納米粉體ppt課件-展示頁
2025-05-12 03:30本頁面
【正文】 深度為 5～ 10nm； 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 三、電子顯微鏡和電子探針 激發(fā)出的各種信息，因信息不同，反映的激發(fā)范圍也不同： 電子探針 ?背散射電子 發(fā)射區(qū)深度為 100～ 1000nm； ?X射線 發(fā)射區(qū)深度為500～ 5000nm。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 三、電子顯微鏡和電子探針 利用透射電鏡（ TEM）和掃描電鏡（ SEM）對納米粉體粒度的觀測，上節(jié)已闡述，這里重點(diǎn)介紹加裝在掃描電子顯微鏡上的電子探針、 X射線波譜分析和 X射線能譜分析在納米測量學(xué)方面的應(yīng)用。 因此 ， 被測試到的信息是樣品中心直徑400μm的區(qū)域中的綜合信息 。 測試原理 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 二、低能電子衍射（ LEED） 電子束斑的直徑一般為 ～ 1mm， 發(fā)散度為1176。 一、概述 特點(diǎn) 因此，利用電子光學(xué)表面分析技術(shù)必須在超高真空下才能進(jìn)行，保持試樣表面 “ 清潔 ” 更是十分重要。 一、概述 特點(diǎn) 原因： 只有當(dāng)真空度達(dá)到 107Pa以下，每秒種有 1010個氣體分子同 1cm2的固體表面碰撞，覆蓋一層新的原子層需要 8個小時，所述的測試才有可能進(jìn)行。此時每秒將有 3 1014個氣體分子同 1cm2表面碰撞，每 cm2固體表面上約有 1015個原子，即每 3秒鐘就會有一層新的原子層覆蓋于表面，那就不可能檢測與各種探針反應(yīng)的真實(shí)表面。 一、概述 應(yīng)用 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 上述表面分析方法的共同特點(diǎn)就是要求被測樣品表面異常清潔，測試必須處于超高真空中。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 以電子光學(xué)方法將具有一定能量的粒子匯聚成細(xì)小的入射束（稱為 “ 探針 ” ），通過與樣品物質(zhì)的相互作用，激發(fā)表征材料顯微組織結(jié)構(gòu)特征的各種信息，檢測并處理這些信息從而給出形貌、成份和結(jié)構(gòu)的豐富資料。 一、概述 基本原理 納 米 科 技 第二節(jié)
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1