傳感器的加工工藝(ppt30頁)(完整版)
【正文】 上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。 化學(xué)氣相沉積 ? 化學(xué)氣相沉積 ( Chemical Vapor Deposition， 簡稱 CVD)技術(shù)是利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng) ， 生成固態(tài)沉積物的工藝過程 。這些位于薄膜表面的生成物，也將利用擴(kuò)散效應(yīng)而通過邊界層到溶液里，而后隨著溶液被排出。 ? 從工藝上講，傳感器制造技術(shù)分為部件及子系統(tǒng)制造工藝和封裝工藝。 濕法腐蝕工藝 ? 所謂濕法腐蝕，就是將晶片置于液態(tài)的化學(xué)腐蝕液中進(jìn)行腐蝕，在腐蝕過程中，腐蝕液將把它所接觸的材料通過化學(xué)反應(yīng)逐步浸蝕溶掉。被去掉的下層薄膜只起分離層作用，故稱其為犧牲層（ sacrificial layer，厚度約 12μ m）。在離子能量合適的情況下，入射離子在靶表面原子碰撞過程中將后者濺射出來。 ? 為了實(shí)現(xiàn)向特征尺寸為 ｍ的跨越，出現(xiàn)了下一代光刻技術(shù)，如深紫外光刻 (DUV)、 電子束投影光刻 (EBL)、 X射線光刻 (XRL)、 離子束投影光刻 (IBL)、 極紫外光刻(EUV)和壓印光刻技術(shù) (NIL)。 典型材料的加工工藝 典型材料的加工工藝 典型材料的加工工藝 注：人頭發(fā)的直徑大約是 70～ 80μ m。 ? 離子注入的基本過程 （ 1）將某種元素的原子或攜 帶該元素的分子經(jīng)離化變成 帶電的離子 （ 2）在強(qiáng)電場中加速，獲得 較高的動能 （ 3）注入材料表層（靶）以 改變這種材料表層的物理或 化學(xué)性質(zhì)
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