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《近紅外線阻斷膜》ppt課件-預覽頁

2025-01-28 21:04 上一頁面

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【正文】 ? 反射型近紅外線阻斷膜主要有: 半導體薄膜 金屬膜 金屬 介質(zhì)膜 全介質(zhì)多層膜 近紅外線阻斷膜制備技術 ? 近紅外線阻斷膜制備技術有涂布技術、物理氣相沉積、化學氣相沉積等,其中物理氣相沉積又包括真空蒸鍍、濺射和離子鍍等方法。 ? 按工作電源不同可分為直流磁控濺射和射頻濺射 離子束濺射 ? 運用一個功率較大的濺射離子源產(chǎn)生高密度的高能離子轟擊靶材,產(chǎn)生濺射作用,濺出的粒子(主要是中性粒子)沉積到附近的基片上成膜 謝謝!
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