高電壓工程基礎(chǔ),施圍邱毓昌第2章氣體放電的基本物理過程(完整版)
【正文】 ?0 d0 ex xnn ???d dn xn ??0 e dnn ??00 ( e 1 )dn n n n ?? ? ? ? ?電子碰撞電離系數(shù) α： 代表一個(gè)電子沿電力線方向行經(jīng) 1cm時(shí)平均發(fā)生的碰撞電離次數(shù)。 高電壓工程基礎(chǔ) ? 電負(fù)性氣體的情況 對(duì)強(qiáng)電負(fù)性氣體，除考慮 α和 γ過程外，還應(yīng)考慮 η過程（ 電子附著過程 ）。 0???4 5??4 5 .7 2高電壓工程基礎(chǔ) （ 2）電暈放電的利用 在某些情況下可以利用電暈放電產(chǎn)生的空間電荷來改善極不均勻場(chǎng)的電場(chǎng)分布，以提高擊穿電壓?？梢娫陔娯?fù)性氣體中有效的碰撞電離系數(shù)為 。 形成流注的必要條件是電子崩發(fā)展到足夠的程度后，電子崩中的空間電荷使 原電場(chǎng)明顯畸變 ，大大加強(qiáng)了崩頭及崩尾處的電場(chǎng)。電子的熱運(yùn)動(dòng)速度高、自由行程大，所以其擴(kuò)散比離子的擴(kuò)散快得多?！?高電壓工程基礎(chǔ) 》 施圍 邱毓昌 張喬根（西安交通大學(xué)） 編著 劉青（西安科技大學(xué)） 制作 高電壓工程基礎(chǔ) 第 2章 氣體放電的基本物理過程 帶電粒子的產(chǎn)生與消失 放電的電子崩階段 自持放電條件 不均勻電場(chǎng)中放電的極性效應(yīng) 高電壓工程基礎(chǔ) 帶電粒子的產(chǎn)生與消失 ? 氣體中電子與正離子的產(chǎn)生 （ 1）熱電離 32W kT?波爾茨曼常數(shù) 1023J/K 熱力學(xué)溫度 （ 2）光電離 Wh??普朗克常數(shù) 1034J 高電壓工程基礎(chǔ) ? 帶電質(zhì)點(diǎn)的消失 （ 1）帶電質(zhì)點(diǎn)的擴(kuò)散 帶電質(zhì)點(diǎn)從濃
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