【正文】 ? 貌多種多樣。 ? 高硫鎳層 w(S)% mVmVNiNiNiiN201 6 01 2 021＝－＝～高硫光亮光亮半光亮????????????電鍍鎳添加劑 ? 1 第一類(lèi)光亮劑（初級(jí)光亮劑） ?（ 1）類(lèi)型 具有 ＝ C－ SO2－結(jié)構(gòu) ? ① 對(duì)甲苯磺酰胺； ? ② 糖精（芳香族磺酰亞胺類(lèi)） ? ③ 噻吩－ 2－磺酸 ? ④ 苯亞磺酸（芳香族亞磺酸） ?（ 2）初級(jí)光亮劑的特點(diǎn) ? ① 能使鍍層晶粒減小，具有一定的光澤，但單 ? 獨(dú)使用時(shí)不能產(chǎn)生全光亮鍍層，只能與第二 ? 類(lèi)光亮劑配合使用，才能使鍍層達(dá)到全光亮； ? ② 能降低鍍層的張應(yīng)力，但用量過(guò)多時(shí)會(huì)給鍍層帶來(lái) ? 壓應(yīng)力； ? ③ 具有 ＝ C－ SO2－ 結(jié)構(gòu)，在鎳催化作用下，使鍍層 ? 的硫含量達(dá) ～ ％； ? ④ 通過(guò)初級(jí)光亮劑的不飽和鏈吸附在陰極表面的晶體 ? 生長(zhǎng)部位。 ? 當(dāng)光亮鎳層存在孔隙時(shí)，高硫鎳鍍層成為微電池的陽(yáng)極，光亮鎳成為陰極，使腐蝕向高硫鎳層橫向擴(kuò)展，而首先被腐蝕掉。 （ 3）點(diǎn)蝕敏感位置（點(diǎn)蝕源） ? ① 金屬表面的非金屬夾雜物處； ? ② 金相組織不均勻，晶界處； ? ③ 鈍化膜粗化、劃傷、應(yīng)力集中處、晶格缺 ? 陷處； ? ④ 鍍層、漆膜的不致密，針孔、氣泡處； （ 4） 蝕孔的誘導(dǎo)期 ? 蝕孔的誘導(dǎo)期的長(zhǎng)短取決于介質(zhì)中的陰離子濃度、 pH值、金屬的純度和表面的完整性、外加極化電勢(shì)等因素。 FeCr孔蝕最低Cl －濃度 ?（ 2）介質(zhì)濃度 ? 點(diǎn)蝕電勢(shì)與鹵素離子濃度的關(guān)系式： ? 對(duì)于 Cr17不銹鋼 ? 對(duì)于 18－ 8不銹鋼 ???????????????IIbrBrBrbrClClbrCCC?????????????BrBrbrClClbrCC??? （ 3）介質(zhì)中其他陰離子作用 ? 介質(zhì)中的存在 OH,NO3,SO42,ClO4等陰離子，對(duì)不銹鋼、鋁的點(diǎn)蝕起緩蝕作用，阻礙點(diǎn)蝕的發(fā)展。如表 2－ 1。 ?111 )(c o r rgc o r r iiiig ?? ??)l n (lnlnlnln122121221121121SSiiiiCACc o r rc o o rCAACAc o r rc o r rc o r rg????????????????????? 變形 ???????? 21121212 ,),( CAc o r rc o r rc o r rc o r r iiSSF ?????的線性關(guān)系：與12lnlnSS?21212lnlnCACSS ????????)e x p ()(21121122 212CAc o r rc o r rc o r rc o r r CACSiSi????? ?? ????? ?? （ 2）若 與 較接近，接觸后金屬 M1上還存在有自腐蝕的陰極過(guò)程的接觸腐蝕效應(yīng)。 3 產(chǎn)生晶間腐蝕的兩個(gè)必須具備的條件 ? （ 1）內(nèi)因：晶界物質(zhì)的物理化學(xué)狀態(tài)與晶粒 ? 不同； ? （ 2）外因：特定的環(huán)境條件；腐蝕介質(zhì)能使 ? 晶界、晶粒電化學(xué)性質(zhì)不均勻性 ? 顯示出來(lái)。我國(guó)制定的不銹鋼晶間腐蝕試驗(yàn)方法，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)為～ 5－ 90。 ? 5 硝酸－氫氟酸法 ? 配制 w(HNO3)=10%和 w(HF)=3%的混合溶液，試樣在70177。 ?腐蝕原電池： ? 電勢(shì)較正的金屬為陰極，電勢(shì)較負(fù)的金屬為陽(yáng)極而發(fā)生優(yōu)先溶解。 ? （ 2）盡可能地采用低鋅黃銅； 222 C u C lCuClCu ??CueCu ??? 22砷對(duì)黃銅脫鋅的影響 ?二 石墨化腐蝕 ? 灰鑄鐵上鐵選擇性地溶解而石墨沉積在鑄鐵的表面，這種腐蝕成為鑄鐵的石墨化腐蝕。 ? 2 幾乎所有的腐蝕介質(zhì)都可使金屬或合金產(chǎn)生 ? 縫隙腐蝕。 ? 2 不同之處： ? （ 1）腐蝕產(chǎn)生的條件 ? 小孔腐蝕： 介質(zhì)中需含有活性陰離子，首先有蝕孔再 ? 孔生長(zhǎng)； ? 縫隙腐蝕： 任何介質(zhì)都可產(chǎn)生縫隙腐蝕，首先存在縫隙； ? 孔蝕的電勢(shì)值高于縫隙腐蝕的電勢(shì)值。蝕孔底部應(yīng)力集中使膜再次 ? 破裂，成為新的活性陽(yáng)極區(qū)，加速陽(yáng)極溶解，蝕 ? 孔進(jìn)一步加深； ? （ 6）膜反復(fù)形成、破壞，使裂紋向縱深發(fā)展，形成穿 ? 晶型應(yīng)力發(fā)生破裂； 圖7－5 ?三 應(yīng)力腐蝕破裂的影響因素 ? 以不銹鋼的氯化物應(yīng)力腐蝕破裂為例（不銹鋼氯脆） ?1 腐蝕介質(zhì) （ 1） 氯化物種類(lèi)的影響 ? 影響程度 Mg2+Fe2+Ca2+Li+Na+。 ? pH值過(guò)低，引起金屬全面腐蝕； ? pH值過(guò)高，氫氧化物膜形成，減緩應(yīng)力腐蝕； （ 4）電勢(shì)的影響 ? 由于應(yīng)力腐蝕破裂常發(fā)生在三個(gè)過(guò)渡電勢(shì)區(qū)，由此，可用外加電流進(jìn)行陽(yáng)極或陰極極化來(lái)改變電勢(shì)。 ? 氫損傷分為： ? 1 氫腐蝕（ HA） ? 氫與鋼中的碳化學(xué)反應(yīng)生成 CH4，導(dǎo)致材料脫碳及沿 ? 晶開(kāi)裂，使材料失去力學(xué)性能 ； ? 2 氫鼓泡 (HB) ? 氫在金屬內(nèi)部擴(kuò)散、聚集成高氫區(qū)，鼓泡使金屬內(nèi)部產(chǎn)生裂紋； ? 3 氫化物氫脆 (HE) ? 氫與一些親和力大的金屬元素如 Ti, Nb, Zr 生成金屬 ? 氫化物，導(dǎo)致材料脆性斷裂； ?一 氫損傷的特征 ? 不銹鋼氫損傷與應(yīng)力腐蝕破裂模型。 ? 該理論對(duì)于金屬中含氫量較高，能很好地解釋裂紋源的孕育期、裂紋的不連續(xù)擴(kuò)展和應(yīng)變速率對(duì)裂紋的影響。 ? 當(dāng)應(yīng)力大時(shí)，新的位錯(cuò)與氫氣團(tuán)在晶界處塞積，使得氫在塞積處聚集，其端部形成裂紋。 ? 裂紋擴(kuò)展速率 與疲勞應(yīng)力強(qiáng)度因子 ? 的關(guān)系如圖 7－ 36 )/lg( dNda )lg( K?第四節(jié) 磨損腐蝕 ?磨損腐蝕： ? 由于腐蝕性流體和金屬表面間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而引起金屬的加速破壞稱(chēng)為磨損腐蝕。 ? 2 潮的大氣腐蝕 ? 金屬在 較高但小于 100％的大氣中的一種腐蝕。 圖8－9 圖8－10，8－11 ? 3 大氣成分的影響 ? （ 1）大氣中有害氣體的影響 ? ① SO2的影響 ? SO2能加速金屬的腐蝕速度。 ?（ 2）酸、堿、鹽的影響 ? 介質(zhì)的酸堿性的改變，將影響去極化劑（如 H＋ ）的含量及金屬表面膜的穩(wěn)定性，進(jìn)而影響金屬的腐蝕速度的大小。 ?一 土壤電解質(zhì)的性質(zhì) ? 1 土壤的組成與結(jié)構(gòu) （ 1）多相：土粒、水、空氣固、夜、氣三相組成，且土粒 中含有多種無(wú)機(jī)礦物質(zhì)以及有機(jī)物質(zhì)； ? 多孔：團(tuán)粒結(jié)構(gòu)、顆粒間形成大量毛細(xì)管微孔或孔 ? 隙，孔隙中充滿(mǎn)水和氣； （ 2）結(jié)構(gòu)的不均勻性，土壤中各種微結(jié)構(gòu)的物理－化學(xué)性 質(zhì)，尤其與腐蝕有關(guān)的電化學(xué)性質(zhì)有明顯的差異； ? 2 土壤的導(dǎo)電性 ? 土壤的含水量和含鹽量高，電阻率升高，土壤腐蝕嚴(yán)重。 ? 雜散電流的腐蝕特征：陽(yáng)極區(qū)局部腐蝕； ? 防止措施：排流法；絕緣法；犧牲陽(yáng)極法； ? 7 微生物腐蝕 ? 和土壤有關(guān)的微生物有四類(lèi)： ? 硫化菌（ SOB）、厭氧菌（ SRB）、 ? 真菌、異養(yǎng)菌。如鉻、鋯、含鉻鎳的不銹鋼； ? （ 4）在土壤條件下不發(fā)生陽(yáng)極溶解的金屬如鈦、鉭； ? 2 陰極過(guò)程 ? 陰極過(guò)程是氧的還原： ? 在酸性很強(qiáng)的土壤中，才發(fā)生氫的去極化： ? 不同土壤條件下腐蝕控制過(guò)程有三種形式： ? 陰極控制；陽(yáng)極控制；陰極－電阻混合控制； ???? OHeOHO 442 22222 HeH ???圖8－16 四 土壤腐蝕的影響因素 ? 1 孔隙度（透氣性） ?。 ? 5 新舊管線構(gòu)成的腐蝕 ? 當(dāng)新舊管線連接在一起時(shí)，由于舊管線表面有腐蝕產(chǎn)物層，使其電極電勢(shì)比新管正，成為腐蝕電池是陰極，加速新管腐蝕。 ? 這些構(gòu)成地下“地下動(dòng)脈”的設(shè)備往往難于檢修，給生產(chǎn)帶來(lái)很大的危害，尤其在石油化工行業(yè)，土壤腐蝕防不勝防。 ? NH3 易溶于水膜中，使 pH值增加，對(duì)鋼鐵起緩蝕作用。 ? 2 溫度和溫差的影響 ? 溫度影響相對(duì)濕度（臨界相對(duì)濕度），影響金屬對(duì)水分子的凝聚作用。 ? 大氣腐蝕屬于電化學(xué)腐蝕，具備電化學(xué)腐蝕的三個(gè)條件： ? （ 1）具有電勢(shì)不同的陰、陽(yáng)極； ? （ 2）有濕氣或凝露形成電解質(zhì)溶液； ? （ 3）相互間構(gòu)成電回路； ?一 金屬表面水膜的形成 ? 1 雨、雪、霧、露形成水膜厚度約 1mm； ? 2 飽和凝聚，水膜厚度約 20～ 30μm； ? 3 毛細(xì)管凝聚，水膜厚度一般小于 1μm； ? 4 吸附凝聚，一般的固體物質(zhì)表面能吸附水分 ? 子形成一層薄的水分子層； ? 5 化學(xué)凝聚，當(dāng)金屬表面含有與雨水形成水化 ? 物的鹽類(lèi)物質(zhì)時(shí)，對(duì)水分子的吸附力更強(qiáng)； 圖8－3 ?二 大氣腐蝕的分類(lèi)（按大氣干濕程度分類(lèi)） ? 1 干的大氣腐蝕 ? 金屬在干燥大氣中不存在液膜層時(shí)的腐蝕稱(chēng)為干的大氣腐蝕。 圖7－35 ，7－36 ? 2 滑移帶優(yōu)先溶解理論 ? 認(rèn)為在循環(huán)應(yīng)力下改變了金屬結(jié)構(gòu)的均勻性，破壞了原有晶體結(jié)構(gòu)，產(chǎn)生了電化學(xué)不均勻性。金屬內(nèi)外的氫與金屬的位錯(cuò)結(jié)合形成 Cottrell氣團(tuán)。 ?可逆氫脆的特點(diǎn)： （ 1） 滯后破壞，存在滯后破壞應(yīng)力范圍； （ 2） 金屬中氫含量升高，下限臨界應(yīng)力值降低； （ 3） 溫度在－ 30～ 30℃ 范圍內(nèi)最容易發(fā)生氫脆； 圖7－32 ?四 氫損傷機(jī)理 ? 1 氫壓理論 ? 該理論認(rèn)為金屬中一部分過(guò)飽和氫在晶界、孔隙或缺陷處析出，結(jié)合成分子氫。 ? 機(jī)械拋光比化學(xué)拋光、電解拋光的 SCC 敏感性大； ? 砂紙干磨比砂紙濕磨的 SCC 敏感性大； ? 噴砂、錘擊減弱 SCC 敏感性； ?（ 3）合金成分的影響 ? 不銹鋼中合金元素： ? Ni Ni含量 ↑，耐 SCC性能增強(qiáng)； ? C C含量 % 耐 SCC性能增強(qiáng)，但晶間腐 ? 蝕傾向增大； ? Cr Cr含量 5～ 10％，不產(chǎn)生 SCC。 ?問(wèn)題：分析產(chǎn)生 SCC的原因。且膜上存在缺陷； ? （ 2）缺陷部位上的電極電勢(shì)比其他完整部位低，成為活性 ? 點(diǎn)； ? （ 3）應(yīng)力作用下，活性點(diǎn)處被破壞，成為腐蝕電池的陽(yáng)極； ? （ 4）陽(yáng)極面積小，陰極面積大，腐蝕電流加大，活性點(diǎn)處 ? 的金屬溶解； ? （ 5）形成溝狀裂紋，裂紋尖端處應(yīng)力集中，加速陽(yáng)極溶解， ? 使裂紋繼續(xù)擴(kuò)展，導(dǎo)致金屬破裂。 縫內(nèi) O2少，電位負(fù)，為陽(yáng)極區(qū)， 縫外 O2多，電位正，為陰極區(qū)。如灰塵、砂 ? 粒、腐蝕產(chǎn)物。 黃銅脫鋅腐蝕形態(tài) ? 3 腐蝕機(jī)理（溶