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地震資料處理流程與方法介紹ppt53頁(yè))(完整版)

  

【正文】 ( 3) 50Hz工業(yè)電干擾壓制 使用單頻干擾壓制模塊: ①判斷干擾是否為單頻干擾,并把含有單頻干擾的地震記錄挑選出來(lái); ②針對(duì)選出來(lái)的地震記錄,進(jìn)行單頻壓制; ③數(shù)據(jù)體合并。 利用置完道頭的數(shù)據(jù),繪制炮、檢波點(diǎn)位置圖、 線性動(dòng)校正圖 。 數(shù)據(jù)輸入 將野外磁帶數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成處理系統(tǒng)格式,加載到磁盤上; 輸入數(shù)據(jù)質(zhì)量檢查: 炮號(hào)、道號(hào)、波形、道長(zhǎng)、采樣間隔等等。提 綱 引言 一、數(shù)據(jù)加載 二、置道頭 三、靜校正 四、疊前噪音壓制 五、振幅補(bǔ)償 六、疊前反褶積 七、 CMP道集分選 八、速度分析 九、動(dòng)校正、切除與疊加 十、剩余靜校正 十一、傾角時(shí)差校正( DMO)與疊前時(shí)間偏移 十二、疊后提高分辨率處理 十三、疊后噪音壓制 十四、疊后時(shí)間偏移處理 結(jié)束語(yǔ) 地震資料采集 地震資料處理 地震資料解釋 什么是地震資料處理 所謂地震資料處理,就是利用數(shù)字計(jì)算機(jī)對(duì)野外地震勘探所獲得的原始資料進(jìn)行加工、改造,以期得到高質(zhì)量的、可靠的地震信息,為下一步資料解釋提供直觀的、可靠的依據(jù)和有關(guān)的地質(zhì)信息。 二、置道頭 道頭:每個(gè)地震道的開始部分都有一個(gè)固定字節(jié)長(zhǎng)度的空余段,這個(gè)空余段用來(lái)記錄描述本道各種屬性的信息,稱之為道頭。 觀測(cè)系統(tǒng)檢查 二、置道頭 炮點(diǎn)、檢波點(diǎn)位置圖 線性動(dòng)校正圖 靜校正 靜校正是把由地表激發(fā)、接收獲得的地震記錄,校正到一個(gè)假想的平面上(基準(zhǔn)面),目的是消除地表起伏變化對(duì)地震資料的影響,是陸地地震資料常規(guī)處理流程中必不可少的一環(huán),是實(shí)現(xiàn)共中心點(diǎn)疊加的一項(xiàng)最主要的基礎(chǔ)工作。 壓制前 壓制后 去噪前 去噪后 噪 音 四、疊前噪音壓制 高能隨機(jī)干擾壓制 四、疊前噪音壓制 相干干擾壓制 —— 二維濾波 F— K; F— X 前 后 噪音 四、疊前噪音壓制 去多次波前后剖面 多次波壓制 —— radon(τ p)變換法 四、疊前噪音壓制 其它噪音壓制方法(信號(hào)加強(qiáng)) 相干加強(qiáng) 徑向?yàn)V波 多項(xiàng)式擬合 隨機(jī)噪聲衰減 這些噪音壓制方法,都是建立在資料相鄰道有的效信號(hào)具有相干性和可預(yù)測(cè)的基礎(chǔ)上,對(duì)相干性好的信號(hào)進(jìn)行加強(qiáng),從而壓制相干性不好的噪音。( C=( t/250) n) 補(bǔ)償前 振幅曲線 補(bǔ)償后 振幅曲線 衰減小,能量不發(fā)散 五、振幅補(bǔ)償 地表一致性振幅補(bǔ)償 目的:消除由激發(fā)條件、接收條件和偏移距不同帶來(lái)的能量差異,使地震道的振幅能量分布均勻合理 。目前的流程大都使用一次。 震源脈沖 大地濾波 地震子波 b( t) 六、疊前反褶積 為什么要進(jìn)行反褶積 這樣一來(lái) , 地震記錄也就變成了若干子波疊加的結(jié)果 , 即地震記錄是地震子波和反射系數(shù)的褶積 。 動(dòng)校正 動(dòng)校正前 動(dòng)校正后 九、動(dòng)校正、切除與疊加 九、動(dòng)校正、切除與疊加 動(dòng)校正 動(dòng)校正前 動(dòng)校正后 九、動(dòng)校正、切除與疊加 動(dòng)校拉伸畸變 觀察右圖容易發(fā)現(xiàn),動(dòng)校正后淺層的遠(yuǎn)道出現(xiàn)了一些低頻信息,這是由于動(dòng)校拉伸造成的。它影響多次疊加的結(jié)果,是水平疊加的剖面的質(zhì)量降低。速度被舍棄的反射同相軸,疊加后能量被削弱,另一個(gè)反射同相軸能量被加強(qiáng)。反 Q是利用各反射層的 Q值,恢復(fù)被地層吸收的能量,達(dá)到抬升高頻信號(hào),提高分辨率的目的。 ( 2) F— K域?yàn)V波 —— 主要用于壓制線性相干干擾。提高地震記錄的信噪比。 ( 3)當(dāng)界面彎曲時(shí),疊加剖面中的圖像更為復(fù)雜:同相軸相互交錯(cuò),回轉(zhuǎn)波較多。 最終得到斷點(diǎn)、斷面清晰,反映地下反射界面的真實(shí)位置和構(gòu)造形態(tài)的剖面。
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