spc統(tǒng)計(jì)制程管制--yangrungen(1)(存儲(chǔ)版)
【正文】 51 52 52 5 12 50 50 49 52 51 3 25 53 51 51 50 51 3 13 49 49 49 50 55 6 1,250 120 X20 著作權(quán)科建所有，重製必究 － R管制圖用數(shù)據(jù)表 X 與 R算出記入數(shù)據(jù)表內(nèi)。 31 著作權(quán)科建所有，重製必究 管制圖的判定方法 ? 不正常點(diǎn)子之動(dòng)態(tài)之管制圖 1. 在中心線附近無(wú)點(diǎn)子 。 2. 3 點(diǎn)中有 2點(diǎn)分佈於從中心線起算 2 Sigma以上 (同側(cè) ) 。 3. 9 點(diǎn)在同一側(cè)。 。 41 著作權(quán)科建所有，重製必究 製程能力分析 ↓(準(zhǔn)確度越低越佳 ) Ca ＝ － Sc / (T/2) ↑(精密度越高越佳 ) Cp ＝ T/6σ( 雙邊規(guī)格 ) Cp ＝ (Su－ )/3σ或 ( － SL) / 3σ之最小值 (單邊規(guī)格 ) ↑（製程能力越高越佳） Cpk ＝ (1－ │Ca│) Cp；單邊規(guī)格時(shí)， Cpk=Cp。3σ 2700 177。4σ 6210 177。kσ Cp 不良率 ppm 177。2σ 308700 177。1σ 317400 177。 ：估計(jì)機(jī)器能力，可妥善安排適當(dāng)機(jī) 器生產(chǎn)適當(dāng)零件。 。 8. 15 點(diǎn)分佈於同側(cè) ， 從中心線起算 1 Sigma 的範(fàn)圍 (兩側(cè) ) 計(jì)量值管制圖判讀 35 著作權(quán)科建所有，重製必究 36 著作權(quán)科建所有，重製必究 37 著作權(quán)科建所有，重製必究 計(jì)數(shù)值管制圖判讀 1. 1 點(diǎn)超出從中心線起算 3 個(gè) Sigma 。 32 著作權(quán)科建所有，重製必究 33 著作權(quán)科建所有，重製必究 A、管制圖的判讀法 管制圖之不正常型態(tài)之鑑別是根據(jù)或然率之理論(又稱小機(jī)率理論 )而加以判定的，出現(xiàn)下述之一項(xiàng)者，即為不正常之型態(tài)，應(yīng)調(diào)查可能原因。 3. 點(diǎn)子之分佈呈隨機(jī)狀態(tài) ， 無(wú)任何規(guī)則可尋 。4σ % % 14 著作權(quán)科建所有，重製必究 共同原因與特殊原因之對(duì)策 （局部面） ? 必須消除產(chǎn)生變異的特殊原因，否則影響很大。β risk) 管制界限 ?值 177。1σ % % μ177。成 品經(jīng)觀察、量測(cè)或測(cè)試可衡量其績(jī)效。 4 著作權(quán)科建所有，重製必究 製程管制系統(tǒng) 製 程 中 對(duì) 策 績(jī)效報(bào)告 成 品 改 善 製程作業(yè) 人員 設(shè)備 材料 方法 環(huán) 境 成品 5 著作權(quán)科建所有，重製必究 製程管制系統(tǒng) ： 製程乃指人員、設(shè)備、材料、方法及環(huán)境的輸入，經(jīng) 由一定的整理程序而得到輸出的結(jié)果，一般稱之成品。 % % μ177。β) α：管制界限以外之機(jī)率 β：平均值移動(dòng)後，仍在管制界限內(nèi)之機(jī)率 13 著作權(quán)科建所有，重製必究 第一種錯(cuò)誤與第二種錯(cuò)誤 (α risk 。3σ % % 177。 2. 少數(shù)的點(diǎn)子 ， 落在管制界限附近 。 此種稱之為”不穩(wěn)定型”如圖四。 7. 14 點(diǎn)在同一側(cè) ， 分佈呈現(xiàn)上下交替。 例如：製程及管制特性之確定，決定量測(cè)方法，數(shù) 據(jù)如何收集等。 ：作為局部問(wèn)題對(duì)策或管理階層系統(tǒng) 改進(jìn)之參考。kσ 百分比（ %） 百萬(wàn)分缺點(diǎn)數(shù) 177。1σ 697700 177。kσ Cp 不良率 ppm 規(guī)格界限寬度 規(guī)格界限寬度 50 著作權(quán)科建所有，重製必究 177。5σ 233 177。4σ 177。 XXX42 著作權(quán)科建所有，重製必究 製程能力分析 P↓（綜合評(píng)價(jià)） (1) ZL ＝ ?3Cp（ 1＋ Ca）超出下限 PL% ZU＝ 3Cp（ 1－ Ca）超出上限 PU% P% ＝ PU％＋ PL%總不良率 (2)ZU＝（ SU－ ） /σ， ZL＝（ SL－ ） /σ (1) ：製程平均值 (3) T：公差 (2) σ：製程標(biāo)準(zhǔn)差 (4)Sc：規(guī)格中心 XXXX43 著作權(quán)科建所有，重製必究
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