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正文內(nèi)容

測量系統(tǒng)分析基礎(chǔ)篇(已修改)

2025-02-27 12:31 本頁面
 

【正文】 STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 0Training Course NameTraining Course NameTraining Course NameMeasurement System AnalysisPrepared by XW HuApproved by Jerry WuEffective Date __Nov 08’04STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 1課程內(nèi)容 (基礎(chǔ)篇)? MSA的重要性? 測量系統(tǒng)分析的對象? 測量系統(tǒng)誤差來源? 測量基礎(chǔ)術(shù)語 ? 測量系統(tǒng)統(tǒng)計特性? 理想的測量系統(tǒng)? 測量系統(tǒng)應(yīng)有的特性? 測量系統(tǒng)的策劃STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 2課程內(nèi)容 (方法篇)? 測量系統(tǒng)研究準(zhǔn)備? 計量型分析– 穩(wěn)定性分析– 偏倚分析– 線性 分析– 重復(fù)性和再現(xiàn)性 分析? 計數(shù)型分析– 風(fēng)險分析法STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 3MSA 的重要性原料人 機 法 環(huán) 測量測量結(jié)果好不好測量 PROCESS? 如果測量的方式不對,那么好的結(jié)果可能被測為壞的結(jié)果,壞的結(jié)果也可能被測為好的結(jié)果,此時便不能得到真正的產(chǎn)品或過程特性。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 4MSA分 析對象nQS9000 n為分析每種類型的測量和試驗設(shè)備系統(tǒng)的測量結(jié)果存在的差異 ,必須進行適當(dāng)?shù)慕y(tǒng)計研究 .此要求必須適用于在控制計劃中提出的測量系統(tǒng) , 并由 QA部門定義其適用性 . n至少所有影響產(chǎn)品特性的測量系統(tǒng)必須作MSA. STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 5測量誤差y=x+ε? 測量值 =真值 (True Value) + 測量誤差STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 6測量誤差來源STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 7測量誤差的來源n儀器方面 (Equipment):nDiscrimination(分辯力 )nPrecision 精密度 (Repeatability 重復(fù)性 )nAccuracy準(zhǔn)確度 (Bias偏差 )nDamage損壞nDifferences among instruments and fixtures (不同儀器和夾具間的差異 )STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 8測量誤差的來源? 不同檢驗者的差異 (Reproducibility再現(xiàn)性 ) (Difference in use by inspector) 訓(xùn)練– 技能– 疲勞– 無聊– 眼力– 舒適– 檢驗的速度– 指導(dǎo)書的誤解STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 9測量誤差的來源? 不同環(huán)境所造成的差異( Differences due to environment)– 溫度– 濕度– 振動– 照明– 腐蝕– 污染 (油脂 )STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 10測量誤差的來源? 方法方面: (Differences among methods of use)– 測試方法– 測試標(biāo)準(zhǔn)? 材料方面 (Material):– 準(zhǔn)備的樣本本身有差異– 收集的樣本本身有差異STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 11測量系統(tǒng)與過程同步改進STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 12測量基礎(chǔ)術(shù)語? 測量 ( Measurement): 賦值給具體事物以表示它們之間關(guān)于特定特性的關(guān)系。賦值過程即為測量過程,而賦予的值定義為測量值。? 量具 (Gage): 任何用來獲得測量結(jié)果的裝置,經(jīng)常用來特指用在車間的裝置,包括用來測量合格/不合格的裝置。? 測量系統(tǒng) (Measurement System): 用來對 被測特性賦值的 操作、程序、量具、設(shè)備、軟件以及操作人員的集合; 用來獲得測量結(jié)果的整個過程 。? 數(shù)據(jù) (Data): 一組條件下觀察結(jié)果的集合,既可以是連續(xù)的 (一個量值和測量單位 ),又可以是離散的 (屬性數(shù)據(jù)或計數(shù)數(shù)據(jù)如成功/失敗、好/壞、過/不通過等統(tǒng)計數(shù)據(jù))。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 13測量基礎(chǔ)術(shù)語標(biāo)準(zhǔn) (Standard)? 用于比較的可接受的基準(zhǔn);? 用于接受的準(zhǔn)則;? 已知數(shù)值,在表明的不確定度界限內(nèi),作為真值被接受;? 基準(zhǔn)值。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 14測量基礎(chǔ)術(shù)語? 準(zhǔn)確度 (Accuracy):觀測值和可接受基準(zhǔn)值之間一致的接近程度。? 方差分析 (Analysis of Variance ):一種經(jīng)常用于試驗設(shè)計 (DOE)中統(tǒng)計方法 (ANOVA), 用 于分析多組的計量型數(shù)據(jù)以便比較方法和分析變異源? 校準(zhǔn) (Calibration):在規(guī)定的條件下,建立測量裝置和已知基準(zhǔn)值和不確定度的可溯源標(biāo)準(zhǔn)之間的關(guān)系的一組操作。校準(zhǔn) 可能 也包括通過調(diào)整被比較 的 測量裝置的準(zhǔn)確度差異而進行的探測、相關(guān)性、報告或消除的步驟。 確定示值誤差的過程 .? 校準(zhǔn)周期 (Calibration Interval):兩次校準(zhǔn)間的規(guī)定時間總量或一組條件,在此期間,測量裝置的校準(zhǔn)參數(shù) (示值誤差 )被認(rèn)定為有效的。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 15分辨力 (Discrimination)、 可讀性 (Readability)、 分辨率 (Resolution)? 最小的讀數(shù)單位、刻度限度;? 由設(shè)計決定的固有特性;? 測量或儀器輸出的最小刻度;? 1:10經(jīng)驗法則(過程變差 (6б)與公差較小者)。過程變差公差測量基礎(chǔ)術(shù)語STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 16測量基礎(chǔ)術(shù)語有效分辨力 (Effective Resolution)n 定義:考慮整個測量系統(tǒng)變差時的數(shù)據(jù)分級大小(ndc)。n Ndc = (PV/GRR)n 左圖: 只能表明過程是否正在生產(chǎn)合格零件。一個數(shù)據(jù)分級STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 17測量基礎(chǔ)術(shù)語2~4個數(shù)據(jù)分級5個或更多個個數(shù)據(jù)分級有效分辨力(Effective Resolution)216。A圖:只能粗略估計制程。216。不能用于計量控制。216。 B圖: 可用于計量控制圖216。 建議使用 達到 5個以上分級數(shù)STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 18測量基礎(chǔ)術(shù)語有效分辨力區(qū)分( example)Spec Limit:100+/106 σ10 +104個分級數(shù)10個分級數(shù)STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 19測量基礎(chǔ)術(shù)語? 量具 RR(Gage RR):一個測量系統(tǒng)的 重復(fù)性和再現(xiàn)性 的合成變差的估計。 GRR變差等于系統(tǒng)內(nèi)和系統(tǒng)間變差之和。? 重復(fù)性 (EV):設(shè)備的偏倚? 再現(xiàn)性 (AV): 評價者的偏倚? 交互作用 (Interaction):源于兩個或多個重要變量的合成影響或結(jié)果,評價人和零件之間具有不可附加性。評價人差別依賴于被測零件。? 測量系統(tǒng)誤差 (Measurement System Error):用于量具偏倚、重復(fù)性、再現(xiàn)性、穩(wěn)定性和線性產(chǎn)生的合成變差 。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 20測量基礎(chǔ)術(shù)語? 零件變差 (Part Variation):與測量系統(tǒng)分析有關(guān),對一個穩(wěn)定過程零件變差 (PV)代表預(yù)期的不同零件和不同時間的變差。? 過程控制 (Process Control):一種運行狀態(tài),將測量目的和決定準(zhǔn)則應(yīng)用于實時生產(chǎn)以評估過程穩(wěn)定性和測量體或評估自然過程變差的性質(zhì)。測量結(jié)果顯示過程或者是穩(wěn)定和 ”受控 ”,或者是 ”不受控 ”。? 產(chǎn)品控制 (Product Control):一種運行狀態(tài),將測量目的和決定準(zhǔn)則應(yīng)用于評價特性符合某規(guī)范。測量結(jié)果顯示過程或者是 ”在公差內(nèi) ”或者是 ”在公差外 ”。STATSChipPAC Training Rev.: A Prepared by: XW Hu ConfidentialPage 21測量基礎(chǔ)術(shù)語? 回歸分析 (Regression Analysis):兩個或多個變量之間關(guān)系的統(tǒng)計研究。確定兩個或多個變量間數(shù)學(xué)關(guān)系的一種計算。? 靈 敏 度 (Sensitivity):導(dǎo)致一個測量裝置產(chǎn)生可探測 (可辨別 )輸出信號的最小輸入信號。一個儀器應(yīng)至少和其分辨力單位同樣敏感。敏感性是通過固有量具的設(shè)計與質(zhì)量、服務(wù)期內(nèi)維護和操作條件確定的。 (靈敏度應(yīng)與最小分辨率一致 .
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