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無損檢測技術(shù)的發(fā)展-全文預(yù)覽

2024-12-01 11:48 上一頁面

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【正文】 時對比度為最大,偏離此比值越大對比度越小。 干涉條紋的對比度 對于兩列波得到的干涉條紋,其對比度定 (可見度 )V 定義為 mMmM II IIV ??? 式中, MI 能觀察到的穩(wěn)定光強(qiáng)分布中的最大值, mI 能觀察到的穩(wěn)定光強(qiáng)分布中的最小值。 圖 14 楊氏雙縫干涉圖 圖 15 惠更斯 -菲涅耳原理說明 利用惠更斯 -菲涅耳原理可以處理光的衍射問題。因此,理論上處理衍射問題與處理干涉問題相同。由于衍射屏與光源和觀察屏的距離都應(yīng)處于很大的情況,從波面各點到觀察屏某點的光線近似平行,故也稱為平行光束衍射。不均勻分布的 光強(qiáng)稱為衍射圖樣。 干涉與衍射概念 干涉與衍射概念 光的干涉現(xiàn)象,是指兩束光或多束光在空間相遇時,在重疊區(qū)形成穩(wěn)定的強(qiáng)度 (強(qiáng)弱 )分布現(xiàn)象,圖 14 是楊氏雙縫干涉圖樣。 在討論相對比度射線檢測技術(shù)時,一般把復(fù)數(shù)折射率表示為 ?? in ???1 實數(shù)部分為 ???? 1n , ? 是介質(zhì)的折射率與真空的折射率之差,其與介質(zhì)的原子序數(shù)、原子量、電子經(jīng)典半徑、射線波長等相關(guān)。因此,介質(zhì)的介電常數(shù)必須采用復(fù)數(shù)形式,以同時反映外場與介質(zhì)中電場變化間的相位關(guān)系??傊?, 相對比度成像技術(shù)受到了各個領(lǐng)域的廣泛重視。 目前,產(chǎn)生相對比度射線檢測圖像的方法可分為三類:干涉成像、衍射增強(qiáng)成像、吸收與衍射增強(qiáng)相結(jié)合成像 (在線相對比度成像 )。但目前的相對比度射線檢測技術(shù)會受到物體對射線吸收的限制,因此,現(xiàn)在它主要應(yīng)用于弱吸收和薄 樣品的檢測。 與常規(guī)的射線檢測技術(shù)相比,相對比度射線檢測技術(shù)的突出特點是,它對于很小的吸收差可產(chǎn)生強(qiáng)度對比度,對于很小的細(xì)節(jié),可通過衍射獲得這些細(xì)微結(jié)構(gòu)的圖像。 從波動角度,描述電磁輻射的主要參數(shù)中,還應(yīng)包括波的位相。 4 相對比度射線檢測技術(shù) 介紹 相對比度射線檢測技術(shù)概述 相對比度射線檢測技術(shù) (phase contrast radiography),是不同于常規(guī)的射線檢測技術(shù)。 (2) 當(dāng)被檢驗工件的厚度較大時, CR 系統(tǒng)對缺陷的檢驗?zāi)芰梢赃_(dá)到膠片射線照相技術(shù)系統(tǒng)的能力。試驗的主要內(nèi)容是膠片射線照相檢驗技術(shù)與 CR 技術(shù)下列方面的對比試驗: (1) 像質(zhì)計靈敏度對比試驗; (2) 人工缺陷檢驗?zāi)芰Ρ仍囼灒? (3) 自然缺陷檢驗?zāi)芰Ρ仍囼灐? 對直接與無防護(hù)鉛屏接觸的 IP 板應(yīng)特別注意和鑒定人為缺陷。 10%。三個孔分布在平行掃描 (寬度 )方向的同一直線上,二孔相互距離至少為 10cm。試驗采用厚度為 的鋁板條,要求不同掃描線的強(qiáng)度偏差應(yīng)不超過在這些線中之一測定的噪聲強(qiáng)度。試驗采用 T 靶進(jìn)行二次透照,比較二次的圖像進(jìn)行評定。 從得到圖像的邊界評定激光束功能,邊界的圖像應(yīng)直且連續(xù)。 測量采用黃銅材料制做的“ T 靶”進(jìn)行。透照后,從讀出的圖像評定掃描的空間線性。如果系統(tǒng)的不清晰度未增加,允許 SNR 值超過初始值。 (4) 曝光量:曝光量應(yīng)保證,在最低增益時成像板系統(tǒng)讀出強(qiáng)度可達(dá)到其最大可能讀出強(qiáng)度的90%。 (2) 焦距:焦距應(yīng)不小于 1m,在暗盒后面至少 1m 內(nèi)無任何物體 (包括鉛板 )。讀數(shù)方法分為兩種情況: 第一種情況:以線對可區(qū)分到不可分之間的位置確定; 第二種情況:以線條減少一條或多條的位置確定 讀數(shù)的單位均為 Lp/mm,基本空間分辨力 SR 為測得線對值的 1/2。 X 射線管應(yīng)是鎢靶、鈹窗、無預(yù)先濾波。雙絲像質(zhì)計的實物樣式見圖 12,部分線對卡的實物樣式見圖 13。圖中各部分的具體結(jié)構(gòu)或要求如下。 按照 ASTM E2446- 05 標(biāo)準(zhǔn)和 EN 14784- 1:2020 標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定,對 CR 系統(tǒng)性能長期穩(wěn)定性鑒定的主要要求可歸納為表 8 所列的項目。如果圖像質(zhì)量仍低于膠片射線照相檢驗的圖像質(zhì)量,原因則是 IP 板的分辨力低于膠片, IP 板對散射線的敏感性與膠片不同。 SNRIPX 與 IIPX 的測定方法見附錄Ⅰ 。 CR 圖像質(zhì)量 目前,在有關(guān) CR 技術(shù)的歐洲標(biāo)準(zhǔn)中,對 CR 圖像除了要求采用線型像質(zhì)計測定圖像質(zhì)量外 (采用 EN 462- 1 像質(zhì)計、按 EN 462- 3 要求圖像質(zhì)量值 ),其他的主要要求是圖像的最大不清晰度、像 素尺寸、最小信噪比 SNR、最小讀出強(qiáng)度 IIPX。 (3) 背散射防護(hù)與檢驗 必要時,應(yīng)采用厚度不小于 1mm 的鉛或厚度不小于 的錫板,放置在暗盒后面,防護(hù)背散射。 散射線防護(hù) 主要的 控制要求為三個方面:準(zhǔn)直控制、濾波措施、背散射檢驗。主要規(guī)定如下。 (1) X 射線允許的最高管電壓 作出了基本與常規(guī)膠片射線照相檢驗相同的規(guī)定,即按照被檢驗材料與厚度限定了允許使用的最高管電壓?;镜目刂埔笠才c常規(guī)膠片射線照相檢驗相同。 類似于膠片射線照相檢驗技術(shù)中膠片的選擇,在 CR 技術(shù)中應(yīng)正確選用 IP 板系統(tǒng)。 CR 技術(shù)級別 在 EN 14784- 2: 2020 標(biāo)準(zhǔn)中,作出了類似于 EN 444: 1994 標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定,即 CR 技術(shù)也分成二級: A 級,基本技術(shù); B 級:高級技術(shù) 存在比 B 級更高靈敏度的技術(shù),其由合同雙方規(guī)定有關(guān)參數(shù)確定。與膠片射線照相檢驗技 術(shù)比較, CR 技術(shù)的主要不同是,采用貯存熒光成像板代替膠片接受射線照射,通過掃描器讀出,直接獲得數(shù)字化的圖像。這方面的情況,可通過“線性尺” (見后文 )的圖像進(jìn)行評價。 ● 圖像拾取部分功能:主要要求包括,光導(dǎo)與光電倍增器安裝的正確性和光探測器強(qiáng)度轉(zhuǎn)換的均勻性。 圖 9 掃描圖像讀出的基本過程 圖 10 CR 技術(shù)檢驗的主要過程 (2) 掃描器的主要性能 為了正確良好地完成 IP 板上圖像的掃描讀出,對掃描器本身的性能有一系列要求,主要的是下列方面。數(shù)字圖像軟件系統(tǒng)對形成的數(shù)字圖像文件,可以進(jìn)行圖像處理,改善圖像質(zhì)量。掃描激光束的尺寸按圖像質(zhì)量要求選擇,經(jīng)常選擇的是 100μm 或 50μm。 對于日常使用來說,主要是 IP 板影像衰退特性和影像擦除性能。 IP 板的時間響應(yīng) 特性描述的是, IP 板受到 X 射線或激光激發(fā)時,產(chǎn)生的發(fā)射熒光強(qiáng)度隨時間減弱的關(guān)系,見圖 7。 圖 4 IP 板的動態(tài)特性 圖 5 IP 板的吸收特性 圖 6 IP 板的譜特性 IP 板的譜特性可以分為吸收譜特性、發(fā)射譜特性和激發(fā)譜特性。 (2) IP 板的特性 從一般的理論考慮, IP 板的主要特性可分為下列個方面:分辨力、動態(tài)范圍、譜特性 (吸收譜、發(fā)射譜、激發(fā)譜 )、時間響應(yīng)特性、衰退特性。氟鹵化鋇 (二價銪激活 )熒光物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)如圖 3。 IP 板的結(jié)構(gòu)與性能 (1) IP 板結(jié)構(gòu) 6 IP 板的基本結(jié)構(gòu)如圖 2 所示,其主要由保護(hù)層、熒光層、支持層、背襯層構(gòu)成。 例如, IPⅡ /100,表示的是: 為Ⅱ類系統(tǒng),系統(tǒng)最低的規(guī)格化信噪比不小于 52,系統(tǒng)最大的基本空間分辨力為 100μ m。也可定義為 CR 系統(tǒng)調(diào)制傳遞函數(shù) (MTF)調(diào)制度為 20%時的空間 頻率 值倒數(shù)的 1/2,即 (EN 14784- 1 第 條 ) 2021MTFSR? 基本空間分辨力 值可作為 CR 系統(tǒng)的有效 像 素尺寸 (見 EN 14784- 1, 條 )。其 與 CR 系統(tǒng)的性能相關(guān),也與照射劑量相關(guān)。這樣,當(dāng)激光束掃描貯存熒光成像板時,就可將射線照相圖像轉(zhuǎn)化為可見的圖像。 CR 技術(shù)原理 采用貯存熒光成像板的 CR 技術(shù),是基于某些熒光發(fā)射物質(zhì),具有保留潛在圖像信息的能力。使用后可用光去除圖像,這樣一來成像板可重新使用。 約在 20 世紀(jì)七十年代中期,發(fā)明了可貯存射線圖像的熒光成像板。在對射線曝光時,由于照射量不同產(chǎn)生的放電不同,從而形成射線照相圖像。目前,它采用貯存熒光成像板 (Storage Phosphor Imaging Plate)完成射線照相檢驗。僅依據(jù)線型像質(zhì)計判定兩者的等價性,不可能給出正確的結(jié)論。 (2) 數(shù)字射線檢測技術(shù)與膠片射線照相技術(shù)對缺陷具有同等檢驗?zāi)芰栴},明確地界定出對于某些材料 (工藝 )中的某些類型缺陷、在某種厚度范圍兩者具有同等檢驗?zāi)芰Α1M管數(shù)字射線技術(shù)在不斷發(fā)展,但到目前達(dá)到的基本狀況是,作為系統(tǒng)性能,無論是對比度或者是空間分辨力,都達(dá)不到膠片射線照相技術(shù)系統(tǒng)的水平;對于細(xì)小裂紋的檢驗?zāi)芰Γ话阏f,與膠片照相技術(shù)還存在差距。 圖 1 射線檢測工作站示意圖 數(shù)字射線檢測技術(shù)基本狀況 1990 年英國前無損檢測學(xué)會主席 博士等在英國無損檢測雜志上發(fā)表文章,文章的題目是:“數(shù)字射線檢測方法評述”,評述了射線技術(shù)的各個方法,在結(jié)論部分提出了射線檢測技術(shù)進(jìn)入數(shù)字射線檢測技術(shù)時代的看法。 運用這些數(shù)字射線檢測技術(shù),可以建立射線檢測技術(shù)工作站。間接數(shù)字化射線檢測技術(shù)是需要經(jīng)過 A/D 轉(zhuǎn)換獲得射線檢測圖像的射線檢測技術(shù)。如果使用縮寫“ DR”,則常是指直接數(shù)字化技術(shù)(direct radiography)。 在國外文獻(xiàn)中,對我們所說的“數(shù)字射線檢測技術(shù)”使用的是“ digital imaging in radiology”、“ digital imaging”、 “ digital radiography”,現(xiàn)在,較多使用的則是“ digital radiography”。 與其他無損檢測 技術(shù)比較, 射線 檢測 技術(shù) 具有的突出特點是: (1) 檢測結(jié)果顯示直觀,為評定檢測結(jié)果可提供客觀依據(jù); (2) 檢測過程的質(zhì)量 (工作質(zhì)量、技術(shù)狀況、設(shè)備器材質(zhì)量 )可自我監(jiān)測,為檢測結(jié)果的可靠性評定提供客觀依據(jù)。 簡單概括九十多年的研究情況,主要研究內(nèi)容大體可以分為四類:物理原理與技術(shù)理論 —— 基礎(chǔ)性重大問題;檢測系統(tǒng) —— 原理、技術(shù)實現(xiàn)和發(fā)展的關(guān)鍵問題之一;檢測技術(shù) —— 原理實現(xiàn)的重要問題; 應(yīng)用技術(shù) (工藝 )—— 般性應(yīng)用技術(shù)。 一.無損檢測技術(shù)進(jìn)展 由于其全領(lǐng)域因而發(fā)展很快,從總的方向是從無 損探傷( NDI)→無損檢測( NDT)→無損評價( NDE)→可靠性? ? 無損檢測技術(shù)進(jìn)展主要包括三個方面:首先,無損檢測技術(shù)正從一般的無損檢測向自動無損檢測和定量無損檢測發(fā)展,引入計算機(jī)和數(shù)字圖像處理技術(shù)進(jìn)行檢測和分析數(shù)據(jù),以減少人為因素的影響,提高檢測可靠性;其次,是發(fā)展微觀缺陷檢測技術(shù)、在線檢測技術(shù)和在役檢測技術(shù);第三,是開展無損檢測新原理、新方法、新技術(shù)的探索研究。所謂的無損檢測是指在一定的時間和空間條件下,采用物理學(xué)或化學(xué)的某些手段以不損及檢測對象、將來使用和使用可靠性的方式,對材料或制件或此兩者進(jìn)行缺陷檢測、幾何特性測量、化學(xué)成份、組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能變化的評定,并進(jìn)而就材料或制件對特定應(yīng)用的適用性進(jìn)行評價的一門學(xué)科。 近些年來持續(xù)關(guān)注的技術(shù)方面是數(shù)字射線 RT 技術(shù) (主要是研究新的射線探測器或改進(jìn)探測器性能 )、中子 RT 技術(shù)、 CR 技術(shù)、 CT 技術(shù)等,出現(xiàn)的主要的新的研究論題是 PCRT 技術(shù) (Phase contrast radiography)、雙能射線檢測技術(shù) (Dual- energy Radiography)、 T 射線檢測技術(shù)和一些新的方法等。 回顧我國的射線檢測技術(shù)研究,則只能令人遺憾地看到,所從事的研究工作主要集中在應(yīng)用工藝方面,很少數(shù)涉及過檢測技術(shù),未發(fā)現(xiàn)完成過物理原理與技術(shù)理論的研究工作,也未見到創(chuàng)造性檢測系統(tǒng)的研究工作。 3 2.?dāng)?shù)字射線檢測技術(shù) 數(shù)字射線檢測技術(shù)概念 “數(shù)字射線檢測技術(shù)”是現(xiàn)在我國射線檢測技術(shù)中廣泛使用的一個術(shù)語,但對其含義不同人有不同理解,其中可能存在著模糊或不恰當(dāng)?shù)睦斫狻<?,它不是特定的某種射線檢測技術(shù),而是一類射線檢測技術(shù) —— 可獲得數(shù)字化圖像的射線檢測技術(shù),這應(yīng)是“數(shù)字射線檢測技術(shù)”的含義。它包括, CT 技術(shù)、康普頓散射成像技術(shù)、平板探測器實時成像技術(shù)、線陣探測器實時成像技術(shù)等。后數(shù)字化射線檢測技術(shù),在進(jìn)行圖像數(shù)字化時,存在損失膠片上記錄的某些微小細(xì)節(jié)信息的可能。圖 1 是這類工作站的一個示意圖,其顯示了三種不同的數(shù)字化方法,即平板探測器、 IP 板讀出器、底片掃描器。 從一些文獻(xiàn)給出的結(jié)果,關(guān)于 EPS 靈敏度,直接數(shù)字化系統(tǒng)中的非晶硒探測器,可在遠(yuǎn)低于膠片曝光量的情況下獲得可與中顆粒膠片相比的靈敏度,而 IP 板等熒光物質(zhì)只能達(dá)到近似粗顆粒膠片的水平;對于直接數(shù)字化系統(tǒng)中的非晶硒探測器, 在空間 頻率 不大于 4Lp/mm 時,可獲得可與膠片相比的對比度;而 CR 系統(tǒng),只能在很低的空間 頻率 時才能獲得可與膠片相比的對比度。 從目前的技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r,這個問題的內(nèi)涵 應(yīng)包括三個方面: (1) 某種數(shù)字射線檢測技術(shù)級別 (如數(shù)字實時的 SA、 SB 級
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