ic有源元件與工藝流程介紹(文件)
【正文】 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 29 了解 NMOS工藝的意義 目前 CMOS工藝已在 VLSI設(shè)計(jì)中占有壓倒一切的優(yōu)勢(shì) . 但了解 NMOS工藝仍具有幾方面的意義 : ? CMOS工藝是在 PMOS和 NMOS工藝的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的 . ? 從 NMOS工藝開(kāi)始討論對(duì)于學(xué)習(xí) CMOS工藝起到循序漸進(jìn)的作用 . ? NMOS電路技術(shù)和設(shè)計(jì)方法可以相當(dāng)方便地移植到CMOS VLSI的設(shè)計(jì) . ? GaAs邏輯電路的形式和眾多電路的設(shè)計(jì)方法與NMOS工藝基本相同 . 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 30 增強(qiáng)型和耗盡性 MOSFET (Enhancement mode and depletion mode MOSFET) FET（ Field Effect Transisitor） n 按襯底材料區(qū)分有 Si, GaAs, InP n 按場(chǎng)形成結(jié)構(gòu)區(qū)分有 J/MOS/MES n 按載流子類型區(qū)分有 P/N n 按溝道形成方式區(qū)分有 E/D 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 31 E/DNMOS和 EPMOS的電路符號(hào) N M OSE nh an cem en tP M OSE nh an cem en tN M OSDep l e t i o n圖 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 32 ENMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 (增強(qiáng)型 VD=0V, Vgs=Vsb=0V) 圖 ENMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 33 DNMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 (耗盡型 VD=0V, Vgs=Vsb=0V) 圖 DNMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 34 EPMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 (增強(qiáng)型 VD=0V, Vgs=Vsb=0V) 圖 EPMOS的結(jié)構(gòu)示意圖 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 35 ENMOS工作原理圖 VgsVt， Vds=0V 圖 不同電壓情況下 ENMOS的溝道變化 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 36 ENMOS工作原理圖 VgsVt， VdsVgsVt 圖 不同電壓情況下 ENMOS的溝道變化 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 37 ENMOS工作原理圖 VgsVt， VdsVgsVt 圖 不同電壓情況下 ENMOS的溝道變化 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 38 NMOS 工藝流程 圖 NMOS工藝的基本流程 東 ?南 ?大 ?學(xué) 射 ?頻 ?與 ?光 ?電 ?集 ?成 ?電 ?路 ?研 ?究 ?所 39 表 NMOS的掩膜和典型工藝流程 M ask確定對(duì)象 工藝流程出發(fā)點(diǎn) P 型摻雜硅晶圓 ( ? = 7 52 00 m m ) ，生長(zhǎng) 1 m m 厚 氧化層 , 涂感光膠 ( Pho t oresist)1 有源區(qū) 紫外曝光使透光處光膠聚合 , 去除未聚合處 ( 有源區(qū) ) 光膠 , 刻蝕 ( eching ) 氧化層 , 薄氧化層 ( thinox) 形成 , 沉淀多晶硅層 , 涂感光膠2 離子注入?yún)^(qū) 曝光 , 除未聚合光膠 , 耗盡型 NM OS 有源區(qū)離子注入 ,沉淀多晶硅層 , 涂感光膠3 多晶硅線條圖形曝光 , 除未聚合光膠 , 多晶硅刻蝕 , 去除無(wú)多晶硅覆蓋的薄氧化層，以多晶硅為掩膜進(jìn)行 n 擴(kuò)散，漏源區(qū)相對(duì)于柵結(jié)構(gòu)自對(duì)準(zhǔn)，再生長(zhǎng) 厚 氧化層 , 涂感光膠4 接觸孔窗口(Con tacts c ut )曝光 , 除未聚合光膠 , 接觸孔刻蝕 , 淀積金屬層 , 涂感光膠5 金屬層線條圖形曝光 , 除未聚合光膠 , 金屬層刻蝕 , 鈍化玻璃層形成 ,涂感光膠6 焊盤窗口(Bon din g pad s)曝光 , 除未聚合光膠 , 鈍化玻璃層刻蝕東 ?南 ?大 ?學(xué) 射
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1