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新型硅基薄膜太陽能電池器件的設(shè)計與模擬_畢業(yè)論文-文庫吧

2025-07-22 17:55 本頁面


【正文】 IL () 圖 光電池的伏安特性 根據(jù) pn 結(jié)整流方程,在正向偏壓下,通過結(jié)的正向電流為: IF=IS[exp(qV/kT)1] () 其中: V 是光生電 壓, IS 是反向飽和電流。 左圖分別是無光照和有光照時的光電池的伏安特性曲線。 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 3 描述太陽能電池的參數(shù) 不論是一般的化學(xué)電池還是太陽能電池,其輸出特性一般都是用下圖所示的電流 電壓曲線來表示。由光電池的伏安特性曲線,可以得到描述太陽能電池的四個輸出參數(shù) 圖 光電池的伏安特性曲線 ( 1)開路電壓 Voc 在 pn結(jié)開路情況下( R=∞),此時 pn 結(jié)兩端的電壓即為開路電壓 Voc。 這時, I=0,即: IL=IF。將 I=0代入光電池的電流電壓方程,得開路電壓為: ? ?? ?1lnSL ?? IIqkTV oc () ( 2)短路電流 Isc 如將 pn結(jié)短路( V=0),因而 IF=0,這時所得的電流為短路電流 Isc。顯然,短路電流等于光生電流,即: Isc=IL () (3)填充因子 FF 在光電池的伏安特性曲線任意工作點上的輸出功率等于該點所對應(yīng)的矩形面積,其中只有一點是輸出最大功率,成為最佳工作點,該點的電壓和電流分別稱為最佳工作電壓 Vop 和最佳工作電流 Iop。填充因子定義為: scocscocpp IVPIV VIFF m a xoo ?? () 它表示了最大輸出功率點所對應(yīng)的矩形面積中所占的百分比。特性好的太陽能電池就是能獲得較大功率輸出的太陽能電池,也就是 Voc, Isc 和 FF乘積較大的電池。對于有合適效率的電池,該值應(yīng)在 。 ( 4)太陽能電池的能量轉(zhuǎn)化效率 Eff 表示入射的太陽光能量有多少能轉(zhuǎn)換為有效地電能。即: Eff=(太陽能電池的輸出功率 /入射的太陽光功率) *100% = ( Vop*Iop/Pin*S) *100% = Voc*Isc*FF/(Pin*S) 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 4 其中 Pin是入射光的能量密度, S為太陽能電池的面積,當(dāng) S是整個太陽能電池面積時, Eff成為實際轉(zhuǎn)換效率,當(dāng) S是指電池中的有效發(fā)電面積時, Eff叫本征轉(zhuǎn)換效率。 影響太陽電池轉(zhuǎn)換效率的因素 一、禁帶亮度 Voc隨 Eg的增大而增大,但另一方面, Jsc隨 Eg的增大而減小。結(jié)果是可期望在某一個確定的Eg隨處出現(xiàn)太陽電池效率的峰值。 二、溫度 隨溫度的增加,效率 Eff下降。 Isc對溫度 T很敏感,溫度還對 Voc起主要作用。 對于 Si,溫度每增加 1℃, Voc 下降室溫值的 %, Eff 也因而降低約同樣的百 分?jǐn)?shù)。例如,一個硅電池在 20℃時的效率為 20%,當(dāng)溫度升到 120℃時,效率僅為 12%。又如 GaAs電池,溫度每升高1℃, Voc降低 或降低 %。 三、復(fù)合壽命 希望載流子的復(fù)合壽命越長越好,這主要是因為這樣做 Isc大。在間接帶隙半導(dǎo)體材料如 Si中,離結(jié) 100um 處也產(chǎn)生相當(dāng)多的載流子,所以希望它們的壽命能大于 1us。在直接帶隙材料,如 GaAs或 Gu2S中,只要 10ns的復(fù)合壽命就已足夠長了。長壽命也會減小暗電流并增大 Voc。 達(dá)到長壽命的關(guān)鍵是在材料制備和電池的生產(chǎn)過程中,要避免形成復(fù)合中心。 在加工過程中,適當(dāng)而且經(jīng)常進行工藝處理,可以使復(fù)合中心移走,因而延長壽命。 四、光強 將太陽光聚焦于太陽電池,可使一個小小的太陽電池產(chǎn)生出大量的電能。設(shè)想光強被濃縮了 X倍,單位電池面積的輸入功率和 Jsc 都將增加 X倍,同時 VOC也隨著增加 (kT/q)lnX 倍。因而輸出功率的增加將大大超過 X倍,而且聚光的結(jié)果也使轉(zhuǎn)換效率提高了。 五、摻雜濃度及剖面分布 對 Voc 有明顯的影響的另一因素是摻雜濃度。雖然 Nd和 Na 出現(xiàn)在 Voc定義的對數(shù)項中,它們的數(shù)量級也是很容易改變的。摻雜濃度愈高, Voc 愈高。一種稱為重?fù)诫s效應(yīng) 的現(xiàn)象近年來已引起較多的關(guān)注,在高摻雜濃度下,由于能帶結(jié)構(gòu)變形及電子統(tǒng)計規(guī)律的變化,所有方程中的 Nd 和 Na都應(yīng)以( Nd) eff和( Na) eff代替。既然( Nd) eff和( Na) eff顯現(xiàn)出峰值,那么用很高的 Nd和Na不會再有好處,特別是在高摻雜濃度下壽命還會減小。 目前,在 Si太陽電池中,摻雜濃度大約為 1016cm3,在直接帶隙材料制做的太陽電池中約為 1017 cm3,為了減小串聯(lián)電阻,前擴散區(qū)的摻雜濃度經(jīng)常高于 1019 cm3,因此重?fù)诫s效應(yīng)在擴散區(qū)是較為重要的。 當(dāng) Nd和 Na或( Nd) eff和( Na) eff不均勻且朝著結(jié)的方向降低時,就會建立起一個電場,其方向能有助于光生載流子的收集,因而也改善了 ISC。這種不均勻摻雜的剖面分布,在電池基區(qū)中通常是做不到的;而在擴散區(qū)中是很自然的。 圖 高摻雜效應(yīng) 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 5 六、表面復(fù)合速率 低的表面復(fù)合速率有助于提高 Isc,并由于 Is的減小而使 Voc 改善。前表面的復(fù)合速率測量起來很困難,經(jīng)常被假設(shè)為無窮大。一種稱為背表面場( BSF)電池設(shè)計為,在沉積金屬接觸之前,電池的背面先擴散一層 P+附加層。圖 表示了這種結(jié)構(gòu),在 P/P+界面 圖 背 表面場電池 存在一個電子勢壘,它容易做到歐姆接觸,在這里電子也被復(fù)合,在 P/P+界面處的復(fù)合速率可表示為 ??????npnnaan LWLDNNS c o th () 其中 N+a, Dn+和 Ln+分別是 P+區(qū)中的摻雜濃度、擴散系數(shù)和擴散長度。如果 Wp+=0,則 Sn=∞,正如前面提到的。如果 Wp+與 Ln+能比擬,且 N+aNa,則 Sn可以估計零, Sn對 JSC、 Voc和 Eff的影響見圖 。當(dāng) Sn很小時, Jsc和 Eff都呈現(xiàn)出一個峰。 圖 背表面復(fù)合速率對電場參數(shù)的影響 七、串聯(lián)電阻 在任何一個實際的太陽電池中,都存在著串聯(lián)電阻,其來源可以是引線、金屬接觸柵或電池體電阻。不過通常情況下,串聯(lián)電阻主要來自薄擴散層。 PN結(jié)收集的電流必須經(jīng)過表面薄層再流入最靠近的金屬導(dǎo)線,這就是一條存在電阻的路線,顯然通過金屬線的密布可以使串聯(lián)電阻減小。一定的串聯(lián)電阻 RS的影響是改變 I- V曲線的位置。 如 左 圖 ,在P/P+結(jié)處的電場妨礙電子朝背表面流動 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 6 八、金屬柵和光反射 在前表面上的金屬柵線不能透過陽光。為了使 Isc最大,金屬柵占有的面積應(yīng)最小。為了使 RS小,一般是使金屬柵做成又密又細(xì)的形 狀。因為有太陽光反射的存在,不是全部光線都能進入 Si中。裸 Si表面的反射率約為 40%。使用減反射膜可降低反射率。對于垂直地投射到電池上的單波長的光,用一種厚為 1/4 波長、折射率等于 n ( n 為 Si 的折射率)的涂層能使反射率降為零。對太陽光,采用多層涂層能得到更好的效果。 2 模擬軟件 AMPS1D 的介紹 AMPS1D ( A OneDimensional Device Simulation Program for the Analysis of Microelectronic and Photonic Structrues)軟件 ,即一維光電子和微電子器件結(jié)構(gòu)分析模擬程序 ,是由美國賓西法尼亞州立大學(xué)電子材料工藝研究實驗室提供的一維固體器件模擬軟件。 AMPS 采用牛頓-拉普拉斯方法在一定邊界條件下數(shù)值求解聯(lián)立的泊松方程、電子和空穴的連續(xù)性方程,可以用來計算光伏電池、光電探測器等器件的結(jié)構(gòu)與輸運物理特性。 AMPS的主要目的是研究材料性質(zhì)(如帶隙、親和勢、摻雜濃度、遷移率、體內(nèi)和表面能帶狀態(tài)缺陷分布)以及材料的設(shè)計及結(jié)構(gòu)如何影響器件的物理特性,以及器件對光、偏壓、以及溫度的 響應(yīng)。 AMPS允許使用者通過發(fā)覺和比較能帶圖,電流分量,載流子的復(fù)合、產(chǎn)生,電場分布圖,學(xué)會器件為什么對給定的條件會有特定的響應(yīng)。 如圖 ,為 AMPS的界面: 圖 ( a) AMPS主界面 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 7 圖 ( b) 器件各層的參數(shù)設(shè)置界面 圖 ( c) 器件各層的光譜特性 AMPS1D 可以用來模擬一系列的器件結(jié)構(gòu),如: ? 同質(zhì)、異質(zhì) pn 結(jié)、 pin 結(jié)的太陽能電池以及探測器 ? 同質(zhì)、異質(zhì) pn 結(jié)、 pin 結(jié)、 nin 結(jié)及 pip 結(jié)的微電子結(jié)構(gòu) ? 多結(jié)太陽能電池結(jié)構(gòu) ? 多結(jié)微電子結(jié)構(gòu) ? 多級結(jié)構(gòu)的探測器和太陽能 電池結(jié)構(gòu) ? 多級結(jié)構(gòu)的微電子結(jié)構(gòu) ? 新型微電子、光伏效應(yīng)、光電感應(yīng)器件結(jié)構(gòu) ? 具有可選襯底層的肖特基勢壘器件 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 8 從 AMPS提供的解決方案來看,輸出比如黑暗環(huán)境或光照條件下的 IV特性都可以得到,這些可以被當(dāng)做溫度的函數(shù)來計算。對于太陽能電池和二極管結(jié)構(gòu),作為偏壓、光照以及溫度函數(shù)的收集效率也能夠得到。另外,如作為位置函數(shù)的電場分布、自由和束縛載流子濃度、復(fù)合特性、單獨的載流子流密度也可以能從 AMPS 中得到。如先前所給出的, AMPS 的多功能性可以用來分析大量不同種類器件的輸運特性,比如單晶硅、多晶硅或非晶硅層的器件 。 AMPS是設(shè)計用來分析設(shè)計優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),比如微電子結(jié)構(gòu)、光電子結(jié)構(gòu)和光電器件。 3 單晶硅太陽能電池的設(shè)計與模擬 單晶硅太陽能電池的研究概況及單晶硅性質(zhì) 硅系列太陽能電池中,單晶硅大陽能電池轉(zhuǎn)換效率最高,技術(shù)也最為成熟。高性能單晶硅電池是建立在高質(zhì)量單晶硅材料和相關(guān)的成熱的加工處理工藝基礎(chǔ)上的?,F(xiàn)在單晶硅的電地工藝己近成熟,在電池制作中,一般都采用表面織構(gòu)化、發(fā)射區(qū)鈍化、分區(qū)摻雜等技術(shù),開發(fā)的電池主要有平面單晶硅電池和刻槽埋柵電極單晶硅電池。提高轉(zhuǎn)化效率主要是靠單晶硅表面微結(jié)構(gòu)處理和分區(qū)摻雜 工藝。在此方面,德國夫朗霍費費萊堡太陽能系統(tǒng)研究所保持著世界領(lǐng)先水平。該研究所采用光刻照相技術(shù)將電池表面織構(gòu)化,制成倒金字塔結(jié)構(gòu)。并在表面把 13nm 厚的氧化物鈍化層與兩層減反射涂層相結(jié)合.通過改進了的電鍍過程增加?xùn)艠O的寬度和高度的比率:通過以上制得的電池轉(zhuǎn)化效率超過 23%,是大值可達(dá) 23. 3%。 Kyocera 公司制備的大面積( 225cm2)單電晶太陽能電池轉(zhuǎn)換效率為 19. 44%,國內(nèi)北京太陽能研究所也積極進行高效晶體硅太陽能電池的研究和開發(fā),研制的平面高效單晶硅電池( 2cm X 2cm)轉(zhuǎn)換效率達(dá)到 %,刻槽埋柵電極晶體硅電池( 5cm X 5cm)轉(zhuǎn)換效率達(dá) %。 單晶硅太陽能電池轉(zhuǎn)換效率無疑是最高的,在大規(guī)模應(yīng)用和工業(yè)生產(chǎn)中仍占據(jù)主導(dǎo)地位,但由于受單晶硅材料價格及相應(yīng)的繁瑣的電池工藝影響,致使單晶硅成本價格居高不下,要想大幅度降低其成本是非常困難的。為了節(jié)省高質(zhì)量材料,尋找單晶硅電池的替代產(chǎn)品,現(xiàn)在發(fā)展了薄膜太陽能電池,其中多晶硅薄膜太陽能電池和非晶硅薄膜太陽能電池就是典型代表 單晶硅特性:熔融的單質(zhì)硅在凝固時硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核,如果這些晶核長成晶面取向相同的晶粒,則這些晶粒平行結(jié) 合起來便結(jié)晶成單晶硅。單晶硅具有準(zhǔn)金屬的物理性質(zhì),有較弱的導(dǎo)電性,其電導(dǎo)率隨溫度的升高而增加,有顯著的半導(dǎo)電性。超純的單晶硅是本征半導(dǎo)體。在超純單晶硅中摻入微量的Ⅲ A 族元素,如硼可提高其導(dǎo)電的程度,而形成 p 型硅半導(dǎo)體;如摻入微量的Ⅴ A 族元素,如磷或砷也可提高導(dǎo)電程度,形成 n 型硅半導(dǎo)體。單晶硅的制法通常是先制得多晶硅或無定形硅,然后用直拉法或懸浮區(qū)熔法從熔體中生長出棒狀單晶硅。下圖為單晶硅晶胞結(jié)構(gòu): 圖 單晶硅的晶胞結(jié)構(gòu) 湖北大學(xué)本科畢業(yè)論文(設(shè)計) 9 設(shè)計與模擬結(jié)果 單晶硅的性能參數(shù) 表 單 晶硅的性能參數(shù) 介電常數(shù) 本征載流子濃度( cm3) *1010 電子遷移率( cm2/V/s) 1450 空穴遷移率( cm2/V/s) 500 禁帶寬度( eV)( 300k) 載流子壽命( us) ≈ 130 導(dǎo)帶有效狀態(tài)密度 Nc( cm3) *1019 導(dǎo)帶有效狀態(tài)密度 Nv( cm3) *1019 電子親和能( eV) 功函數(shù)( eV) 單結(jié)型改變厚度 考慮頂層為 N區(qū)的情況(如 圖 ),固定 N區(qū)厚度, P 區(qū)厚度從小到大,依次增加,模擬中,所用參數(shù)如下: 表 頂層為 n型單結(jié)單晶硅太陽能厚度改變時電池參數(shù)設(shè)置 前端接觸電勢 PHIBO( eV) 前端電子復(fù)合速率 SNO(cm/s) +07 前端空穴復(fù)
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