區(qū)有兩家公司廣潤科技與微邦科技在生產(chǎn) CMP 拋光液及清洗劑等產(chǎn)品，是全球極少數(shù)的 CMP 拋光液專業(yè)生產(chǎn)廠家之一，其 引進(jìn)的是美國生產(chǎn)技術(shù)，但由于缺少美方關(guān)鍵工藝技術(shù)支持， CMP 拋光液及清洗劑等產(chǎn)品未能達(dá)到設(shè)計(jì)參數(shù)指標(biāo)，在我方劉玉嶺教授的悉心研究指導(dǎo)下，經(jīng)使用我方活性劑完全解決了臺(tái)方的技術(shù)工藝等問題，并為我方產(chǎn)品在臺(tái)灣地區(qū)的推廣奠定了堅(jiān)實(shí)的基