世界各國(guó)納米三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)(文件)
【正文】 nnals of the CIRP Vol. 47/1/1998 ， 2. Annals of the CIRP 3. Proc. Of 16th ASPE ， 4. Note : Philips CFT 100*100*40 mm , Uncertainty 50nm (20xx/8 News) 荷蘭 Eindhoven大學(xué)的 高精度 3DCMM ?測(cè)量范圍 : 100*100*100 mm ?線性步進(jìn)壓電馬達(dá) +光柵尺 ?MEMS 探頭直徑 : ?測(cè)量不確定度 : 50nm Nano Measurement Lab. School of Instrument Science and Optoelectronics Engineering. HFUT Prof. K. C. Fan MEMS 探頭 E : elastic elements B : frame bars (stiff) S :Piezo amp。 strain gages D : Laser diode P : Grating Q : Quadrant Photodiode M : Mirror L : Lens 荷蘭 Eindhoven大學(xué)的 高精度 3DCMM Nano Measurement Lab. School of Instrument Science and Optoelectronics Engineering. HFUT Prof. K. C. Fan 德國(guó) PTB的 Special CMM 采用傳統(tǒng)的高精度 CMM機(jī)臺(tái) ， 新開(kāi)發(fā)接觸式的光纖感應(yīng)及非接觸式 CCD感應(yīng)的雙探頭系統(tǒng) ?測(cè)量范圍：25 40 25
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