【摘要】集成電路版圖設(shè)計(jì)與驗(yàn)證第三章集成電路制造工藝?雙極集成電路最主要的應(yīng)用領(lǐng)域是模擬和超高速集成電路。?每個(gè)晶體管之間必須在電學(xué)上相互隔離開,以防止器件之間的相互影響。?下圖為采用場(chǎng)氧化層隔離技術(shù)制造的NPN晶體管的截面圖,制作這種結(jié)構(gòu)晶體管的簡(jiǎn)要工藝流程如下所示:?(1)原始材料選?。褐谱鱊
2025-01-12 18:43
【摘要】集成電路制造技術(shù)第八章光刻與刻蝕工藝西安電子科技大學(xué)微電子學(xué)院戴顯英2023年9月主要內(nèi)容n光刻的重要性n光刻工藝流程n光源n光刻膠n分辨率n濕法刻蝕n干法刻蝕第八章光刻與刻蝕工藝nIC制造中最重要的工藝:①?zèng)Q定著芯片的最小特征尺寸②占芯片制造時(shí)間的40-50%③占制造成本的30%n光刻
2025-01-12 18:34
【摘要】集成電路工藝概述課程介紹普通高校專業(yè)學(xué)科目錄(1998版)?01哲學(xué)?02經(jīng)濟(jì)學(xué)?03法學(xué)?04教育學(xué)?05文學(xué)?06歷史學(xué)?07理學(xué)?08工學(xué)?09農(nóng)學(xué)?10醫(yī)學(xué)?11管理學(xué)?0806電氣信息類?080601電氣工程及其自動(dòng)化?080
2025-01-12 18:36
【摘要】集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)1集成電路工藝原理集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)2大綱第一章前言第二章晶體生長(zhǎng)第三章實(shí)驗(yàn)室凈化及硅片清洗第四章光刻第五章熱氧化第六章
2025-01-14 13:40
【摘要】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類v集成電路的工藝微電子技術(shù)課程ppt微電子技術(shù)課程ppt集成電路定義v集成電路(integrated?circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個(gè)電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線互連
2025-01-14 12:24
【摘要】1第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的VLSI工藝BiCMOS工藝2第四章集成電路器件工藝表3圖幾種IC工藝速度功耗區(qū)位圖4雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的V
2025-01-12 18:35
【摘要】第十屆中美工程技術(shù)研討會(huì)合肥·5月27日中國(guó)IC產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀與發(fā)展2l全球集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)l我國(guó)IC產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀與發(fā)展l機(jī)遇與挑戰(zhàn)l結(jié)論主要內(nèi)容大型機(jī)時(shí)代上世紀(jì)60年代個(gè)人電腦時(shí)代上世紀(jì)80年代移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)時(shí)代本世紀(jì)最初10年桌面互聯(lián)網(wǎng)時(shí)代上世紀(jì)90年代小型機(jī)時(shí)代上世紀(jì)70年代-信息
2025-01-20 09:16
【摘要】第八章專用集成電路和可編程集成電路???????、標(biāo)準(zhǔn)單元與可編程集成電路的比較?專用集成電路(ASIC)被認(rèn)為是用戶專用電路(customspecificIC),即它是根據(jù)用戶的特定要求.能以低研制成本、短交貨周期供貨的集成電路。它最主要的優(yōu)點(diǎn)在于:?(1)
2025-01-26 09:42
【摘要】半導(dǎo)體半導(dǎo)體集成電路集成電路2.雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)2023/2/1pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝雙極集成電路的基本工藝2023/2/1P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-BLTepiAA’
2025-03-07 04:35
【摘要】123456789101112131415161718192021222324252627
2024-08-20 16:51
【摘要】省集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展調(diào)研報(bào)告---------------------------------------------------------省集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展調(diào)研報(bào)告集成電路(ic)產(chǎn)業(yè)是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),是培育發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動(dòng)信息化和工業(yè)化深度融合的核心與基礎(chǔ),是調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、保障國(guó)家信息安全的重要支撐?,F(xiàn)代經(jīng)濟(jì)
2024-10-17 11:31
【摘要】2023年中國(guó)集成電路行業(yè)簡(jiǎn)析一、2023年我國(guó)集成電路行業(yè)簡(jiǎn)況1、2023年中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)狀況??受到全球市場(chǎng)需求乏力影響,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增速與2023年相比大幅下滑,2023年產(chǎn)業(yè)銷售額同比增長(zhǎng)%,銷售額。產(chǎn)量為,同比增長(zhǎng)%。???2023年IC設(shè)計(jì)業(yè)銷售額,同比大幅增長(zhǎng)%;芯片制造業(yè)銷售收
2025-01-20 09:24
【摘要】1集成電路工藝信息學(xué)院電子科學(xué)與技術(shù)2?參考書:?.Chang,.Sze,“ULSITechnology”?王陽(yáng)元等,“集成電路工藝原理”?M.Quirk,J.Serda,“半導(dǎo)體制造技術(shù)”?成績(jī)計(jì)算:?平時(shí)成績(jī)(出勤、作業(yè)、小測(cè)驗(yàn))20%+期終考試
2025-01-14 13:07
【摘要】集成電路制造技術(shù)微電子工程系何玉定?早在1830年,科學(xué)家已于實(shí)驗(yàn)室展開對(duì)半導(dǎo)體的研究。?1874年,電報(bào)機(jī)、電話和無線電相繼發(fā)明等早期電子儀器亦造就了一項(xiàng)新興的工業(yè)──電子業(yè)的誕生。1引言基本器件的兩個(gè)發(fā)展階段?分立元件階段(1905~1959)–真空電子管、半導(dǎo)體晶體管
2025-01-14 12:25
【摘要】2023/1/281第3章IC制造工藝外延生長(zhǎng)掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝?關(guān)心每一步工藝對(duì)器件性能的影響,讀懂PDK,挖掘工藝潛力。2023/1/282外延生長(zhǎng)(Epitaxy)外延生長(zhǎng)的目的n半導(dǎo)體工藝流程中的基