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構(gòu)造地質(zhì)學(xué)復(fù)習(xí)(存儲版)

2025-09-03 17:11上一頁面

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【正文】 狀分類1)直立褶皺2)斜歪褶皺3)倒轉(zhuǎn)褶皺4)平臥褶皺5)翻卷褶皺IB型:等斜線也向內(nèi)弧收斂,并與褶皺面垂直,各線長短大致相等,褶皺層真厚度不變,內(nèi)弧曲率仍大于外弧曲率,為典型的平行褶皺。縱彎褶皺作用和橫彎褶皺作用的主要區(qū)別是:節(jié)理的基本特征:分布的普遍性,發(fā)育不均性,以及方向性和組系性.張節(jié)理:巖石受張應(yīng)力超過抗張強度,形成的節(jié)理。(4)常常組成共軛“X”型共軛裂隙。單條節(jié)理短而彎曲,若干條呈側(cè)列。一般被礦脈充填。與水平擠壓有關(guān)的節(jié)理:1)早期平面共軛剪節(jié)理系2)晚期平面共軛剪節(jié)理系3)橫張節(jié)理生長指數(shù):是同一巖層下降盤地層厚度與上升盤地層厚度的比值。正斷層的形成的地質(zhì)條件:局部性拉伸作用差異升降可形成。地層學(xué)特征:包括括地層的新老、重復(fù)、受斷層面產(chǎn)狀、斷層真位移,地層產(chǎn)狀,觀察剖面的控制。上盤常發(fā)育逆牽引構(gòu)造。生長斷層:在沉積過程中發(fā)育的斷層,稱為生長斷層斷層效應(yīng):水平擠壓有利于逆沖斷層的發(fā)育(區(qū)域性的水平擠壓)正斷層特點:上盤下滑、傾角大、角礫棱角明顯、垂直走向有拉長。構(gòu)造窗:這種由上盤巖塊環(huán)繞,四周以斷層線為界的下盤局部露頭稱為構(gòu)造窗。節(jié)理組:由同一時期,相同應(yīng)力作用下,產(chǎn)生的方向相互平行或大致平行,力學(xué)性質(zhì)相同的一排節(jié)理。張節(jié)理的基本特征:發(fā)育于砂、礫巖等巖石中的剪裂,一般穿切礫石和膠結(jié)物。剪節(jié)理的基本特征:(1)構(gòu)造節(jié)理的分類:;;;、剪節(jié)理。節(jié)理:是巖石受力發(fā)生破裂,兩側(cè)的巖石沿破裂面無明顯位移的斷裂構(gòu)造。橫彎褶皺作用:巖層受到和層面垂直的外力作用而發(fā)生褶皺,稱為橫彎褶皺作用??v彎褶皺作用的基本特征:為典型的頂薄褶皺。~80176。傾伏角為0176。~80176。生長背斜:在普遍沉降沉積的背景上,由于局部隆起形成的背斜。閉合面積:背斜已被閉合部分所占的面積,也就是閉合構(gòu)造內(nèi)最低一條完全閉合的構(gòu)造等高線所包圍的面積。樞紐5③構(gòu)造:具層理的,易發(fā)生塑性變形。:底礫巖、古風(fēng)化殼、剝蝕面、重礦物、巖性、巖相突變產(chǎn)狀基本一致,巖性或所含化石一致或遞變。鉛直厚度視厚度真厚度。2①水平巖層特征:水平巖層在地質(zhì)圖中的表現(xiàn)為其地質(zhì)界線與等高線平行或重合,水平巖層出露和分布狀態(tài)完全受地形控制。地質(zhì)學(xué):研究地球物質(zhì)組成,結(jié)構(gòu),物理化學(xué)變化,演化歷史的學(xué)科。V字形法則:相反相同:地層傾向與地面坡度方向相反時,地質(zhì)界線與等高線彎曲方向相同,且等高線的彎曲曲率大于地質(zhì)界線的彎曲曲率。傾斜巖層的露頭形態(tài)受產(chǎn)狀和地形影響,并符合V字型法則傾斜巖層的厚度有三種分別是:真厚度、視厚度、鉛直厚度。整合接觸:上、下地層在沉積層序上沒有間斷,角度不整合:不整合面上、下兩套地層間不僅有地層缺失,而且產(chǎn)狀不同。不整合的判別標(biāo)志:應(yīng)力狀態(tài):物體受力時,其內(nèi)部通過某點的截面上應(yīng)力的大
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