ch00420xx測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)定(已修改)
2025-07-25 20:29 本頁(yè)面
【正文】 CH/T 1004—2005 代替CH/T 1004—1999 測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)定General rules for technical design of surveying and mapping20051207 發(fā)布 20060101實(shí)施 國(guó)家測(cè)繪局 發(fā) 布 CH/T 10042005目 次前言11 范圍12 規(guī)范性引用文件13 術(shù)語(yǔ)和定義1 測(cè)繪項(xiàng)目1 測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)1 測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)文件1 技術(shù)設(shè)計(jì)更改文件1 設(shè)計(jì)過程1 設(shè)計(jì)輸入2 設(shè)計(jì)輸出2 設(shè)計(jì)評(píng)審2 設(shè)計(jì)驗(yàn)證24 總則35 設(shè)計(jì)過程及內(nèi)容要求3 策劃3 設(shè)計(jì)輸入3 設(shè)計(jì)輸出3 設(shè)計(jì)評(píng)審6 設(shè)計(jì)驗(yàn)證6 設(shè)計(jì)審批6附錄A（資料性附錄） 踏勘報(bào)告的主要內(nèi)容8附錄B（資料性附錄） 幅面、封面格式和字體、字號(hào)9附錄C（資料性附錄） 設(shè)計(jì)策劃要求14附錄D（資料性附錄） 設(shè)計(jì)輸入及其評(píng)審要求15附錄E（資料性附錄） 設(shè)計(jì)附圖的類型、內(nèi)容和要求16附錄F（規(guī)范性附錄） 各專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)書的內(nèi)容和要求17附錄G（資料性附錄） 設(shè)計(jì)評(píng)審的內(nèi)容和要求29參考文獻(xiàn)30 CH/T 1004——2005前 言本標(biāo)準(zhǔn)代替CH/T 10041999《測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)定》。本標(biāo)準(zhǔn)與CH/T 10041999相比主要變化如下:——標(biāo)準(zhǔn)的體系按照GB/T 《標(biāo)準(zhǔn)化工作指導(dǎo) 第1部分: 標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫規(guī)定》的要求編寫。——對(duì)測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)的過程重新進(jìn)行了規(guī)定，即將測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)過程劃分為策劃、設(shè)計(jì)輸入、設(shè)計(jì)輸出、設(shè)計(jì)審評(píng)、驗(yàn)證（必要時(shí)）、審批和改正。因此增加了“策劃”的內(nèi)容；將原標(biāo)準(zhǔn)“技術(shù)設(shè)計(jì)的依據(jù)”的有關(guān)內(nèi)容，改寫了“設(shè)計(jì)輸入”；將原標(biāo)準(zhǔn)“項(xiàng)目設(shè)計(jì)書的內(nèi)容”和“專業(yè)設(shè)計(jì)書的內(nèi)容”并入到“設(shè)計(jì)輸入”中 ，將原標(biāo)準(zhǔn)“審批程序”的有關(guān)內(nèi)容改寫成了“設(shè)計(jì)審批”、“設(shè)計(jì)驗(yàn)證”、“設(shè)計(jì)審批”、“和設(shè)計(jì)更改”?！黾恿恕皽y(cè)繪項(xiàng)目”、“測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)”、“測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)文件”、“測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)更改文件”、“設(shè)計(jì)過程”、“設(shè)計(jì)輸入”、“設(shè)計(jì)輸出”、“設(shè)計(jì)審評(píng)”、“設(shè)計(jì)驗(yàn)證”等一組術(shù)語(yǔ)及其定義的描述?！獙ⅰ皩I(yè)設(shè)計(jì)”改成“專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)”，以突出其設(shè)計(jì)內(nèi)容的特點(diǎn)?！皩I(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)書的內(nèi)容”中，增加了專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)書通常應(yīng)包括的主要部分和各部分內(nèi)容編寫的一般要求。將對(duì)各專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)書內(nèi)容的具體要求放入了規(guī)范性目錄F，其中增加了“基礎(chǔ)地理信息技術(shù)建庫(kù)”專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)的內(nèi)容；“大地測(cè)量”中增加了“選點(diǎn)、埋石”和“全球定位系統(tǒng)（GPS）測(cè)量”；將原來的“地形測(cè)量”內(nèi)容分為“攝影測(cè)量與遙感”與“野外地形數(shù)據(jù)采集及成圖”兩個(gè)測(cè)繪專業(yè)；“攝影測(cè)繪與遙感”中，增加了“遙感”的有關(guān)內(nèi)容，將原來的“地圖制圖”與“地圖制印”合并為“地圖制圖與印刷”，“地圖制圖”中增加了“電子地圖”等內(nèi)容；增加了“界線測(cè)繪”，并將原標(biāo)準(zhǔn)中的“多用途地籍測(cè)繪基礎(chǔ)資料測(cè)繪”改成為“地籍測(cè)繪”和“房產(chǎn)測(cè)繪”，新增了“境界測(cè)繪”內(nèi)容。——增加了資料性附錄“幅面、封面格式、和字體、字號(hào)”（見附錄B）?！黾恿速Y料性附屬“設(shè)計(jì)策劃要求”（見附錄C）。——增加了資料性附屬“輸入設(shè)計(jì)及其評(píng)審要求”（見附錄D）?！黾恿速Y料性附屬“設(shè)計(jì)審評(píng)的內(nèi)容和要求”（見附錄G）。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄為規(guī)范性附錄，附錄A、附錄B、附錄C、附錄D、附錄G為資料性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)有國(guó)家測(cè)繪局提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：國(guó)家測(cè)繪局測(cè)繪標(biāo)準(zhǔn)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：呂玉霞、龐尚益、桑東文。本標(biāo)準(zhǔn)所替代的歷次版本發(fā)布情況為：——CH/T 1004 ——1999 I CH/T 1004—2005測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)定1 范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了測(cè)繪項(xiàng)目設(shè)計(jì)和專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)的基本要求、設(shè)計(jì)過程及其主要內(nèi)容。本標(biāo)準(zhǔn)主要使用于測(cè)繪生產(chǎn)項(xiàng)目和專業(yè)技術(shù)設(shè)計(jì)、其他測(cè)繪項(xiàng)目的設(shè)計(jì)可參考執(zhí)行。2 規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注冊(cè)日期的引用文件、其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB/T 19294—2003 航空攝影技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)范3 術(shù)語(yǔ)和定義下列術(shù)語(yǔ)和定義使用于本標(biāo)準(zhǔn)。測(cè)繪項(xiàng)目 project of surveying and mapping由一組有起止日期的、相互協(xié)調(diào)的測(cè)繪活動(dòng)組成的獨(dú)特過程，該過程要達(dá)到符合包括時(shí)間、成本和資源的約束條件在內(nèi)的規(guī)定要求的目標(biāo)，且其成果（或產(chǎn)品）可提供社會(huì)直接使用和流通。注1 ：測(cè)繪項(xiàng)目通常包括一項(xiàng)或多項(xiàng)不同的測(cè)繪活動(dòng)。注2 ：構(gòu)成測(cè)繪項(xiàng)目的測(cè)繪活動(dòng)根據(jù)其內(nèi)容不同可以分為大地測(cè)量、攝影測(cè)量與遙感、野外地形數(shù)據(jù)采集及成圖、地圖制圖與印刷、工程測(cè)量、界限測(cè)繪、基礎(chǔ)地理信息數(shù)據(jù)建庫(kù)等測(cè)繪專業(yè)活動(dòng)；也可以根據(jù)測(cè)區(qū)的不同劃分不同的專業(yè)活動(dòng)；亦可將兩者綜合考慮進(jìn)行劃分。 測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì) technical design of surveying and mapping將顧客或社會(huì)對(duì)測(cè)繪成果的要求（即明示的、通常隱含的或必須履行的需求或期望）轉(zhuǎn)換為測(cè)繪成果（或產(chǎn)品）、測(cè)繪生產(chǎn)過程或測(cè)繪生產(chǎn)體系規(guī)定的特性或規(guī)范的一組過程。測(cè)繪技術(shù)設(shè)計(jì)文件 technical designing document of
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