哈工大近代光學(xué)實(shí)驗(yàn)報(bào)告-預(yù)覽頁(yè)
【正文】 狀態(tài)進(jìn)行對(duì)比，因而可以探測(cè)物體在一段時(shí)間內(nèi)發(fā)生的任何改變。雙曝光法是將初始物光波面與變形以后的物光波面相比較。通過(guò)干涉條紋的分布情況，可以了解波面的變化。這時(shí)干涉條紋的強(qiáng)度分布為因?yàn)樽冃魏蟮奈锕獠ㄇ耙呀?jīng)“凍結(jié)”在全息圖中，在適當(dāng)照明條件下就可以通過(guò)再現(xiàn)產(chǎn)生干涉條紋，從而給定量分析提供了很大的方便。圖2 透明物體的雙曝光光路參考光R用平面光波或球面波均可。圖3給出了另一種典型的雙曝光光路，即漫射光照明的雙曝光光路。圖3 漫射光照明的雙曝光光路2 雙曝光全息照相技術(shù)應(yīng)用1） 雙曝光法在平面物體的位移和變形測(cè)試方面的應(yīng)用用全息干涉法測(cè)量不透明物體表面的變化和位移時(shí)，可采用如圖4所示光路。光刻技術(shù)的進(jìn)展對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)的顯著增長(zhǎng)也有一定的貢獻(xiàn)。但光刻一直是芯片生產(chǎn)成本的限制因素。因此，改善光學(xué)分辨率的挑戰(zhàn)是顯而易見(jiàn)的。利用曝光技術(shù)制成的光纖光柵的應(yīng)用領(lǐng)域正在不斷取得新的進(jìn)展，一方面主要集中于光纖光柵傳感器；另一方面則是在光纖通訊領(lǐng)域。光學(xué)全息法用于溫度場(chǎng)的測(cè)量，原理是溫度的變化會(huì)引起空氣折射率的變化，進(jìn)而引起光程差的變化，產(chǎn)生干涉條紋。像面全息雙曝光法是將像面全息的記錄方式和雙曝光的干涉方法結(jié)合起來(lái)的一種全息方法。因此將像面全息的記錄方式和雙曝光的干涉方法結(jié)合起來(lái)，可以測(cè)量漫射體形變、位移、溫度場(chǎng)的分布圖5 雙曝光法測(cè)量溫度場(chǎng)5） 雙曝光法在無(wú)損檢測(cè)中的應(yīng)用高壓合成絕緣子是電力工業(yè)上的一種重要的基礎(chǔ)元件，其制造水平對(duì)電力工業(yè)的發(fā)展有著非常重要的影響。因此，全息干涉法具有全場(chǎng)非接觸測(cè)量和高靈敏度的優(yōu)點(diǎn)，可以有效地用于無(wú)損檢測(cè)。[1] 李田澤 二次曝光全息干涉技術(shù)及其應(yīng)用 微細(xì)加工技術(shù) 1997 [2] 郭昕 用于微小位移測(cè)量的雙曝光全息干涉計(jì)量 2005[3] 林功順 激光全息干涉技術(shù)在無(wú)損檢測(cè)中的應(yīng)用 鄭州工業(yè)高專學(xué)報(bào) [4] 王健 高文斌 二次曝光全息干涉計(jì)量技術(shù)研究應(yīng)力場(chǎng) 杭州大學(xué)電子科技大學(xué)學(xué)報(bào)
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