制造廠廢氣處理工程設(shè)計(jì)方案-文庫吧資料
2025-05-27 16:09本頁面
【正文】 流、吸附、凝聚、催化傳質(zhì)后被捕集，最后都流至塔底部再排至沉 灰 池。如果水霧顆粒和煙塵顆粒大小接近，煙塵顆粒隨氣流運(yùn)動(dòng)時(shí)與水霧顆粒碰撞、接觸而粘結(jié)在一起。 高壓細(xì)水霧系統(tǒng) 高壓細(xì)水霧系統(tǒng)主要包括 電機(jī)、高壓泵、壓力調(diào)節(jié)閥、管道、噴頭等組成，煙塵通過水或化學(xué)劑被粘結(jié)而聚結(jié)增大，但那些最細(xì)小的煙塵只有當(dāng)水滴很?。ㄈ缢F）或加入化學(xué)劑（如表面活性劑）以減小水的表面張力時(shí)才會(huì)聚結(jié)成團(tuán)。 5 圖 1 廢氣處理工藝流程圖 除塵原理 噴淋沉降室的除塵機(jī)理 噴淋沉降室是構(gòu)造簡(jiǎn)單的一種洗滌器， 在 噴淋沉降室 內(nèi)水通過噴嘴噴成霧狀，當(dāng)含塵煙氣通過霧狀空間時(shí)，因塵粒與液滴之間的碰撞、攔截和凝聚作用，塵粒隨液滴降落下來。 廢氣 經(jīng)噴淋沉降室初步 除塵 和降溫 后、配備獨(dú)立多級(jí)脫硫 塔 對(duì)其 進(jìn)一步除塵和脫硫 治理，經(jīng)處理后污染物指標(biāo)達(dá)到 《工業(yè)爐窯大氣污染 物排放標(biāo)準(zhǔn)》（ GB90781996）二級(jí)標(biāo)準(zhǔn) 及地方環(huán)保要求。 廢氣處理工藝的確定 根據(jù)該項(xiàng)目廢氣的溫度，廢氣的成分以及污染物濃度等的特點(diǎn)， 治理方法應(yīng)選用效果好、質(zhì)量可靠、操作方便和運(yùn)行費(fèi)用低的工藝為宜 。 所以本方案選用“雙堿法”工藝。雙堿法煙氣脫硫工藝采用堿金屬鹽類等的水溶液吸收 SO2，然后在反應(yīng)器中吸收 SO2后的溶夜再生、再生后的吸收液再循環(huán)使用。 半干法是采用液態(tài)吸收劑，利用煙氣的熱量，在脫硫反應(yīng)的同時(shí)蒸發(fā)吸收劑的水分，使脫硫產(chǎn)物成為固態(tài)，如旋轉(zhuǎn)噴霧干燥法。 煙氣脫硫工藝選擇 表 4 幾種脫硫工藝性能比較 工藝流程 濕式石灰石 石膏法 噴霧干燥法 LIAC 法 CDSI 法 效率 /% 90 8085 7075 6070 投資比例 /% 1319 812 35 24 費(fèi)用 (元 /tSO2) 9001250 7501050 600900 600800 4 占地面積 大 中 小 小 灰渣狀態(tài) 濕 干 干 干 目前工業(yè)廢氣 脫硫工藝 大體概括 為干法、半干法、濕法。 除塵工藝選擇 廢氣除塵的方式主要有機(jī)械式除塵（包括重力沉降室、慣性除塵器、旋風(fēng)除塵器），過濾式除塵（包括袋式除塵器、顆粒層除塵器）、電除塵器、濕式除塵器（包括噴淋塔、 泡沫塔、填料塔、湍球塔、文丘里等）。 表 2 熔 爐產(chǎn)生廢氣情況 污染物 濃度 mg/m3 標(biāo)準(zhǔn)濃度限值 mg/m3 廢氣量 m3/h 煙塵 2300 150 4000 3 二氧化硫 3060 850 3 廢氣處理工藝選擇 廢氣處理工藝選擇 爐廢氣與鍋爐煙氣類似，污染物均為煙塵和二氧化硫，處理工藝按鍋爐煙氣的處理工藝進(jìn)行選擇。爐廢氣與鍋爐煙氣類似，運(yùn)行工程中產(chǎn)生的廢氣主要污染物為煙塵、二氧化硫，處理工藝按鍋爐煙氣的處理工藝進(jìn)行選擇。煙氣排放量為 4000m3/h。含量為：固定碳 82～87%，含 S %，灰份 8～ 12%。 2 排放標(biāo)準(zhǔn) 該項(xiàng)目廢氣經(jīng)處理后，應(yīng)達(dá)到《工業(yè)爐窯大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（ GB90781996）二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，煙囪最低允許高度為 15 米。 設(shè)計(jì)范圍 1） 廢氣工程設(shè)計(jì)方案的編制、設(shè)備材料采購及工程建設(shè)安裝、負(fù)責(zé)工程 調(diào)試直至廢氣達(dá)到相關(guān)的排放標(biāo)準(zhǔn)并通過環(huán)保驗(yàn)收。 廢 氣來源 ................................................................... 錯(cuò)誤 !未定義書簽。 排放標(biāo)準(zhǔn) ................................................................... 錯(cuò)誤 !未定義書簽。 設(shè)計(jì)依據(jù) .........................................
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