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電子領(lǐng)域策略規(guī)劃-預(yù)覽頁

2025-07-02 16:18 上一頁面

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【正文】 要建議 (2) ? 策略面 (續(xù) ) 3. 資源整合 ? 設(shè)計業(yè)邁向第一,水平整合、經(jīng)濟規(guī)模和技術(shù)深度攸關(guān)競爭力,在政策上鼓勵集中研發(fā)能量作整合的大型設(shè)計公司 ? 結(jié)合 CIC和 NDL能量,建立前瞻整合 IC設(shè)計與製作環(huán)境 ? 大力扶植 EDA產(chǎn)業(yè),使前瞻設(shè)計技術(shù)可以自主,引進國際大公司設(shè)計研發(fā)中心為過渡期可行辦法 ? 跨領(lǐng)域共同研擬規(guī)劃方向 15 研討會專家學(xué)者主要建議 (3) ? 策略面 (續(xù) ) ? 國科會應(yīng)多與經(jīng)濟部協(xié)同合作,以鼓勵業(yè)界出資,並由政府輔導(dǎo)以推展長期研發(fā)工作;由學(xué)術(shù)界致力於 roadmap上較前端技術(shù),以互補於業(yè)界當前不願意著墨的技術(shù)領(lǐng)域 ? 建議工研院擔任設(shè)備驗證平臺的角色,同時鼓勵學(xué)校與研發(fā)單位使用國產(chǎn)設(shè)備,以支持國內(nèi)設(shè)備商的發(fā)展 16 研討會專家學(xué)者主要建議 (4) ? 技術(shù)面 1. 對相關(guān)單位之建議 ? SoC之 IP Mall相當重要,工研院扮演重要角色,未來幾年內(nèi)之成效決定國家競爭力甚鉅,宜積極審慎 ? 電子所在製程技術(shù)上扮演更積極的角色,結(jié)合業(yè)界加強合作,做更前瞻性的規(guī)劃與挑戰(zhàn) ? NDL應(yīng)持續(xù)強調(diào)研發(fā)前瞻奈米元件技術(shù),甚至開始構(gòu)思與工研院電子所合作之可能性,非 MOS奈米元件及製程開發(fā)與電子所合作可有效整合人力與設(shè)備資源 17 研討會專家學(xué)者主要建議 (5) ? 技術(shù)面 (續(xù) ) ? Smart Power IC利用 CMOS製程並結(jié)合Embedded Software,可規(guī)劃工研院 STC與 ERSO共同執(zhí)行 ? 增加 CIC之晶片製作預(yù)算可提高服務(wù)品質(zhì)。
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