【正文】 術(shù)特征。此外，本發(fā)明人還應(yīng)客觀的指出背景技術(shù)中存在的問題和缺陷，這些問題和缺陷僅限于本申請(qǐng)的技術(shù)方案所解決的問題和缺點(diǎn)，可能的話，應(yīng)說明產(chǎn)生這些問題和缺點(diǎn)的原因以及解決這些問題曾經(jīng)遇到的困難。二、技術(shù)領(lǐng)域所屬技術(shù)領(lǐng)域應(yīng)當(dāng)是發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭苯铀鶎倩蛘咧苯討?yīng)用的技術(shù)領(lǐng)域，而不是上位的或相鄰的技術(shù)領(lǐng)域，也不是發(fā)明或者實(shí)用新型本身?！匾獣r(shí)可通過多組附圖以增加實(shí)施該發(fā)明創(chuàng)造的各種可能形式，有助于使專利保護(hù)范圍更寬和更嚴(yán)密有效?！峁┠芊磻?yīng)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、構(gòu)造、產(chǎn)品中各部件的空間位置關(guān)系或連接關(guān)系的附圖。發(fā)明創(chuàng)造的目的—實(shí)事求是地指出現(xiàn)有技術(shù)的不足，歸納出申請(qǐng)人所要解決的問題?！獮閷?shí)現(xiàn)發(fā)明目的所采取的技術(shù)方案，這是最關(guān)鍵的部分。附圖應(yīng)清楚地體現(xiàn)發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容，圖面為A4幅, 按制圖標(biāo)準(zhǔn)繪制，不標(biāo)注任何尺寸和文字，圖面要清晰。石家莊匯科專利商標(biāo)事務(wù)所***第二篇：專利申請(qǐng)交底書機(jī) 械 類 專 利 申 請(qǐng) 交 底 書為幫助代理人了解發(fā)明的構(gòu)思、發(fā)明的詳細(xì)內(nèi)容及其創(chuàng)新點(diǎn),以便使代理人撰寫出高質(zhì)量的專利申請(qǐng)文本,其發(fā)明人或設(shè)計(jì)人在申請(qǐng)專利時(shí),除了向?qū)＠砣水?dāng)面介紹發(fā)明的內(nèi)容外,還應(yīng)交納一份專利申請(qǐng)交底書。※三、背景技術(shù)應(yīng)當(dāng)寫明本發(fā)明人對(duì)該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷睦斫?、檢索、審查有用的背景技術(shù)，有可能的，應(yīng)引證反映這些背景技術(shù)的文件，尤其要引證與該申請(qǐng)最接近的現(xiàn)有技術(shù)文件?！摹l(fā)明內(nèi)容首先，要針對(duì)背景技術(shù)中存在的問題，用正面、盡可能簡(jiǎn)短的語言客觀而有根據(jù)地反映本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題，即本發(fā)明的發(fā)明目的。對(duì)產(chǎn)品類發(fā)明，應(yīng)描述產(chǎn)品的部件組成，及各部件之間的連接關(guān)系、配合關(guān)系等；尤其是體現(xiàn)本發(fā)明構(gòu)思部分的部件及其連接關(guān)系。它可以由產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率的提高；能耗、原材料、工序的節(jié)??；加工、操作、控制、使用的簡(jiǎn)便；環(huán)境污染的治理以及有用性能的出現(xiàn)等方面反映出來。例如：以“燃煤節(jié)能裝置”的專利申請(qǐng)為例，對(duì)以下四幅圖進(jìn)行圖面說明：圖1是燃煤節(jié)能裝置的主視圖；圖2是圖1所示節(jié)能裝置的側(cè)視圖；圖3是圖2的A向視圖；圖4是圖1的BB剖視圖。對(duì)實(shí)施例的描述應(yīng)當(dāng)詳細(xì)，使本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不需創(chuàng)造性的勞動(dòng)就可實(shí)現(xiàn)本發(fā)明?；瘜W(xué)領(lǐng)域發(fā)明專利技術(shù)交底書（專利說明書）撰寫的一般要求化學(xué)領(lǐng)域發(fā)明的種類和范疇從專利保護(hù)的角度出發(fā)，化學(xué)領(lǐng)域發(fā)明專利分為產(chǎn)品發(fā)明和方法發(fā)明兩大類。技術(shù)交底書（技術(shù)說明書）的撰寫要求根據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則第十八條的規(guī)定，發(fā)明專利申請(qǐng)的說明書包括以下六方面的內(nèi)容。（2）技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域是指發(fā)明所屬或直接應(yīng)用的具體技術(shù)領(lǐng)域，它既不是其上位概念，如“有機(jī)化學(xué)領(lǐng)域”或“冶金領(lǐng)域”，也不是技術(shù)方案本身。引用非專利文獻(xiàn)的，要寫明這些文獻(xiàn)的詳細(xì)出處。發(fā)明的技術(shù)方案是說明為了解決背景技術(shù)中存在的問題或完成的任務(wù)而采取的所有新的技術(shù)手段和措施，以便使所屬領(lǐng)域具有一般專業(yè)知識(shí)水平的技術(shù)人員能夠理解和實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，完成發(fā)明所提出的任務(wù)。如說明技術(shù)特征的取值和選擇范圍以及某些特殊術(shù)語的具體含義，有時(shí)也要給出優(yōu)選范圍，必要時(shí)，還應(yīng)給出最佳值?；瘜W(xué)領(lǐng)域的發(fā)明應(yīng)當(dāng)借助于試驗(yàn)數(shù)據(jù)證明發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和積極效果，同時(shí)給出必要的實(shí)驗(yàn)條件及方法。需要指出的是，說明書附圖一般是指為了便于說明和理解發(fā)明所附的示意性簡(jiǎn)圖，而不是標(biāo)有所有零件細(xì)節(jié)及精確尺寸的施工圖。實(shí)施例應(yīng)當(dāng)滿足以下兩項(xiàng)基本要求： l 支持權(quán)利要求——即所取值或所選具體方式應(yīng)落入權(quán)利要求的范圍。因此，應(yīng)當(dāng)寫出再現(xiàn)發(fā)明具體方案所需的一切條件、數(shù)據(jù)、原料、工具、設(shè)備等等，以及它們必要的規(guī)格和型號(hào)等。專利技術(shù)交底書主要包含發(fā)明名稱、技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖和具體實(shí)施方式，下面介紹在撰寫電學(xué)領(lǐng)域的專利交底書時(shí)應(yīng)注意的問題。分析最接近的現(xiàn)有技術(shù)所存在的缺陷，以便突出本發(fā)明的創(chuàng)新點(diǎn)。電學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造一般涉及到硬件裝置和方法（包括數(shù)據(jù)處理方法、控制方法等），下面分別介紹這兩種專利技術(shù)交底書的寫法。許多硬件裝置的電路原理圖非常復(fù)雜，而發(fā)明創(chuàng)造的創(chuàng)新點(diǎn)僅涉及到其中一部分，這時(shí)應(yīng)先畫出裝置的電路原理框圖，這樣既能夠突出本發(fā)明的創(chuàng)新點(diǎn)在總體結(jié)構(gòu)上與現(xiàn)有技術(shù)的分界，也能夠使別人對(duì)創(chuàng)新點(diǎn)所起到的作用一目了然。對(duì)于硬件裝置來說，將其電路原理圖畫出之后，還需要對(duì)圖中的各個(gè)部分的功能、工作方式作進(jìn)一步解釋。（二）方法：專利所保護(hù)的方法必須是用于解決具體技術(shù)問題的方法，在電學(xué)領(lǐng)域中，多數(shù)方法涉及到解決具體技術(shù)問題的控制方法、數(shù)據(jù)處理方法等，基本上都要用到計(jì)算機(jī)來進(jìn)行處理。在數(shù)學(xué)公式和邏輯判斷式中，應(yīng)結(jié)合具體的技術(shù)問題，將各參數(shù)的物理含義解釋清楚。如對(duì)于較復(fù)雜的方法，可以舉一個(gè)實(shí)際的、簡(jiǎn)單的例子，配合軟件流程圖來說明該方法解決問題的過程。對(duì)發(fā)明創(chuàng)造的說明應(yīng)緊扣發(fā)明目的，達(dá)到的效果也要與發(fā)明目的相統(tǒng)一。所屬技術(shù)領(lǐng)域?yàn)楸阌诜诸悺z查及其他專利活動(dòng)的進(jìn)行，要簡(jiǎn)要說明所屬技術(shù)領(lǐng)域，如：本發(fā)明屬于溫度自動(dòng)控制裝置，本發(fā)明涉及材料的熱處理方法等。發(fā)明的效果與發(fā)明的目的、手段相對(duì)應(yīng)，將本發(fā)明所能達(dá)到的效果（最好有具體數(shù)據(jù)），具體的實(shí)事求是的加以描述。實(shí)施實(shí)例列舉實(shí)施上述發(fā)明內(nèi)容的實(shí)例，可增加該發(fā)明的可實(shí)施性。二、專利技術(shù)交底書的內(nèi)容： 1．現(xiàn)有技術(shù)概況。這部分內(nèi)容是交底書的重點(diǎn)，力求清楚、完整；產(chǎn)生的技術(shù)效果，即技術(shù)方案帶來的有益技術(shù)效果，例如提高處理效率、提高可靠性等，使本專業(yè)的技術(shù)人員能理解并能重復(fù)該技術(shù)方案。（4）電路圖中信號(hào)的傳遞過程。3．圖及附圖說明。代理人將以該文件為依據(jù)，撰寫出專利申請(qǐng)文件，并按照法律規(guī)定承擔(dān)對(duì)交底文件的保密義務(wù)。對(duì)現(xiàn)有產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造