酸堿處理聚酰亞胺新(存儲(chǔ)版)
【正文】 表征： QUANTA200型低真空掃描電子顯微鏡 SEM， BRU KER Tensor 27 傅里葉變換衰減全反射紅外光譜儀 ATR 結(jié)果與討論 ? 酸堿處理前后的 CF/PI紅外譜圖 圖 1 （ a） PI/CF經(jīng) HCl處理后的紅外譜圖 未處理的 C F / P I存在明顯的亞胺特征峰 1780cm 1 （ C=O)， 1720cm1(C=C)， 1370cm1（ C=O） ， 經(jīng) HCl處理后 ， 各 特 征 峰 的 位 置 沒 有 發(fā) 生 改 變 。 HCl10 HCl30 復(fù)合材料摩擦表面有輕微的塑性形變跡象，表面粘有磨屑，僅有部分出現(xiàn)斷裂現(xiàn)象，呈粘著磨損特征。 NaOH處理 90分鐘時(shí) ， 由于基體的水解大部分的碳纖維已經(jīng)從基體中脫落出來 ， 突出的纖維被磨平磨損主要是基體的磨損和纖維的磨平 ， 所以摩擦系數(shù)最小 ， 磨損率也緊比空白樣大一點(diǎn)點(diǎn) 。 （ 4） 當(dāng)用 NaOH處理 10分鐘后，聚酰亞胺 1780cm1處的特征峰消失，隨著處理時(shí)間的增加 ， 聚酰亞胺 1720cm1處的特征峰明顯減弱 ， 1370cm1處的特征峰逐漸轉(zhuǎn)移成 1418cm1特征峰 ， 表明在經(jīng)過堿處理后 , 亞胺結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變成胺酸結(jié)構(gòu)。 ? 最后，向給予作者關(guān)心和愛護(hù)而未能在此一一提及的親人、老師、同學(xué)和朋友致以衷心的謝意。 ? 在論文研究期間還得到了穆麗珀師姐的鼎力相助，另外楊長(zhǎng)成、王杰等師兄師姐對(duì)我的論文也提供了許多幫助，在此謹(jǐn)向他們表示我由衷的謝意和良好的祝愿。分析認(rèn)為聚酰亞胺復(fù)合材料用 10%的 NaOH溶液處理過后發(fā)生開環(huán)反應(yīng)，基體變得疏松造成材料內(nèi)部缺陷，摩擦過程中 CF易從基體脫落，富集在摩擦表面，導(dǎo)致嚴(yán)重的磨粒磨損，表現(xiàn)為材料的磨損率急劇增大。 NaOH30 NaOH60 NaOH處理 30分時(shí) ，磨損表面被嚴(yán)重拉傷 ，犁溝明顯 ， 而且有大量磨屑散落 ， 呈現(xiàn)出明顯的磨粒磨損特征。分析認(rèn)為聚酰亞胺復(fù)合材料用 10%的 NaOH溶液處理過后發(fā)生開環(huán)反應(yīng)，基體變得疏松造成材料內(nèi)部缺陷，摩擦過程中 CF易從基體脫落，富集在摩擦表面，導(dǎo)致嚴(yán)重的磨粒磨損，表現(xiàn)為材料的磨損率急劇增大。25 7 mm ；下環(huán)（鋼環(huán)）為 248。采用 BRUKER Tensor 27 傅里葉變換衰減全反射紅外光譜儀 (ATR)測(cè)定處理前后材料的傅里葉變換紅外光譜，采用掃描電子顯微鏡（ SEM）觀察磨損表面形貌，初步探討了材料磨損機(jī)理。但純 PI 因較低的抗拉、 抗壓強(qiáng)度 ，不適宜單獨(dú)作為摩擦
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