x射線光電子能譜(xps)---課件-預(yù)覽頁
【正文】 源的光線產(chǎn)生衍射和“聚焦”，從而去掉伴線和韌致輻射， 激發(fā)源 并降低能量寬度， 提高譜儀的分辨 率。光電倍增管采用高抗阻，二次電子發(fā)射材料，增益： 109. 倍增器 光電子或俄歇電子流 104~1A （ 1013~109A） 真空系統(tǒng) ? 兩個基本功能 ： 使樣品室和分析器保持一定的真空度，以便使樣品發(fā)射出來的電子的平均自由程相對于譜儀的內(nèi)部尺寸足夠大，減少電子在運動過程中同殘留氣體分子發(fā)生碰撞而損失信號強(qiáng)度。 XPS信息來自樣品表面幾個到幾十個原子層，因此在實驗技術(shù)上要保證所分析的樣品表面能代表樣品的固有表面。 樣品處理 2）一般商品儀器都配有氬離子槍，可以用氬離子刻蝕法除去表面污染物。 樣品處理 4）真空加熱法，利用加熱樣品托裝置，最高加熱溫度可達(dá)到 1000攝氏度，對于能耐高溫的樣品可用此法除去表面吸附物。 樣品處理 ? 樣品大小 1）在實驗過程中樣品必須通過傳遞桿，穿過超高真空隔離閥，送進(jìn)樣品分析室。 4）但在制備過程中，必須考慮到處理過程可能會對表面成分和狀態(tài)的影響。 后者的優(yōu)點是可在真空中對樣品進(jìn)行處理，其信號強(qiáng)度也要比膠帶法高得多。 在處理樣品時，應(yīng)該保證樣品中的成份不發(fā)生化學(xué)變化。 樣品處理 ? 帶有磁性的材料 由于光電子帶有負(fù)電荷，在微弱的磁場作用下，也可以發(fā)生偏轉(zhuǎn)。 離子束濺射技術(shù) ? 在 χ射線光電子能譜分析中，為了清潔被污染的固體表面，常常利用離子槍發(fā)出的離子束對樣品表面進(jìn)行濺射剝離，清潔表面。掃描離子束的束斑直徑一般在 110mm范圍，濺射速率范圍為 nm/min。利用接觸角測量儀在室溫下測量膜表面的接觸角 ,分別在樣品的 5個不同位置測量 , 取平均值 . XPS利用 X射線光電子能譜儀進(jìn)行測試 , 輻照固體樣品采用 Al Kα ( eV)靶 , 入射角度為 451
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