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cvd設(shè)備基礎(chǔ)級教育資料(文件)

2025-06-08 01:45 上一頁面

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【正文】 tc) ? 真空系 (Auto Pressure Controller, Pump Unit, Exhaust Change Unit, etc) ? 控制系 (SPC, Monitor, Controller Board, Hard disk, etc) ? 輔助系 (Power Distribution, UPS Unit, Liquid Refill Unit, Cooling Water Unit, Heater Exchange, Scrubber, etc) Metal Group Thin Film Section Manufacturing Engineering Dept. Page 18 問題 ? 請簡述 CVD的基本概念 ? 請列舉 CVD設(shè)備的主要分類及其特征 ? 請簡述 CVD設(shè)備的主要構(gòu)成 ? 作為 CVD設(shè)備工程師,您認(rèn)為應(yīng)具備哪些方面的知識 。 From Top View Metal Group Thin Film Section Manufacturing Engineering Dept. Page 15 MB2設(shè)備介紹 ? MB2設(shè)備是采用多腔體方式,利用光能對反應(yīng)氣體進(jìn)行加熱,反應(yīng)室為真空狀態(tài),主要反應(yīng)氣體為 WF6,SiH2Cl2和 ClF3等。 Gas Input Feed through Shower Header Heater RF Metal Group Thin Film Section Manufacturing Engineering Dept. Page 11 LPCVD 的主要特征及設(shè)備 ? 特征 反應(yīng)室為減壓真空狀態(tài),利用加熱器進(jìn)行加熱使氣體發(fā)生反應(yīng),采用批處理方式( Batch Mode) ? 主要設(shè)備 T
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