【正文】 沒有吸收的材料、垂直入射、平均偏振等）是不存在的。第三部分 TFCalc優(yōu)化指南 Introduction(介紹 ) Optimization Targets（優(yōu)化目標(biāo)） Broadband Designs（寬帶膜系） HighReflectance(LowTransmittance) Designs（高反膜系） Controlling Endpoint Behavior（控制端點(diǎn)） MultiBand Designs（多帶膜系） Better:More Targets（更多目標(biāo)） Inequality Targets不等式目標(biāo) Multiple Targets（多個目標(biāo)） Color Targets（顏色目標(biāo)） Derivative Targets（派生目標(biāo)） Global Optimization（全局優(yōu)化） Starting Designs（開始設(shè)計） Best Desings（最佳設(shè)計） Other Local Minimums其他局部最小值 Needle Optimization針優(yōu)化方法 Tumeling Method隧道優(yōu)化方法 Local Optimization Parameters拒不優(yōu)化參數(shù) Optimizing Sensitivity優(yōu)化靈敏度 Goto Next Section Goto above section 介紹 這部分的目的是幫助你生成最好的膜系。 了解優(yōu)化過程的一個好的方法就是將它看成是一個控制問題；優(yōu)化方法企圖通過下列方法控制薄膜的輸出： (1) 收集不同優(yōu)化目標(biāo)下的信息 (2) 使用這些信息調(diào)整膜系的膜厚和 /或折射率。 寬帶設(shè)計（ Broadband Designs）： 工作在較寬的波長范圍，優(yōu)化目標(biāo)應(yīng)該是與波長或波數(shù)的 ，這是因?yàn)椋?(1)光譜曲線與波數(shù)的特征（最大值和最小值）和 (2)優(yōu)化方法需要膜系工作的整個光譜范圍內(nèi)精確的信息。有 2種方法： (1)使用一系列四分之一膜堆 (見 TFCalc舉例部分 )或 (2)使用優(yōu)化找到非四分之一波長設(shè)計。在設(shè)計中，光線強(qiáng)度是一個重要的因素，因此 使用強(qiáng)度目標(biāo)是非常靈敏的。以下考慮減反射膜系圖 。 多帶膜系設(shè)計（ MultiBand Designs）： 有時候需要 2個或多個（也許不相鄰）光譜帶，許多傳統(tǒng)的設(shè)計均屬于這一類問題，如帶通濾波器、邊緣濾波器、陷波濾波器。通常，可以使用不平衡目標(biāo)來找到這個問題 ?？赡苡形锢碓颍瑸槭裁匆粋€帶比另一個帶更難控制。 Inequality Targets： 在許多情況下，不等式目標(biāo)是很有用的，例如 ： (1) 一個 AR膜系，在 380nm780nm波段反射率 1% from 380 to 780 nm； (2) 彩色濾波器 (x,y)顏色可能是(2177。不等式目標(biāo)的優(yōu)點(diǎn)就是它告訴優(yōu)化方法什么是最重要的。意思是，如果設(shè)計者在相同的波長和角度條件下使用多個目標(biāo)（如反射率和反射后的相位改變），將不會將第優(yōu)化的速度。 派生目標(biāo)（ Derivative Targets）： 設(shè)計者 可以生成控制性能曲線形狀的目標(biāo) 。 最好的設(shè)計（ Best Design）： 通常，很難找到全局最小 —最好的設(shè)計。 其他的局部最小值 （ Other Local Minimums）： 當(dāng)找到局部最小值時， 只要將 “Maximum Change from Current Design”值設(shè)為一個小的數(shù)值（例如 10%）， 全局搜索步驟可以用來搜索接近局部最小值的值 。初始厚度 L在一個范圍內(nèi)都導(dǎo)致相同的結(jié)果，這里 是結(jié)果： 膜層初始厚度（ nm） 所有膜層最終厚度（ nm） 92120 118 130260 145 280540 523 550840 805 選擇最接近你期望的終厚度值的初始厚度，例如初始膜層厚度 5000 nm。盡管這種方法很好，但是有些膜系不能采用這種方法獲得； ? 如果在膜系設(shè)計 中使用多于 2 種 膜料 ，其中一個 膜料 與基地折射率相同，即 L與基底相同，使用 L最為初始膜層。 隧道方法（ Tunneling Method）： needle優(yōu)化方法的擴(kuò)展，利用 needle優(yōu)化增加更多的膜層，重復(fù)改變膜層厚度，能夠改善任何膜系設(shè)計。； ? Tunneling優(yōu)化產(chǎn)生一系列設(shè)計后，可以檢查他們并且確定復(fù)雜性、能否制造以及相關(guān)的性能。如果優(yōu)化大膜層的膜系，使用 Gradient方法能減少內(nèi)存的使用。 公差：（ Error Tolerance）： 。該值僅對于 Simplex方法有用，對于其他方法沒有意義。 0厚度層時停止優(yōu)化； Display Index Profile While Optimizing： Yes。 例如，下圖顯示的是 450650nm波段， 4層 AR膜系設(shè)計靈敏度曲線（假設(shè) 5% 的誤差 ) 優(yōu)化靈敏度后，膜系最壞的性能的情況已經(jīng)改善： 也可以減小顏色的靈敏度 .對于更復(fù)雜的設(shè)計，改進(jìn)可能更顯著。如果將光學(xué)厚度設(shè)為優(yōu)先，那么膜系的特征將變化。如果折射率不同，最好使用優(yōu)化改變設(shè)計； ? 許多設(shè)計都是基于膜堆公式例如 (HL)^9 (HL)^9。 注意：這些設(shè)計膜層的厚度或配置可能很難或不可能鍍膜。若膜層的折射率是 Ns 的平方根，則在參考波長處其反射為零。 AR2 TwoLayer (V coating) 說明：一個兩層膜的 AR 膜系比單層的在反射上有更多的控制。 此圖顯示的是兩種設(shè)計的反射。一個兩層膜的濾波片的另一特性是可使某一范圍內(nèi)的反射很低（但不為 0）。它具有在一定程度上消除色差的優(yōu)點(diǎn)。對于指定的基底和波長范圍，我們采用 TFCalc 可以很容易的設(shè)計出 4 層的膜系。 AR6 TwoZero 說明：對于一個在兩個波長處減反射的膜系來說，一個三層膜的設(shè)計便是其基礎(chǔ)。在這種情況下，需要再次優(yōu)化設(shè)計，以校正因 LHL 膜堆帶來的輕微色散造成的影響。同樣的技術(shù)對各種各樣的基底都有效。 一個非均勻膜系可以用一系列折射率不同的均勻膜層模擬出來。通過優(yōu)化，其反射得到了實(shí)質(zhì)性的降低，如圖中下面的曲線。如，在前一頁的 GradedIndex設(shè)計中，在長波段處，反射升高了，這看起來很不順眼。 AR9 Wide Band 說明：通過增加膜層的數(shù) 量，運(yùn)用優(yōu)化，設(shè)計寬帶 AR 膜系還是有可能的。 AR10 DetectorRelative 說明：若一個檢波器的特性已知，則設(shè)計一個 AR 膜系還是有可能的。反射光量由 %降到 %。 如果制造誤差導(dǎo)致峰值功率出現(xiàn)在比期望波長長的位置，則膜系使得峰值移到的波長位置。增加腔的尺寸可以增加曲線過度處的傾斜度，但這樣做，會在一定程度上降低通過區(qū)域的寬度。 此例子是由 “Long Wave Pass 3 ”和 “Shot Wave Pass”創(chuàng)造