太陽能電池制作流程(完整版)
【正文】 ?蝕刻機臺 : RENA InOx ?原理 : 1. 6HF+SiO2?H2SiO6+2H2O(25 ℃ ) ?流程為 : HF去除氧化層 ?DIW洗凈 ?熱風吹干 . ?蝕刻速率選擇比 : ER(SiO2)/ER(Si)~100 太陽電池制造過程 PECVD ?PECVD制程目的 : 沉積抗反射膜 (ARC) ?沉積機臺 : OTB DEPx 1500 ?原理 : 1. NH3+SiH4(400500 ℃ ) ?SiNx+H2 ?流程為 : 硅片裝入 ?加熱 ?沉積 SiNx?冷卻 ?破片清掃 ?硅片卸出 ?沉積厚度 : ~80nm. 太陽電池制造過程 印刷燒結 ?網版印刷與燒結制程目的 : 印刷電極圖案并且通過高溫燒結與基底形成良好的金屬接觸。 ?印刷燒結機臺機臺 : OTB METx 1500(CDF7210) ?流程為 :背電極印刷及烘干 ?背電場印刷及烘干 ?正面電極印刷及烘干 ?前后表面高溫共燒結 ?正面主柵線 (busbar)寬度 : ?正面副柵線 (
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