有機合成中的保護基(完整版)
【正文】 Zn, AcOH, 20 0C, l3 h, 80% yield. Sm, I2, MeOH, rt, 5 min, 100% yield Zn, MeOH, reflux, short time。 C, 1 h, 93% yield primary alcohol of a pyranoside. 70% HCOOH, cat. HClO4, 50550 C, good yields . HCOOH, BF3*2MeOH, 90% yield. Cleavage KHCO3, H2O, MeOH, 20176。 C, 3 days Dil. NH3, pH , 20176。 Cleavage T. B. Windholz and D. B. R. Johnston, Tetrahedron Lett., 2555 (1967). R. Yanada, N. Negoro, K. Bessho, and K. Yanada, Synlett, 1261 (1995). Alkyl Vinyl Carbonate: ROCO2CH=CH2 CH2=CHOCOCl, Pyr, CH2CI2, 93% yield. Formation Cleavage Na2CO3, H2O, dioxane, warm, 97% yield. Phenols can be protected under similar conditions. R. A. Olofson and R. C. Schnur, Tetrahedron Lett., 1571 (1977). 1 Alkyl NPhenylcarbamate: ROCONHPh PhN=C=O, Pyr, 20176。 Pyridinium ptoluenesulfonate (PPTS), dihydropyran, CH2C12, 20176。 . N烷基類保護基 C O 2 M eN H 2M e O C H OP h H , r e f l u x ,N a B H 4 , M e O H , 2 0 0 C C O 2 M eH N O M e去保護：催化氫解， Pd（ OH） 2，鈀黑 第三節(jié) 羰基的保護 ORR 39。 39。 硫烷基化試劑： MeI， Me3OBF4， MeOSO2CF3 SSO P i vM e O 2 C OM e 2 P h S iP i v OO O P i vM e O 2 C OM e 2 P h S iP i v OOOM e I ( e x c e s s ) , C a C O 3M e C N H 2 O ( 1 : 1 )9 8 %5 50C 氧化反應(yīng)， X2， NBS， NCS， MCPBA 缺點： 含硫化合物難聞的氣味 水解反應(yīng)用到重金屬鹽，毒性和環(huán)境問題。DCC， HCl， KHCO3/MeI +R C O O H H+C H 2 N 2 R C O O C H 3堿性水解去保護，還有中性條件去保護 R C O O C H 3+ R CO S i M e 3O M eIR CO S i M e 3O+ M e IH 3 OR C O O H + M e 3 S i ( O H )M e 3 S i I 三鹵乙酯 +R C O O H C l 3 C C H 2 O H R C O O C H 2 C C l 3Zn/HOAc， NaSeH， NaTeH， NaBH4/Se（ cat.） 去保護： Benzyloxymethyl (BOM) Ester: RCOOCH2OCH2Ph 1. H2/PdC, EtOH, 250, 70100% yield. 2. Aqueous HCl, THF, 250, 2 h, 7595% yield. Cleavage P. A. Zoretic, P. Soja, and W. E. Conrad, J. Org. Chem., 40,2962 (1975). Phenacyl Ester: RCOOCH2COPh PhCOCH2Br, Et3N, EtOAc, 20176。 , 1 h, 72% yield. PhSeH, DMF, rt, 48 h, 79% yield. 去保護 +R C O O K B r C H 2 C O P h R C O O C H 2 C O P h高分子載體酯： +R C O O H C l OROTFA/DCM 去保護，堿性條件也可去保護。 半硫代縮醛（酮） ORR 39。 39。 OOORR 39。 R O H +O OH +H 2 OO C H 3O C H 3R O硅醚保護基 Trimethylsilyl ether (TMS) Triethylsilyl ether (TES) Tertbutyldimethylsilyl ether (TBDMS) Triisopropylsilyl ether (TIPS) Tertbutyldiphenylsilyl ether (TBDPS) Reagents: TMSCl or TMSOTf / base Deprotection: HF, TBAF Acid stability: TMSTESTBDMSTIPSTBDPS Base stability: TMSTESTBDMSTBDPSTIPS H OO T B ST B S OO T B ST B S OO HT B A F ( 1 e q )T H F , 0 0CH F ( 2 e q )M e C N , 5 0 0C
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