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章晶體薄膜衍襯成象分析-wenkub

2023-05-24 14:45:46 本頁面
 

【正文】 側(cè)較深且比較清晰,伸向內(nèi)部較厚一側(cè),則逐漸變淡以至模糊消失 2021/6/16 HNUZLP 24 常見象( 4) — 層錯 層錯明場象,外側(cè)條紋襯度相對于中心對稱,而暗場象是不對稱的 2021/6/16 HNUZLP 25 常見象( 5) — 孿晶界和晶界 孿晶的衍襯象不同于層錯。2021/6/16 1 第十一章 晶體薄膜衍襯成象分析 ? 概述 ?薄膜樣品的制備 ?衍襯成象原理 ?相位襯度簡介 2021/6/16 HNUZLP 2 概述 由與樣品內(nèi)結(jié)晶學(xué)性質(zhì)有關(guān)的電子衍射特征所決定的襯度,稱為衍射襯度 適用于薄晶樣品的圖象分析,主要用于晶體缺陷的分析 2021/6/16 HNUZLP 3 薄膜樣品的制備 2021/6/16 HNUZLP 4 透射電鏡對樣品的要求 試樣最大尺寸,直徑不超過 3mm; 樣品厚度足夠薄,使電子束可以通過,一般厚度為 100- 200nm; 樣品不含水、易揮發(fā)性物質(zhì)及酸堿等 腐蝕性物質(zhì); 樣品具有足夠的強(qiáng)度和穩(wěn)定性; 清潔無污染 2021/6/16 HNUZLP 5 制樣技術(shù) — 薄膜 生物樣品、高分子材料 — 超薄切片 金屬樣品 — 電解雙噴減薄 陶瓷樣品 — 離子減薄 2021/6/16
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