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2025-04-20 22:42 本頁面


【正文】 Concentration Range (ppt) Acetone 20k 250k Toluene 10k 200k 德崧股份有限公司 12 DOPANT ? 一化學(xué)元素會改變半導(dǎo)體原料的電性 ? Boron(硼)、 Phosphours(磷)Arsenic(砷) 德崧股份有限公司 13 無塵室濃度 Dopant Contaminant Concentration Range (ppt) Boric Acid ND 200k Phosphorous ND 5k Arsine ND 50k 德崧股份有限公司 14 AMC之影響 ? Ttopping of resist by anic bases ? Forms crusty surface on resist ammonia ? Defective epitaxial growth ? Unintentional doping ? Uneven oxide growth ? Changes in surface properties, wettability, hydrophobization ? Corrosion ? Decreased metal pad adhesion ? Silicon Carbide formation 德崧股份有限公司 15 AMC之影響 I Deep ultraviolet (DUV) photoresist Ttopping PHOTO ??Uncontrolled boron or phosphorus doping DF ??Etch rate shifts and corrosion ETCH ??SiC formation following preoxidation clean DF ??Threshold voltage shifts QA ??Nucleation irregularities
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