薄膜技術(shù)第五章薄膜材料的評(píng)價(jià)表征及物性測(cè)量(存儲(chǔ)版)
【正文】 薄膜結(jié)構(gòu)的表征 透射電鏡 單 晶 ： 斑 點(diǎn) 非 晶 衍 射 暈 環(huán) 多晶體：環(huán)花樣 (同心圓 ) 薄膜結(jié)構(gòu)的表征 透射電鏡 θ很小， e束與衍射的晶面幾乎是平行的，所以入射線方向約等于由衍射晶面組成的晶帶的晶帶軸。 按波長記錄下來， X射線波長色散譜儀 － WDX。被入射特征 X射線激發(fā)電離的電子稱為光電子。 結(jié)構(gòu)原理：從離子槍產(chǎn)生的一次離子經(jīng)過質(zhì)量聚焦、電磁焦 距后入射到樣品的系統(tǒng)稱為 一次離子光學(xué)系統(tǒng) 。 ?? ?? 電子探針常與 SEM結(jié)合起來，即在獲得高分辨圖象的 同時(shí)，進(jìn)行微區(qū)成分分析。 。 :18:2702:18:27April 2, 2023 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 :18:2702:18Apr232Apr23 1越是無能的人，越喜歡挑剔別人的錯(cuò)兒。 2023年 4月 2日星期日 2時(shí) 18分 27秒 02:18:272 April 2023 1一個(gè)人即使已登上頂峰，也仍要自強(qiáng)不息。 , April 2, 2023 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。 :18:2702:18Apr232Apr23 1世間成事，不求其絕對(duì)圓滿，留一份不足，可得無限完美。 :18:2702:18:27April 2, 2023 1他鄉(xiāng)生白發(fā)，舊國見青山。 薄膜成分的表征 電子探針ＥＰＭＡ測(cè)成分 ?? ?? EPMA是用高速運(yùn)動(dòng)的電子直接轟擊被分析的表面， 當(dāng)高速電子轟擊到原子的內(nèi)層，激發(fā)出各種樣品元素的 特征 X射線，經(jīng)分光后根據(jù)特征 X射線的波長及其強(qiáng)度 作定性和定量分析。就是用質(zhì)譜儀對(duì)從樣品表 面發(fā)射出來的 正負(fù)二次離子進(jìn)行質(zhì)量分析的鑒別表面元素。 俄歇信號(hào)在樣品表面附近產(chǎn)生出來，離子濺射為深度分析提供 了層斷面技術(shù)。 電子顯微鏡的高能電子束，激發(fā)材料（薄膜）中 電子使其 發(fā)射特征 X射線 ，進(jìn)而標(biāo)識(shí)成分。 薄膜結(jié)構(gòu)的表征 掃描電鏡 薄膜結(jié)構(gòu)的表征 透射電鏡 被加速的電子束 穿過 厚度很薄的樣品，并在這一過程中與樣品中的 原子點(diǎn)陣 發(fā)生相互作用，從而產(chǎn)生各種形式的有關(guān)薄膜結(jié)構(gòu)和成分的信息。 2dhklsinθB= n λ 20 30 40 50 60 70 80 90 1000100000202300300000400000500000 2 (degree) Intensity (a.u.)1 . 0 P a0 . 9 P a0 . 8 P a0 . 7 P a0 . 6 P a0 . 5 P a0 . 4 P a(0 0 2 )(0 0 4 )ZAO的 X射線衍射圖 掠入射角 X射線衍射 (GIXS): X射線衍射技術(shù)可以唯一的確定近固體表面的晶相。 膜厚的測(cè)量及控制 橢偏儀 膜厚的測(cè)量及控制 石英晶體振蕩法 這是一個(gè)動(dòng)力學(xué)測(cè)重方法， 通過沉積 物使機(jī)械振動(dòng)系統(tǒng)的慣性增加，從而 減小振動(dòng)頻率。 膜厚的測(cè)量及控制 臺(tái)階儀 膜厚的測(cè)量及控制 臺(tái)階儀 膜厚的測(cè)量及控制 干涉儀 使用 Fizeau盤實(shí)現(xiàn)，它能夠發(fā)生多種反射導(dǎo)致一尖銳的干涉現(xiàn)象。 3) 探針曲率半徑 , 更高的橫向分辨率 . 4) WindowsXP平臺(tái)的軟件。根據(jù)橢圓偏振方 程，借助計(jì)算機(jī)對(duì)其進(jìn)行分析，即可確定薄膜的厚度和 其他光學(xué)性能。 X射線衍射是確定三維有序固體的經(jīng)典和成熟的技術(shù)。 將這一系列的信號(hào)分別接受處理之后，即可得到樣品表層的各種信息。 薄膜成分的表征 X射線能量色散譜 EDX （能譜儀） 常規(guī)成分分析儀器，廣泛安裝于 SEM、 TEM上。 俄歇電子譜的另一個(gè)主要應(yīng)用
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