水污染控制工程7-文庫吧
2025-10-14 17:59 本頁面
【正文】 曝氣式 塔板式 水膜式 受傳質(zhì)控制，內(nèi)填有拉西環(huán)填料。 水滴式 受傳質(zhì)控制。,?,尾氣處理 活性炭法 2C+O3 ? CO2+CO+ (293～335) kJ/molO3 藥劑法 燃燒法 臭氧廢水處理系統(tǒng)的設(shè)計(jì) P501 ～503 在水處理中的應(yīng)用 氧化無機(jī)物 二價(jià)鐵、錳的氧化 、氰化物的氧化,?,氧化有機(jī)物 氧化許多有機(jī)物，脫色，除味，殺菌，除藻等，氧化能力強(qiáng)。改善一些難降解有機(jī)物的可生化性。 印染廢水：破壞發(fā)色基團(tuán) ； 微污染水源水凈化 污染物 原水含量 臭氧投量 處理水含量 (?g/L) （mg/L） (?g/L) 3,4苯并(a)芘 3.3 1.71 0 茚并芘 3.2 0.64 0 作為消毒劑使用,?,臭氧氧化法的優(yōu)缺點(diǎn) 優(yōu)點(diǎn) 氧化能力強(qiáng) 無二次污染 操作管理方便 不產(chǎn)生污泥 缺點(diǎn) 造價(jià)高 運(yùn)行成本高,?,高級(jí)氧化（Advanced oxidation processes, AOPs） 涉及到羥基自由基的氧化過程稱為高級(jí)氧化流程。 羥基自由基氧化還原電位：2.8V。 特點(diǎn) 幾乎對(duì)所有的有機(jī)物都能氧化 。 分類 多相光催化：TiO2/UV 基于O3的催化氧化：O3/UV, O3/H2O2, O3/H2O2/ UV 例: O3/UV O3 + UV (?310nm) ? O2 + O(1D) O(1D) + H2O ? HO? + HO? (in wet air) O(1D) + H2O ? HO? + HO? ? H2O2 (in water),?,超臨界水氧化技術(shù) 超臨界流體及其特性,?,臨界點(diǎn)（Critical point） 汽液兩相的相界面消失，成為一均相體系，這一點(diǎn)即為臨界點(diǎn)。 當(dāng)物質(zhì)的溫度和壓力分別高于臨界溫度和臨界壓力時(shí)就處于超臨界狀態(tài)。 超臨界流體的特性 擴(kuò)散系數(shù)比一般液體高10～100倍，有利于傳質(zhì)和熱交換； 可壓縮性，溫度或壓力較小的變化可引起超臨界流體的密度發(fā)生較大變化。,?,超臨界水及其特性 溫度的微小變化將引起臨界水的密度大大減少， 。 水在超臨界狀態(tài)時(shí)的介電常數(shù)為1.51，超臨界水表現(xiàn)出更近似于非極性有機(jī)化合物 。 超臨界水氧化原理 有機(jī)化合物＋O2 ? 乙酸? CO2 + H2O 有機(jī)化合物中的雜原子 ? 酸、鹽、氧化物 酸 + NaOH ? 無機(jī)鹽,?,其他氧化法 空氣氧化 應(yīng)用：低濃度含硫廢水處理 2HS +2O2 → S2O32 + H2O 2S2+2O2+H2O → S2O32 + 2OH S2O32 + 2O2 + 2OH→ 2SO42 + H2O 光氧化法 Cl2+H2O ? HOCl + HCl HOCl → HCl+[O] （光源） [HC] + [O] →H2O+ CO2 （光源）,?,處理流程,?,三、還原法 藥劑還原法 應(yīng)用：處理含汞、含鉻和含銅廢水。 含鉻廢水處理 2CrO42 +
環(huán)評(píng)公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1