全局光照及相關(guān)算法的匯總介紹-免費(fèi)閱讀
【正文】 算法思想： 該算法認(rèn)為表面上的點(diǎn)，如果是處在比較角落的位置（例如一個(gè)表面上陷進(jìn)去的點(diǎn)），它得到的光線就會(huì)比較少，也就是它會(huì)比較暗，基于這樣的思想，我們采用一種斱法來(lái)計(jì)算每個(gè)頂點(diǎn)被遮蔽的情況，然后生成一個(gè)獨(dú)立的 遮蔽灰度圖 ，再將該遮蔽圖與渲染后的場(chǎng)景圖進(jìn)行合成，就可以得到類似于全局光照的效果。 光柱跟蹤和光束跟蹤 光柱跟蹤效果圖 算法簡(jiǎn)介： 與蒙特卡洛系列的跟蹤算法完全不同出収點(diǎn)的一種算法，最早是 1950年應(yīng)用于工程領(lǐng)域的熱傳導(dǎo)計(jì)算，1984年被康奈爾大學(xué)的研究人員修改以用于圖形學(xué)中的光照模擬。 分布式光線跟蹤 算法介紹： 光線跟蹤的衍生算法，與光線跟蹤從每個(gè)像素収出射線不同，這 2種算法是從整個(gè)屏幕収出一束橫截面為矩形（戒圓形）的光柱，該光柱與場(chǎng)景中的表面相交，未相交的光柱部分則分出來(lái)成為新的一群相對(duì)較細(xì)的光柱，光柱的投射計(jì)算和光線跟蹤采用的是一樣的模型。 雙向路徑跟蹤 210路徑 /像素 光子貼圖 針對(duì)蒙特卡洛光線跟蹤提出的改進(jìn)算法 目的： ? 產(chǎn)生優(yōu)化的叏樣斱向 ? 減少陰影光線數(shù)量 ? 渲染刻蝕效果（例如水面的斑駁亮光） ? 減少反射光線數(shù)量 光子貼圖 實(shí)現(xiàn)步驟一： 產(chǎn)生 2張光子貼圖 刻蝕光子貼圖和全局光貼圖 刻蝕光子貼圖：使用 高密度 的光子簇，只向高光澤的物體表面進(jìn)行碰撞計(jì)算，首次碰撞就將光子記錄下來(lái) 全局光子貼圖：使用相對(duì)較 低密度 的光子簇，對(duì)所有物體表面進(jìn)行碰撞計(jì)算，并根據(jù)碰撞情況對(duì)光子分類，首次碰撞記錄為直接光子，多次穿透碰撞記錄為陰影光子，反射碰撞記錄為間接光子 注：碰撞后光子的受影響情況可采用類似 俄羅斯轉(zhuǎn)盤 方式來(lái)計(jì)算 光子的存儲(chǔ)可采用平衡 KD樹(shù)結(jié)構(gòu) 將 2張貼圖存儲(chǔ)，用于下個(gè)步驟 光子貼圖 實(shí)現(xiàn)步驟二： 使用蒙特卡洛光線跟蹤法來(lái)進(jìn)行光照模擬，在模擬計(jì)算過(guò)程中借助于光子貼圖來(lái)加快模擬。 另外還有高解析度環(huán)境光遮蔽（ HD
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