材料加工技術(shù)工程學(xué)-全文預(yù)覽
【正文】 體增強(qiáng) CVD，激光和光 CVD是新發(fā)展期來的 CVD技術(shù)。圖 － 4所示為電弧離子鍍膜工作原理?？招年帢O電子槍又有？管陰極和六硼化鑭陰極兩種。 如：電于束蒸發(fā) (ebeam evaporation) 用電子束加熱水冷銅坩鍋中的蒸發(fā)材料使其熔融或升華汽化并凝結(jié)在基底表面成膜。 碳纖維主要有纖維素基碳纖維、聚丙烯腈基碳纖維(polyacrylonitrilebased carbon fiber)和瀝青基碳纖維。干濕法紡絲時(shí)，紡絲溶液從噴絲頭擠出后，先經(jīng)過 一段空氣層．然后進(jìn)入凝固?。畧D 示意。先進(jìn)鎂合金及其應(yīng)用研究先進(jìn)鎂合金及其應(yīng)用研究合金開發(fā) 樣品試制 合金生產(chǎn) 應(yīng)用生產(chǎn)216。216。圖 DIMOX法制備復(fù)合材科的過程示意。metal材料加工過程裝置過程控制電器其它生產(chǎn)研究材料加工、制備技術(shù)工程學(xué)的主要研究?jī)?nèi)容：（ 1）裝置工作原理、影響規(guī)律等機(jī)理性研究（ 2）第一套裝置的 開發(fā)研究（ 3）工程化研究（ 改進(jìn) 、新建）（ 4）工業(yè)化的生產(chǎn)管理研究（經(jīng)濟(jì)）因此 “成分 — 組織 — 性能 ”的三角關(guān)系是早期 材料學(xué) 研究模式。材料性質(zhì)以及使用性能與構(gòu)成材料的成分和各種層次上的結(jié)構(gòu)相互關(guān)系。材料呈現(xiàn)的性質(zhì)或現(xiàn)象以及使用性能是是 材料學(xué) 首要問題。材料學(xué)： 首先 ，由于在選擇材料的各種制備方法時(shí)必須考慮隨后為形成 實(shí)用 材料而進(jìn)行的加工。；材料加工 ： 對(duì)原子、分子以及更高一級(jí)聚集狀態(tài)進(jìn)行控制而獲得所需要的性能和形狀尺寸 (以性能為主 )所采用的方法 (以物理方法為主 )，它是獲得實(shí)用材料質(zhì)量和效率的關(guān)鍵技術(shù)、如高分子型材、凝固技術(shù)、鋼板的軋制、氣相沉積制膜、陶瓷成型等。材料加工技術(shù)工程學(xué)材料工程 材料制備 ： 把各種原子、分子以及更高一級(jí)聚集狀態(tài)結(jié)合起來制成材料所采用的各種化學(xué)方法和物理方法 但在材料科學(xué)與工程中的界線上變得越來越模糊，正在逐步變成一個(gè)連續(xù)的 統(tǒng)一體 。產(chǎn)品－生產(chǎn)技術(shù)（工藝）－裝備－控制－其它掌握材料學(xué)的研究成果；過程裝備的創(chuàng)新設(shè)想；第一套裝備的開發(fā)；規(guī)?；I(yè)放大－工程推廣（生產(chǎn)研究）； 材料學(xué)－工藝學(xué)研究的范圍directionDIMOX法 )是美國(guó) Lanxide公司研究開發(fā)出的用以制備 復(fù)合材料 的技術(shù)。其工藝流程是： ① 用冷壓機(jī)把陶瓷粒子或纖維等增強(qiáng)材料加壓成型，制成預(yù)型件； ② 把預(yù)型件和金屬 (如 Al)— 起放入反應(yīng)器內(nèi)，在高溫下 (鋁為 900—1400 ℃ 溫度范圍 )將金屬熔化，金屬液在全過程 (包括向預(yù)型件中滲透的過程 )中與周圍氣氛不斷反應(yīng)生成氧化物、氮化物或碳化物（例如鋁液在大氣中生成 AI2O3）； ③ 反應(yīng)結(jié)束得制品。圖 VLS法制備復(fù)合材料簡(jiǎn)圖。產(chǎn)品性能N50系列高檔燒結(jié)釹鐵硼磁體?高性能釹鐵氮磁粉生產(chǎn)線正在調(diào)試氣流磨大型氣淬燒結(jié)爐雙分級(jí)氣流磨200 kg 熔煉爐 216。(1)干濕法紡（ dry wet spinning) 又稱為 干噴濕紡，是一種將干法和濕法特點(diǎn)結(jié)合起來的紡絲方法。碳纖維 碳纖維〔 carbon fiber)具有高比強(qiáng)度、高比模量、耐高溫、耐腐蝕、導(dǎo)電傳熱等眾多優(yōu)點(diǎn)。真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù) 蒸鍍是一種發(fā)展較早的鍍膜技術(shù)，方法簡(jiǎn)單，已經(jīng)在光學(xué)、微電子學(xué)、磁學(xué)、裝飾、防腐蝕等方面得到了廣泛應(yīng)用。如圖 ，圖 所示。被鍍膜的基片電弧離子鍍 電弧離子鍍是蒸發(fā)源為電弧源的離子鍍。運(yùn)動(dòng)的斑區(qū)溫度高達(dá)數(shù)千至數(shù)萬度、并噴發(fā)出電子、離子、熔融的陰極材料微粒和原子。圖 典型的 CVD裝置示意。 b. 反應(yīng)物的純化。 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 等離子體增強(qiáng) CVD系統(tǒng) 等離子體增強(qiáng) CVD的系統(tǒng)和普通 CVD的區(qū)別主要在于沉積室合用于產(chǎn)生等離子體的單元。氣體分配單元的功能是對(duì)氣體反應(yīng)物按精確比例進(jìn)行混合，并按一定程序送入沉積室，其主要構(gòu)件包括質(zhì)量流量控制器和壓力控制器．所采用閥門和流量計(jì)都必須能防止污染。 另一臺(tái)電源的電極接工件，用于產(chǎn)生轉(zhuǎn)移弧。在建立轉(zhuǎn)移弧的同時(shí)或之前，由送粉器向噴槍供給合金粉末，吹人電弧中，并噴射到工件上，因而轉(zhuǎn)移弧一建立，就在工作件上形成合金熔池．使合金粉末在工件上熔融。arc圖 － 25所
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