專利技術(shù)交底書通用模版-全文預(yù)覽
【正文】 三、現(xiàn)有技術(shù)（背景技術(shù)）背景技術(shù)：【用于方便讀者理解本發(fā)明的技術(shù)背景，背景技術(shù)是對(duì)最接近的現(xiàn)有技術(shù)的說(shuō)明，它是做出本申請(qǐng)技術(shù)方案的基礎(chǔ)（背景技術(shù)是指對(duì)發(fā)明的理解、檢索、審查有用的現(xiàn)有技術(shù)，可以引證反映這些背景技術(shù)的文件，引證文獻(xiàn)、資料的，應(yīng)寫明其出處）】 【要對(duì)最接近本申請(qǐng)的同類已有技術(shù)狀況加以分析說(shuō)明，必要時(shí)借助附圖加以說(shuō)明，具體內(nèi)容可包括：其構(gòu)造，各部件間的位置和連接關(guān)系，信號(hào)傳遞關(guān)系等】【根據(jù)與本發(fā)明最接近的實(shí)現(xiàn)技術(shù)方案內(nèi)容客觀地指出背景技術(shù)中存在的問(wèn)題和缺點(diǎn)，兩者對(duì)應(yīng)，不涉及現(xiàn)有技術(shù)其它的缺點(diǎn)（例如：現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)可以是成本高，效率底，耗時(shí)間等類似問(wèn)題，同時(shí)闡述闡述這些缺點(diǎn)的原因在哪里）】四、發(fā)明內(nèi)容：
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