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廣西南寧市第三中學20xx-20xx學年高一下學期第一次月考化學試題-免費閱讀

2025-07-09 20:57 上一頁面

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【正文】 ②裝置 B 中水的作用是 (用化學方程式表示)。22.(16 分)實驗室可用氯氣與一氧化氮在常溫常壓條件下合成亞硝酰氯(NOCl)。下列能用于 酸化高錳酸鉀溶液的是 (填序號)。20.(14 分)X、Y、Z、W 均為中學化學的常見物質,一定條件下它們之間有如下轉化關系:(1)若 W 為一種一元強堿,Y 具有兩性,X 直接生成 Z 的離子方程式為 。下列說法正確的是A.參與反應的氯氣為 molB.若某溫度下,反應后 c(Cl)/c(ClO3)=6,則溶液中 c(ClO)/c(ClO3)=1C.反應后溶液中 n(Ba2+):n(Cl)可能為 5:4D.BaClBa(ClO)Ba(ClO3)2 三者的物質的量之比可能為 6:2:118.某稀硫酸和稀硝酸的混合溶液 200 mL,平均分成兩份。等體積的四支試管,分別充入氣體 a,將試管倒扣于液體 b 中,試管內液體高度由高到低的是試管編號氣體 a液體 b1Cl2飽和食鹽水2NH3H2O3NO2 :NO =1:2NaOH 溶液4NO2 :O2 =1:1H2OA.①③④② B.①④③② C.②④③① D.②③④①12.利用下列實驗裝置能完成相應實驗且操作正確的是A.制取并收集 HCl B.觀察 Cu 和濃 H2SO4 反應后稀溶液的顏色C.制備純凈 NH3 D.制備 SO213.工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”提純粗硅的工藝流程如下圖所示。高溫三氯氫硅的制備原理:Si+3HCl=SiHCl3+H2,SiHCl3 產品中含有 SiCl4 雜質,兩者常溫下均為液體,下列敘述正確的是高溫A.工業(yè)上制備粗硅主要原理為:SiO2+C = Si(粗)+CO2↑B.制備粗硅的同時會生成 SiC,若二者的物質的量之比為 1:1,則參加反應的 C 和 SiO2 的 質量之比為 1:2C.分離 SiHClSiCl4 可用過濾的方法D.該工業(yè)流程中僅 H2 可以循環(huán)使用14.將 銅鎂合金完全溶解于 100.0mL 某濃度的硝酸中,得到 NO2 和 N2O4 的混合氣體 672mL (標準狀況),向反應后的溶液中加入 400ml mol?L1NaOH 溶液時金屬離子恰好全部沉淀,得到 沉淀,下列說法正確的是A.合金中銅與鎂的物質的量之比為 2:1B.NO2 和 N2O4 的混合氣體中 N2O4 的體積分數(shù)為 % C.該硝酸的物質的量濃度為 mo
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