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《化學(xué)轉(zhuǎn)化膜》ppt課件(文件)

 

【正文】 產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。相同條件下 ,當(dāng)電流密度恒定時(shí) ,膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比;但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí) ,由于膜電阻升高 ,影響導(dǎo)電能力 ,而且由于溫升 ,膜的溶解速度增大,所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低,到最后不再增加。電解液中的雜質(zhì) :在鋁陽(yáng)極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有 Clˉ,Al3+, 微弧氧化n 定義: 微弧氧化 (Microarc34微弧氧化技術(shù)的原理n 1) Al、 Mg、 Ti等閥金屬樣品放入電解液中,通電后金屬表面立即生成很薄一層完整的氧化物絕緣膜。達(dá)到表面強(qiáng)化的目的。 37 HD30型微弧氧化脈沖電源設(shè)備 配冷卻內(nèi)膽的微弧氧化槽 38微弧氧化電解液    微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦等材質(zhì)。氧化液密度:不同液體有不同比重,大體比重在 不等。 但也有大電流情況出現(xiàn),且超過(guò)每平方分米 8安。 微弧氧化工藝流程:去油 微弧氧化 封閉 一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液,如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等?! ∥⒒⊙趸c陽(yáng)極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般建議在 2060℃ 。  微弧氧化時(shí)間一般控制在 10~ 60min?! £帢O材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。41微弧氧化表面形貌42鋁合金微弧氧化零件 鎂合金微弧氧化零件 鈦合金微弧氧化零件 43微弧氧化和陽(yáng)極氧化技術(shù)比較  微弧氧化 陽(yáng)極氧化電壓 、 電 流 高 壓 、 強(qiáng) 流 低 壓 、 電 流密度小工 藝 流程 去油 → 微弧氧化 堿 蝕 → 酸洗 → 機(jī)械性清理→ 陽(yáng)極氧化 → 封孔溶液性 質(zhì) 堿性溶液 酸性溶液工作溫度 < 45℃ 低溫氧化 類 型 化學(xué)氧化、 電 化學(xué)氧化、等離子體氧化 化學(xué)氧化、 電 化學(xué)氧化氧化膜相 結(jié)構(gòu)晶 態(tài) 氧化物(如 αAl2O γAl2O3) 無(wú)定形相44微弧氧化膜的應(yīng)用45 轉(zhuǎn)化膜技術(shù)的發(fā)展動(dòng)向n 1. 化學(xué)表面處理技術(shù)必須與新的涂裝技術(shù)發(fā)展相適應(yīng),即開(kāi)發(fā)和研制適合于新型涂料和涂裝方式的化學(xué)處理劑;n 2. 開(kāi)發(fā)研制不產(chǎn)生污染的化學(xué)處理劑;n 3. 開(kāi)發(fā)研制對(duì)金屬件無(wú)需清理即不形成保護(hù)轉(zhuǎn)化膜的化學(xué)處理劑; n 4. 開(kāi)發(fā)研制能簡(jiǎn)化工藝,縮短流程的化學(xué)處理劑;n 5. 開(kāi)發(fā)研制應(yīng)用于大型構(gòu)件的化學(xué)處理劑;n 6. 開(kāi)發(fā)具有更高硬度,更耐磨的轉(zhuǎn)化膜;n 7. 開(kāi)發(fā)具有更致密,保護(hù)性能更好的轉(zhuǎn)化膜;n 8. 開(kāi)發(fā)具有特殊功能的轉(zhuǎn)化膜。后處理 對(duì)微弧氧化的影響 n 5.n 4.溫度高,成膜快,但粗糙度也增加。 40n 3.  ?。?2)表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過(guò)拋光處理,對(duì)于粗糙的表面,經(jīng)過(guò)微弧氧化,可修復(fù)得平整光滑;對(duì)于光滑的表面,則會(huì)增加粗糙度。純水洗 水洗 液體酸堿度:堿性, PH通常為 8—13n 4.電流密度:液體不同,工件電流密度不同。n 2. 3536微弧氧化技術(shù)的突出特點(diǎn)n ( 1) 大幅度地提高了材料的表面硬度 ,顯微硬度在 1000至 2022HV,最高可達(dá) 3000HV,可與硬質(zhì)合金相媲美,大大超過(guò)熱處理后的高碳鋼、高合金鋼
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